一种基于硅氧烷的双光子光刻胶及其制备方法、使用方法和应用

    公开(公告)号:CN114415471B

    公开(公告)日:2022-09-02

    申请号:CN202210188866.4

    申请日:2022-03-01

    Abstract: 本发明公开了一种基于硅氧烷的双光子光刻胶及其制备方法、使用方法和应用,按质量百分数计,包括以下组分:30‑99.9wt%的硅氧烷化合物,0‑69.9wt%活性交联剂,0.1‑5wt%的双光子引发剂;制备方法包括以下步骤:在黄光室中按比例将硅氧烷化合物和活性交联剂混合均匀,继续按比例加入双光子引发剂,置于滚轴混匀器上混合均匀,即得到基于硅氧烷的双光子光刻胶。本发明通过在双光子光刻胶中引入硅氧烷材料,形成了有机无机杂化体系,提高了光刻胶的耐候性、耐高低温、耐腐蚀、电绝缘等特性,不含有任何溶剂,可以用于双光子无掩模3D打印,制备任意形状的三维微纳器件,经高温退火除去有机物得到二氧化硅的图案或器件。

    一种用于氯离子传感的金属有机框架材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN114957700A

    公开(公告)日:2022-08-30

    申请号:CN202210823473.6

    申请日:2022-07-14

    Abstract: 本发明公开了一种用于氯离子传感的金属有机框架材料及其制备方法,该金属有机框架材料的制备方法包括如下步骤:(1)制备合成了含有未配位羧基的双配体Zr‑NDC‑PMA材料;(2)通过后修饰的方法将Ag+和Eu3+同时配位到MOF中的未配位羧基位点,得到Ag+/Eu3+@Zr‑NDC‑PMA荧光探针材料,本发明所获得的金属有机框架材料稳定性良好,能在水溶液中对氯离子进行快速识别、定量检测,而且此探针可以实现对氯离子的比率型传感,具有良好的抗干扰性和灵敏度,可用于生物、环境、化学等样品中氯离子的传感。

    一种可特异性调控的高通量超衍射极限焦斑生成装置

    公开(公告)号:CN112034628B

    公开(公告)日:2022-08-05

    申请号:CN202010863941.3

    申请日:2020-08-25

    Abstract: 本发明公开了一种可特异性调控的高通量超衍射极限焦斑生成装置,该装置首先生成用于产生高通量暗斑的激光,然后入射到加载衍射相位的空间调制器上,将光束分束为多路激光阵列,再将其入射到微透镜阵列上并聚焦,同时将光束阵列在微透镜阵列的傅里叶面上进行滤波,之后将光束阵列入射到高通量暗斑生成器件上进行相位调制,最后将光束阵列聚焦产生高通量的暗斑。本发明设计紧凑,集成度高;可以在生成大通量超衍射极限焦斑的同时实现对暗斑的高速特异性调控;可用于实现并行受激发射损耗显微成像和高通量双光束激光直写光刻,可实现并行系统的亚50nm分辨率,提升系统速度,保证激光直写加工速度和成像分辨率的同步稳定提升。

    一种氧化锌微纳图案的飞秒激光直写方法

    公开(公告)号:CN114326295B

    公开(公告)日:2022-07-19

    申请号:CN202210250051.4

    申请日:2022-03-15

    Abstract: 氧化锌是一种半导体材料,可用于发光二极管,光电传感器等领域。本发明公开了一种氧化锌微纳图案的飞秒激光直写方法,将锌基光刻胶单体与双光子引发剂按比例溶解,旋涂后在飞秒激光的诱导下在选定的位置发生聚合,显影后形成设计的图案,将所得的图案在空气气氛中高温退火,可得到氧化锌的微纳图案,该方法可以快速简便地制造二氧化锌微纳图案,可用于半导体器件和光电传感器件的快速制造。

    分离式调控角度漂移与位置漂移的激光束指向稳定装置

    公开(公告)号:CN111142254B

    公开(公告)日:2022-07-19

    申请号:CN202010090733.4

    申请日:2020-02-13

    Abstract: 本发明公开了一种分离式调控角度漂移与位置漂移的激光束指向稳定装置,该装置将入射激光光束通过两个分光棱镜与一个偏振分光棱镜分光,得到一束工作光束与三束监控光束,三束监控光束由相应的光电器件接受并分别用于监控角度偏移与二维位置偏移,根据得到的监控信息完成对激光光束角度与位移参量的实时校正。本发明对角度偏移与位置偏移的测量与控制进行了有效分离,分别对入射光束的水平位移与垂直位移进行实时调整,调整精度高,调整过程快速,且不会出现耦合干扰;实现激光束的位置漂移精度优于100nm,角度漂移调整精度优于0.1urad;利用本发明装置调整得到的稳定光束,可以广泛用于超分辨显微成像系统和高精度激光直写光刻系统。

    基于光镊微球的超分辨激光直写与实时成像装置及方法

    公开(公告)号:CN114077168A

    公开(公告)日:2022-02-22

    申请号:CN202210009224.3

    申请日:2022-01-06

    Abstract: 本发明涉及光学技术领域,具体公开了一种基于光镊微球的超分辨激光直写与实时成像方法和装置,包括激光器、准直扩束系统、空间光调制器、4f缩束系统、二向色镜、显微物镜、微球、直写基底、三维可控精密位移台、照明光源、照明模块及相机等,所述的激光器出射光经过扩束准直后入射到加载有相位全息图的空间光调制器上面,调制后的光斑经过4f缩束系统入射到显微物镜,在显微物镜焦面形成聚焦光斑阵列同时捕获多个微球,利用微球强聚焦特性配合相位全息图变化,在直写基底上面进行任意图案的高通量超分辨激光直写;同时,微球结合显微物镜可对超分辨激光直写结构进行实时成像,图像由相机采集,实现基于光镊微球的超分辨激光直写与实时成像。

    一种基于万束独立可控激光点阵产生的并行直写装置

    公开(公告)号:CN114019763A

    公开(公告)日:2022-02-08

    申请号:CN202111120476.5

    申请日:2021-09-24

    Abstract: 本发明公开了一种基于万束独立可控激光点阵产生的并行直写装置,装置主要包含四个相同光路,每个光路包含核心元件数字微镜阵列DMD和微透镜阵列MLA,用于产生千束独立可控刻写点阵,光路中DMD将有效像素区域等分成M×N个子阵列,一个子阵列对应一个子光斑,从DMD出射的M×N子光斑与MLA的M×N微透镜空间上重合后,产生M×N千束焦点阵列,并最终成像到物镜焦平面上,通过四个千束点阵的拼接,最终实现万束刻写点阵的产生,能够快速加工高质量复杂三维微结构,可应用于超分辨光刻等领域。

    一种三轴弹性结构光学调整架

    公开(公告)号:CN114002799A

    公开(公告)日:2022-02-01

    申请号:CN202111216079.8

    申请日:2021-10-19

    Abstract: 本发明公开了一种三轴弹性结构光学调整架,该调整架为一种弹性调节构型,利用结构件本身的弹性提供调整架所需的调节活动范围,并通过预制负角度的初始安装位置使弹性部件获得负极限调节位置,以此实现调节范围内始终能够获得预紧力,及调节零位正负方向上的调节能力;通过组合三对弹性调节结构,使其形成互相垂直的三个调节回转轴,对与安装在该调整架上的光学元件,可获得三轴转动的调节能力,并具有锁定功能。

    一种并行穿插超分辨高速激光直写光刻的方法与装置

    公开(公告)号:CN113960891A

    公开(公告)日:2022-01-21

    申请号:CN202111248686.2

    申请日:2021-10-26

    Abstract: 本发明公开了一种并行穿插超分辨高速激光直写光刻的方法与装置。本发明方法使用并行穿插算法,首先基于刻写光空间光调制器产生刻写用多光束实心光斑;基于抑制光空间光调制器产生抑制用多光束空心光斑;然后将多光束实心光斑与多光束空心光斑合束产生调制后的多光束光斑;再基于多通道声光调制器输出刻写波形,位移台匀速移动直到完成一整列区域刻写,关闭光开关,位移台进行一次步进移动;直到所有图形刻写完成。本发明装置基于并行穿插扫描策略,有效解决了现有并行转镜激光直写光刻系统由于扫描策略过于简单而导致刻写效率低下的问题。同时,基于边缘光抑制原理获得超分辨效果,提升了现有双光子激光直写光刻的刻写精度。

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