包括不同类型的存储器装置的图形处理系统及其操作方法

    公开(公告)号:CN112435157B

    公开(公告)日:2024-02-06

    申请号:CN202010736100.6

    申请日:2020-07-28

    Inventor: 郑溟隨 权美玲

    Abstract: 本申请涉及一种操作图形处理系统的方法,该图形处理系统包括第一存储器装置和第二存储器装置,该方法包括:将图形数据的起始顶点索引、终止顶点索引和边缘值存储在第一存储器装置中;将图形数据的起始顶点值存储在第二存储器装置中;通过使用起始顶点索引,将起始顶点值重新布置为中间顶点值;通过使用终止顶点索引和边缘值,对中间顶点值执行图形计算;将作为图形计算的结果的终止顶点值存储在第二存储器装置中;通过比较终止顶点值和起始顶点值来确定图形处理操作是否完成;当确定图形处理操作未完成时,将终止顶点值设置为起始顶点值;并且迭代重新布置操作、执行操作、第三存储操作、确定操作和设置操作,直到图形处理操作完成。

    双边沿触发的触发器
    22.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117498834A

    公开(公告)日:2024-02-02

    申请号:CN202310538568.8

    申请日:2023-05-12

    Abstract: 一种触发器包括输入逻辑电路、第一锁存器、第二锁存器和输出复用器;其中,输入逻辑电路基于输入数据位和时钟信号来输出时钟反信号,其中,第一锁存器和第二锁存器基于输入数据位、时钟信号和时钟反信号来操作,其中,输出复用器基于来自第一节点和第二节点的节点的输出来操作并输出输出数据位,以及其中,输入逻辑电路在输出数据位的值没有变化的时间段内具有统一的值。

    用于光刻的嵌段共聚物和方法以及制造半导体器件的方法

    公开(公告)号:CN117050247A

    公开(公告)日:2023-11-14

    申请号:CN202211431199.4

    申请日:2022-11-14

    Abstract: 发明构思涉及能够自组装和自愈合的用于光刻的嵌段聚合物、用于光刻的方法和制造半导体器件的方法,更具体地,涉及包括第一嵌段和第二嵌段的嵌段共聚物,第一嵌段包括聚合的硅氧烷的重复单元,第二嵌段包括聚合的偶氮苯氧基烷醇丙烯酸酯的重复单元。所述偶氮苯氧基烷醇可以包括1个至10个碳原子的直链或支链的亚烷基,聚合的硅氧烷的重复单元的数量为60至80,并且聚合的偶氮苯氧基烷醇丙烯酸酯的重复单元的数量为15至25。所述嵌段聚合物具有柱状相。

    含有三唑衍生物作为活性成分的用于预防或治疗肝纤维化的组合物

    公开(公告)号:CN116916925A

    公开(公告)日:2023-10-20

    申请号:CN202180056633.2

    申请日:2021-08-04

    Inventor: 全京姬 白正焕

    Abstract: 本发明涉及一种用于预防或治疗选自下组的肝脏疾病的药物组合物或功能性食品组合物:脂肪性肝炎、肝纤维化和肝硬化。本发明提出的三唑衍生物化合物可减少肝组织中胶原蛋白的积累,并显著抑制炎症因子的表达。因此,不像传统药物只有单纯的降脂作用,三唑衍生化合物有效地阻止了一系列严重肝病的进展,从肝组织过度纤维化到组织肝硬化,导致肝细胞数量减少和肝功能衰竭,从而有效地作为一种用于从根本上治疗肝纤维化和肝硬化的组合物。

    显示装置
    29.
    发明公开
    显示装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN116597735A

    公开(公告)日:2023-08-15

    申请号:CN202310082364.8

    申请日:2023-02-08

    Abstract: 本发明的显示装置包括:显示面板;第一图案层,配置在所述显示面板的一面上;以及第二图案层,与所述一面相向且在所述一面与所述第二图案层之间夹着所述第一图案层。所述第一图案层可以包括分别具有包括第一开口部的闭线形状的多个第一图案,所述第二图案层可以包括分别具有包括第二开口部的闭线形状的多个第二图案,所述第一图案层和所述第二图案层分别可以在所述一面上相对于与伸长方向垂直的方向的变形率小于相对于所述伸长方向的变形率,多个所述第一开口部可以在平面上与所述多个第二图案的一部分重叠。

    距离测量装置及方法
    30.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109387854B

    公开(公告)日:2023-06-09

    申请号:CN201810901945.9

    申请日:2018-08-09

    Abstract: 本发明涉及距离测量装置及其方法,上述装置包括:比特位生成部,根据用于对到目标为止的距离进行测量的感测数据生成用于进行第一次跟踪的粗比特位,并生成用于进行对应于粗比特位来对到目标为止的精确距离进行测量的第二次跟踪的细比特位;粗比特位处理部,接收粗比特位来对多个直方图柄中的与所接收的粗比特位对应的一个直方图柄来对所接收的粗比特位进行寻址,并将多个直方图柄中的与大于预设阈值的一个直方图柄对应的粗比特位作为参考粗比特位来输出;以及细比特位处理部,用于输出与参考粗比特位对应的多个细比特位。

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