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公开(公告)号：CN113105570B
公开(公告)日：2022-05-03
申请号：CN202110398496.2
申请日：2021-04-12
IPC: C08F2/48 , G03F7/004 , C07C201/12 , C07C205/35 , C07C253/30 , C07C255/54 , C07C213/02 , C07C217/80 , C07C41/30 , C07C43/215 , C07C319/20 , C07C323/18
Abstract: 本发明公开了一种液体双光子引发剂及其制备方法与应用，包括步骤一、对苯二酚在缚酸剂及相转移催化剂作用下分散在溶剂中，在惰性气体保护下反应；步骤二、将步骤一的产物加入多聚甲醛、氢溴酸溶于溶剂中反应；步骤三、将步骤二的产物加入三苯基膦溶于溶剂中，在惰性气体保护下反应；步骤四、将将步骤三的产物引入取代基反应。本发明制备的液体双光子引发剂，表现出良好的稳定性和溶解性，双光子聚合反应加工的扫描速率快，微结构精度较好，制备方法简便、提纯简单、所需时间短，得到的产物纯度高。
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公开(公告)号：CN114415471A
公开(公告)日：2022-04-29
申请号：CN202210188866.4
申请日：2022-03-01
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本发明公开了一种基于硅氧烷的双光子光刻胶及其制备方法、使用方法和应用，按质量百分数计，包括以下组分：30‑99.9wt%的硅氧烷化合物，0‑69.9wt%活性交联剂，0.1‑5wt%的双光子引发剂；制备方法包括以下步骤：在黄光室中按比例将硅氧烷化合物和活性交联剂混合均匀，继续按比例加入双光子引发剂，置于滚轴混匀器上混合均匀，即得到基于硅氧烷的双光子光刻胶。本发明通过在双光子光刻胶中引入硅氧烷材料，形成了有机无机杂化体系，提高了光刻胶的耐候性、耐高低温、耐腐蚀、电绝缘等特性，不含有任何溶剂，可以用于双光子无掩模3D打印，制备任意形状的三维微纳器件，经高温退火除去有机物得到二氧化硅的图案或器件。
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公开(公告)号：CN114355621A
公开(公告)日：2022-04-15
申请号：CN202210262638.7
申请日：2022-03-17
Abstract: 本发明公开了一种基于面阵探测器和艾里斑细分的多焦点非标记差分超分辨成像方法与装置，激光器发出的光被偏振分光镜分为偏振方向互相垂直的两束光，两束光分别被SLM的左右两个半屏加载的相位掩膜调制，两束光分别为实心光束和空心光束；之后实心光束和空心光进行合束，合束后的光束再被分为第一子光束和第二子光束，分别包含实心光束和空心光束，以一定角度入射到扫描振镜模块，并被物镜聚焦，形成第一焦斑组合和第二焦斑组合，从而在焦面上形成四个焦斑。基于时域转化为空域的方法，使用面阵探测器代替单点探测器，在相对较低成本下，可以实现对艾里斑4进行40个以上探测器的细分。同时，采用多焦点激发，进一步提升了系统的成像效率。
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公开(公告)号：CN112684572B
公开(公告)日：2022-03-29
申请号：CN202110081498.9
申请日：2021-01-21
Abstract: 本发明提出一种兼具自动调平功能的自动对焦方法及装置，该装置包括：激光光源，用于产生对焦光束；分束装置，用于通过两块沃拉斯顿棱镜将单束对焦光束分束为四束对焦光束；合束聚焦系统，用于将对焦光束与光学系统工作光束合束，并将对焦光束聚焦为在物镜后焦面的四个呈菱形分布的对焦光斑；镜面角锥棱镜，用于将四束对焦光束分开；共焦强度探测装置，用于将对焦光斑共焦成像，并探测像点位置的光强变化；反馈运动机构，用于将探测到的光强变化转化为相应的反馈控制信号，并根据信号驱动运动机构，带动对焦对象旋转或平移，完成自动调平和自动对焦。本发明与现有对焦装置相比，增加了自动调平功能，极大的扩展了该装置的应用范围。
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公开(公告)号：CN114114674A
公开(公告)日：2022-03-01
申请号：CN202210093399.7
申请日：2022-01-26
Abstract: 本发明公开了一种基于无惯性反馈校正的光束稳定装置，该装置包括两对光束偏转器、第一分光棱镜、第二分光棱镜、第一透镜、第二透镜、第一光电感应器、第二光电感应器和控制器等部件。本发明利用光束偏转器实现光束的位置和角度控制，完全消除控制执行部件中的机械运动，消除环境噪声的干扰。并且利用了声光偏转器的高响应频率（可以达到1 MHz以上）的优势，实现快速、高精度的光束角度漂移校正。利用本发明方法与装置调整得到的稳定光束，可以广泛用于超分辨显微成像系统和高精度激光直写光刻系统。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114019765A
公开(公告)日：2022-02-08
申请号：CN202111240501.3
申请日：2021-10-25
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于边缘光抑制的双光束共路相位调制激光直写方法与装置，包括引发光刻胶产生聚合反应的激发光源和抑制（或中断）光刻胶聚合的抑制光源。两束准直光以互相垂直的线偏振态进行合束，合束后的两束光经过同一个空间光调制器（SLM）进行相位调制。将所述SLM分成两部分，对应偏振的激发光被SLM第一部分调制相位进行像差校正，最后经过物镜聚焦形成圆形实心光斑；与激发光偏振相垂直的抑制光被SLM第二部分调制相位，最后经过物镜聚焦形成环形空心光斑。激发光的圆形实心光斑与抑制光环形空心光斑中心重合。本发明通过将SLM进行区分复用，对基于边缘光抑制的激光直写技术的双光束同时进行光场调控，实现共路相位调制。
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公开(公告)号：CN113835296A
公开(公告)日：2021-12-24
申请号：CN202111140604.2
申请日：2021-09-28
Abstract: 本发明属于光刻胶及激光直写技术领域，公开了一种适用于飞秒激光直写的光刻胶组合物，所述光刻胶组合物由单体、光引发剂和聚合物组成，其技术特征在于所述光刻胶组合物具有双色光敏性，可以被特定波长的飞秒激光引发聚合，同时又可以被另一束连续激光抑制聚合，抑制光束减小了飞秒激光的直写区域，从而提高了飞秒激光直写精度，本发明所提供的光刻胶组合物通过特定结构的单体和聚合物，不仅提高了飞秒激光直写精度，同时降低了飞秒激光直写阈值、增强了机械强度。
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公开(公告)号：CN113703170A
公开(公告)日：2021-11-26
申请号：CN202110886687.3
申请日：2021-08-03
Abstract: 本发明公开了一种新型三维中空形光场调控方法和装置，属于光学工程领域。该方法使用两种旋向相反的0‑2π涡旋相位板对偏振光的两个分量分别调至，在转化成圆偏光，两个分量的光干涉形成一种复杂的柱状矢量偏振光，聚焦形成新型三维中空光场。该装置，包括起偏器、半波片、滤波透镜、滤波小孔、准直透镜、第一锥透镜、第二锥透镜、DMD、SLM，第一1/4波片、反射镜和第二1/4波片。相对于传统的方法产生更高质量的3D HLF，并且利用SLM的偏振选择特性，可以采用单路光形成3D HLF且不产生相干缺陷。本发明采用SLM调控光束可以同时实现像差优化，采用环形光束可以挡掉中心低频部分进一步提高光束质量。
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公开(公告)号：CN113654656A
公开(公告)日：2021-11-16
申请号：CN202111209478.1
申请日：2021-10-18
IPC: G01J1/42
Abstract: 本发明公开了一种基于三光束干涉的光束漂移检测装置与方法，该装置包括分束镜、反射镜、道威棱镜、图像传感器等部件。装置将入射光束均分成三束光束，然后让三光束进行干涉形成干涉图案，将入射光束的微小角度与位置的变化转换为干涉图案的变化，位置角度变化将引起光栅条纹周期的变化，光束位置变化将引起干涉图案能量分布的变化。装置将结合图像传感器与分析算法，获得高精度光束漂移的检测，为高精密光学系统中光束的实时校正提供技术支持，可以广泛用于超分辨显微成像、高精度激光直写光刻等高精密激光技术中。
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公开(公告)号：CN113515016A
公开(公告)日：2021-10-19
申请号：CN202110388077.0
申请日：2021-04-12
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于DMD数字掩膜的双光束激光直写方法和装置，该装置包括两路光，每路光各含一个DMD加载相应的数字图形，其中一路光中的DMD加载待刻写的实心图形，用于引发光刻胶的聚合反应；另一路光中的DMD加载所述实心图形对应边缘的空心图形，用于抑制光刻胶的聚合反应；将两路光进行合束后使两个图形投影到样品面上并实现严格对准。本发明通过DMD产生数字掩膜在实现快速面直写的基础上，通过双路激光分别进行引发和抑制光刻胶聚合可提高直写分辨率。利用本发明，有望实现高速高分辨激光直写，为纳米加工技术实现大批量生产提供新思路。
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