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公开(公告)号：CN1137176C
公开(公告)日：2004-02-04
申请号：CN96198863.0
申请日：1996-11-21
Applicant: 克拉里安特国际有限公司
CPC classification number: G03F7/0236 , C08G8/08 , C08G8/10 , C08G8/20
Abstract: 本发明提供不需高温蒸馏以分离不溶于水但溶于碱水溶液的分子量一致、性能优越的酚醛清漆树脂生产方法。也提供从这种酚醛清漆树脂生产光刻胶组合物的方法和用这种光刻胶组合物生产半导体装置的方法。
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公开(公告)号：CN1120190C
公开(公告)日：2003-09-03
申请号：CN97181410.4
申请日：1997-12-16
Applicant: 克拉里安特国际有限公司
CPC classification number: C08G8/08 , G03F7/0236
Abstract: 本发明提供了一种通过按照分子量分级酚醛清漆树脂，来制备具有固定分子量和在抗光蚀剂组合物中优异性能的水不溶的、碱溶性酚醛清漆树脂级分的方法。还提供了一种由该酚醛清漆树脂制备抗光蚀剂组合物的方法、以及一种使用该抗光蚀剂组合物制造半导体设备的方法。
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公开(公告)号：CN1085681C
公开(公告)日：2002-05-29
申请号：CN95197186.7
申请日：1995-12-21
Applicant: 科莱恩金融(BVI)有限公司
CPC classification number: C08G8/12 , C08G8/08 , C08G8/24 , C08L61/06 , G03F7/0236
Abstract: 水不溶性、含水碱溶性可溶可熔酚醛树脂，该树脂的制备方法，含有该树脂的光刻胶以及制备半导体装置的方法，其中该树脂通过液面下强制水蒸汽蒸馏法得到分离。
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公开(公告)号：CN1340088A
公开(公告)日：2002-03-13
申请号：CN00803784.1
申请日：2000-12-22
Applicant: 克拉瑞特国际有限公司
IPC: C09D201/06 , G02B5/20
CPC classification number: C09D201/08 , C09D201/06 , Y10T428/31511 , Y10T428/31525 , Y10T428/31663
Abstract: 本发明提供了一种能够形成具有优异粘附性的保护膜的涂料组合物,其包含一种含羧基的特定聚合物、一种具有两个或多个环氧基团的含环氧化物的特定多官能团化合物、一种有机溶剂和一种由以下通式(I)表示的含氨基的硅烷偶联剂:H2N－R1－Si－(OR2)3(I)，其中,R1为未取代的亚烷基,R2独立地为未取代的烷基。
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公开(公告)号：CN1282342A
公开(公告)日：2001-01-31
申请号：CN98812234.0
申请日：1998-12-01
Applicant: 克拉里安特国际有限公司
Abstract: 一种制备去离子树脂的方法,它包括:最少具有一个活性羟基和一个活性螫合部位的有机化合物与最少有一个活生羟基或氨基的有机高分子基体反应;产生螯合的聚合物配合物;用水洗涤此聚合物配合物,再用无机酸溶液洗;再用水洗,以此减小钠、铁和铬离子在聚合物配合物中的含量,使之均低于100ppb。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1273590A
公开(公告)日：2000-11-15
申请号：CN99801068.5
申请日：1999-06-23
Applicant: 克拉瑞特国际有限公司
IPC: C08G18/80 , C09D175/04 , G02B1/10 , G03F7/00
CPC classification number: C08G18/80 , C09D175/04 , G02B1/111 , G03F7/091 , Y10S430/106 , Y10S430/107 , Y10S430/108 , Y10S430/115 , Y10S430/151
Abstract: 本发明公开了一种用于形成辐射吸收涂层的组合物,该组合物包含一种有机溶剂,一种辐射吸收聚合物或一种溶解于其中的辐射吸收材料及具有封端的异氰酸酯基团的交联剂。由于交联剂的异氰酸酯基团被封端,因此,包含该交联剂的组合物具有优异的稳定性。当将组合物涂敷于基底上并烘烤时,交联反应给出抗反射涂层,其不会与通过涂敷在其上形成的抗蚀剂层相互混合,因而不会发生来自抗蚀剂层的光产酸的扩散。结果,可形成无沉积或浮渣的抗蚀剂图像。
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公开(公告)号：CN1133096A
公开(公告)日：1996-10-09
申请号：CN94193743.7
申请日：1994-10-12
IPC: G03F7/09
CPC classification number: G03F7/0046 , G03F7/091
Abstract: 一种用于光刻胶的防反射涂料组合物和制造这种涂料的方法，此涂料的折射指数为自大于约1.20至约1.40，它能以单个四分之一波长厚度使用，并能用下层光刻胶的显影剂来除去；此涂料组合物包含含有下列单元的共聚物(a)。式中X为CO2L，SO3L，OH，OC(OC2H4)XOH，CONHC(CH3)2CH2SO3L，PO3L2或CONH2，式中L＝H，I族或II族阳离子或NH4+，而X＝0-10，(b)式中Y是氟或含氟脂族有机取代基，优选选自COO(CH2)X(CF2)nCF3，SO2O(CH2)X(CF2)nCF3SO2(OC2H4)XO(CH2)X(DF2)nCF3，CO(OC2H4)XO(CH2)X(CF2)nCF3或其中脂族链可以是支化的或不支化的；式中R＝H，卤素，CF3，C1-C8烷基或CN；n＝0-14；及X＝0-10。
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公开(公告)号：CN101523295A
公开(公告)日：2009-09-02
申请号：CN200780037797.0
申请日：2007-10-12
Applicant: AZ电子材料(日本)株式会社
IPC: G03F7/32 , H01L21/304 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/40
Abstract: 本发明提供了一种用于改善显影后图案表面上瑕疵的抗蚀基板处理溶液，还提供了一种使用该处理溶液的抗蚀基板处理方法。该抗蚀基板处理溶液包含溶剂和含氮水溶性聚合物或含氧水溶性聚合物如聚胺、多羟基化合物或聚醚。该处理方法中，用该抗蚀基板处理溶液处理显影后的抗蚀图，然后用纯水洗涤。
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公开(公告)号：CN101001930A
公开(公告)日：2007-07-18
申请号：CN200580026893.6
申请日：2005-08-12
Applicant: AZ电子材料(日本)株式会社
IPC: C09D183/16 , H01L21/762 , H01L21/316 , B32B18/00 , H01L29/78 , C01B33/12 , B32B9/00 , H01B3/46
CPC classification number: C08G77/62 , C08K5/56 , C09D183/16 , H01L21/02126 , H01L21/02145 , H01L21/02222 , H01L21/02282 , H01L21/02337 , H01L21/3125 , H01L21/316 , H01L21/3162 , C08L2666/52
Abstract: 本发明涉及一种制备具有良好绝缘性的硅质膜的方法，及应用于该方法的涂料组合物。该涂料组合物包含数均分子量为100～50,000的全氢聚硅氮烷或改性全氢聚硅氮烷，以及铝化合物，用铝原子与硅原子的摩尔比表示，该涂料组合物的含铝量不小于10ppb，不大于100ppm。硅质膜是将涂料组合物涂覆到基板上，而后在含蒸汽、氧或由蒸汽和氧组成的混合气体的环境中烧制该涂覆的基板制备的。
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公开(公告)号：CN1286905C
公开(公告)日：2006-11-29
申请号：CN03808173.3
申请日：2003-04-08
Applicant: AZ电子材料日本株式会社
CPC classification number: G03F7/0236 , C08K5/08 , C08L61/06 , C08L2666/16
Abstract: 本发明公开了一种碱溶性成膜线性酚醛清漆树脂混合物，其包含至少两种线性酚醛清漆树脂，每种线性酚醛清漆树脂包含由至少一种酚类化合物与至少一种醛源生成的加成缩合反应产物，其中用于第一线性酚醛清漆树脂的酚类化合物包含90-100摩尔%间甲酚，和用于第二线性酚醛清漆树脂的酚类化合物包含低于50摩尔%的间甲酚。还公开了一种光敏组合物，其包含以下物质的掺混物：a)上述线性酚醛清漆树脂混合物；b)至少一种邻醌光活性化合物；和c)至少一种光刻胶溶剂。还公开了一种通过在基材上形成图像而生产微电子器件的方法，其包括：a)提供上述光敏组合物；b)然后用步骤a)得到的光敏组合物涂覆合适的基材；c)然后，热处理涂覆基材直至基本上所有的溶剂被去除；成像式曝光涂覆基材；并随后用合适的显影剂去除涂覆基材的成像式曝光或未曝光区域。
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