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公开(公告)号:CN117790389A
公开(公告)日:2024-03-29
申请号:CN202311126527.4
申请日:2023-09-04
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘,其能够降低来自旁路部的热对放置面的温度产生的影响。静电吸盘具备:陶瓷电介体基板,具有基板上面和基板下面;基座板,具有基座板上面和基座板下面;加热器部,设置在所述基板上面与所述基板下面之间,具有至少一个加热器层;及旁路部,其为向所述加热器部的供电路径,所述加热器部具有加热器上面和加热器下面,所述旁路部具有设置在与所述基板下面相比更靠近下方的位置的第1旁路部分,所述第1旁路部分具有第1旁路上面和第1旁路下面,所述加热器下面与所述第1旁路上面之间的第2距离,大于所述加热器上面与所述基板上面之间的第1距离。
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公开(公告)号:CN116895589A
公开(公告)日:2023-10-17
申请号:CN202310289658.8
申请日:2023-03-23
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/67 , H01J37/20 , H01J37/32
Abstract: 本发明的静电吸盘具备陶瓷电介体基板、基座板及加热器部,加热器部具有第1、第2供电部及加热器线,加热器线的延伸部具有相邻于第1、第2供电部的第1、第2延伸部,第1延伸部具有:与第1、第2供电部发生重叠的第1、第2部分;及并不与第1、第2供电部发生重叠的第3部分,第2延伸部具有:与第1、第2供电部发生重叠的第4、第5部分;及并不与第1、第2供电部发生重叠的第6部分,相切于第1、第2供电部的第1假想切线与第1延伸部之间的第3距离和相切于第1、第2供电部的第2假想切线与第2延伸部之间的第4距离,分别为第1、第2供电部之间的第1距离以下,且为延伸部彼此之间的第2距离以下。
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公开(公告)号:CN108695222A
公开(公告)日:2018-10-23
申请号:CN201810270110.8
申请日:2018-03-29
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683
CPC classification number: H01L21/6833 , H01L21/67103 , H01L21/67109 , H01L21/6831 , H01L21/68785 , H05B3/283
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘,其能够提高处理对象物的面内温度分布的均匀性。具体而言,具备:陶瓷电介体基板,具有放置处理对象物的第1主面;电极层,设置于陶瓷电介体基板;基座板,支撑陶瓷电介体基板;及加热器板,设置在基座板与第1主面之间,其特征为,加热器板具有:第1加热器元件,因电流的流动而发热;及第2加热器元件,因电流的流动而发热,当在垂直于第1主面的方向上观察时,第1加热器元件比第2加热器元件折曲更多,第1加热器元件具有位于第2加热器元件的间隙的部分。
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公开(公告)号:CN119694966A
公开(公告)日:2025-03-25
申请号:CN202410933289.6
申请日:2024-07-12
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H05B3/06
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘,其能够抑制加热器的局部的温度上升。静电吸盘(10)具备:电介体基板(100);及加热器单元(300),对电介体基板(100)进行加热。加热器单元(300)具有:供电部(390),从外部接受电力的供给;发热部(331),其为以线状围绕布置的导体,接受来自供电部(390)的电力的供给而发热;及旁路层(370),连接供电部(390)与发热部(331)之间。发热部(331)具有局部放大其线宽的部分即扩宽部(332)。在扩宽部(332)的多个部位处,将旁路层(370)连接于发热部(331)。
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公开(公告)号:CN116895591A
公开(公告)日:2023-10-17
申请号:CN202310302696.2
申请日:2023-03-27
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H01J37/20 , H01J37/32
Abstract: 本发明的目的在于提供一种静电吸盘,其能够提高处理对象物的面内温度分布的均匀性。提供一种静电吸盘,具备:基座板,包含冷媒可通过的涡旋状的连通路;第1加热器元件,包含径向及周向上排列的多个第1区;及多个第1供电端子,向多个第1区供电,多个第1区包含发热的第1加热器线和向第1加热器线供电的一对第1供电部,一对第1供电部电连接于多个第1供电端子,多个第1供电端子包含:第1环状部分,配置在第1假想圆上;及第2环状部分,位于与第1环状部分相比更靠近内侧的位置且配置在第2假想圆上,当沿着积层方向观察时,在第1环状部分与第2环状部分之间,连通路包含围住第2环状部分周围的第1圈部分。
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公开(公告)号:CN108604570B
公开(公告)日:2023-05-05
申请号:CN201780009357.8
申请日:2017-03-13
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘,具备:陶瓷电介体基板,放置处理对象物;基座板;及加热器板,设置在陶瓷电介体基板与基座板之间,其特征为,加热器板具有:第1、第2支撑板,包含金属;第1、第2树脂层,设置在第1支撑板与第2支撑板之间;及第1、第2导电部,设置在第1树脂层与第2树脂层之间且在面内方向上离开,具有:加热器元件,因电流的流动而发热;及空间部,被在第1导电部的面内方向上的侧端部、第1树脂层、第2树脂层所划分,第1树脂层在第1导电部与第2导电部之间连接于第2树脂层。
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公开(公告)号:CN114284195A
公开(公告)日:2022-04-05
申请号:CN202111069708.9
申请日:2021-09-13
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘以及半导体制造装置,其能够提高处理对象物的面内温度分布的均匀性。具体而言,静电吸盘具备陶瓷电介体基板、基座板、加热器部,其特征为,加热器部具有第1、第2加热器元件,第2加热器元件具有径向上被分割的多个主区,第1加热器元件具有多个辅助区,多个辅助区的数量多于多个主区的数量,多个主区具有:第1主区;及径向上介由第1边界邻接于第1主区的第2主区,多个辅助区具有第1辅助区,其与第1主区及第2主区的至少任意一个发生重叠,且具有径向端部即第1径向端,第1径向端的至少一部分并不与第1边界发生重叠。
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