振动修正控制电路及具备该电路的摄像装置

    公开(公告)号:CN101464610A

    公开(公告)日:2009-06-24

    申请号:CN200810177436.2

    申请日:2008-11-27

    CPC classification number: G03B5/00

    Abstract: 本发明提供一种能够进行振动检测元件的异常判定处理的振动修正控制电路。具备:至少一个模拟/数字变换电路(20),将来自对摄像装置的振动进行检测的振动检测元件(106)的输出信号、及来自对光学部件的位置进行检测的位置检测元件(102)的输出信号变换为数字信号;和逻辑电路,根据由模拟/数字变换电路(20)数字化后的振动检测元件(106)的输出信号、和由模拟/数字变换电路(20)数字化后的位置检测元件(102)的输出信号,生成用于驱动光学部件的控制信号;根据由模拟/数字变换电路(20)变换为数字信号的、来自振动检测元件(106)的输出信号的振幅,进行振动检测元件(106)的异常判定。

    马达驱动电路
    194.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101447665A

    公开(公告)日:2009-06-03

    申请号:CN200810179241.1

    申请日:2008-12-01

    Inventor: 内山祐二

    Abstract: 本发明的马达驱动电路适当地进行过电流保护。具备:通电控制电路,为了使马达线圈通电而控制连接在马达线圈上的驱动晶体管的导通和截止;过电流状态检测电路,检测是否处于流过驱动晶体管的电流超过规定的阈值的过电流状态;充放电电路,在基于由过电流状态检测电路检测出过电流状态的情形而开始向电容器充电之后,基于没有检测出过电流状态的情形而使电容器放电;过电流保护控制电路,在直到经过电容器的充电电压从规定电压到超过阈值电压的充电期间为止的期间事先停止由通电控制电路进行的驱动晶体管的导通和截止控制而使驱动晶体管截止,在经过了充电期间之后通过检测过电流状态来决定是否进行使驱动晶体管截止的过电流保护控制。

    摄像装置的防振控制电路
    195.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101446689A

    公开(公告)日:2009-06-03

    申请号:CN200810128865.0

    申请日:2008-06-20

    CPC classification number: G02B27/646 H04N5/23248 H04N5/23258 H04N5/23287

    Abstract: 本发明提供一种防振控制电路以及摄像装置。其中备有:检测摄像装置的振动的多个振动检测元件(106);检测光学部件的位置的多个位置检测元件(102);将多个振动检测元件及多个位置检测元件的输出信号转换成数字信号的模拟/数字转换电路(20);和根据由模拟/数字转换电路数字化后的多个振动检测元件的输出信号及多个位置检测元件的输出信号,生成用于驱动光学部件的控制信号的逻辑电路,模拟/数字转换电路针对多个轴方向对多个振动检测元件的输出信号进行数字化并输出后,连续地对多个轴方向的多个位置检测元件的输出信号进行数字化并输出。因此,可以使得逻辑电路化的防振控制电路进一步小型化,高精度且迅速的进行防振控制处理。

    高通滤波器
    197.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101409538A

    公开(公告)日:2009-04-15

    申请号:CN200810146743.4

    申请日:2008-08-27

    CPC classification number: H03H11/1213

    Abstract: 本发明提供一种高通滤波器,减小电容器的容量而实现截止频率较低的滤波器。电容器(C1)的一端接收输入信号,从另一端侧输出输出信号。设置有电阻电路,该电阻电路连接到该电容器(C1)的另一端侧,在电容器与电源之间作为电阻而发挥功能。该电阻电路包括:PNP晶体管(Tr1),其基极被连接到上述电容器的另一端;NPN晶体管(Tr2),其基极被连接到上述电容器的另一端。并且,差动放大器(2)分别对这些PNP晶体管以及NPN晶体管提供互补的电流。另外,对上述差动放大器负反馈上述电容器的另一端侧的信号。

    半导体装置及其制造方法
    199.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101399268A

    公开(公告)日:2009-04-01

    申请号:CN200810161791.0

    申请日:2008-09-26

    Inventor: 佐山康之

    Abstract: 本发明涉及一种半导体装置及其制造方法。在具有超结结构的衬底形成MOSFET时,例如若是n沟道型MOSFET,则在柱状p-型半导体区域形成沟道区域。超结结构通过将柱状半导体区域微细化而具有可降低电流路径的电阻值的优点,但因微细化而导致在扩散区域形成的沟道区域彼此的间隔距离也变窄,存在栅电极下方的电流路径变窄、电阻值增加的问题。在栅电极的下方设置高浓度的n型杂质区域。通过将栅极长度设定在沟道区域的深度以下,可使由n型杂质区域的侧面与相邻沟道区域的侧面形成的pn接合面大致垂直于衬底表面。由此,即使进行超结结构的微细化,也不会超过必要程度地缩窄沟道区域间的间隔距离(栅电极下方的电流路径),故能避免电阻增加。而且,由于在n型半导体区域内,耗尽层均匀扩展,可提高该区域的杂质浓度,故有助于降低电阻。

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