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公开(公告)号：CN110383170B
公开(公告)日：2023-10-03
申请号：CN201880015558.3
申请日：2018-01-16
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够抑制镀敷处理时的镀敷的渗入的镀敷造型物的制造方法，以及用于所述镀敷造型物的制造方法中、可在基板上形成抑制了镀敷的渗入的抗蚀剂的镀敷造型物制造用感光性树脂组合物。本发明的镀敷造型物的制造方法包括：在基材上形成感光性树脂组合物的感光性树脂涂膜的工序(1)，所述感光性树脂组合物含有因酸的作用而对碱的溶解性增大的树脂(A)、光酸产生剂(B)、及因酸的作用而分解并生成伯胺或仲胺的化合物(C)；对感光性树脂涂膜进行曝光的工序(2)；对曝光后的感光性树脂涂膜进行显影而形成抗蚀剂图案的工序(3)；以及将抗蚀剂图案作为掩模进行镀敷处理的工序(4)。
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公开(公告)号：CN112368643A
公开(公告)日：2021-02-12
申请号：CN201980044459.2
申请日：2019-06-14
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种无镀敷液的渗入而可制造形状良好的镀敷造形物的镀敷造形物的制造方法。本发明的镀敷造形物的制造方法的特征在于包括：步骤(1)，将表面处理剂暴露于在表面具有含铜膜的基板上，形成表面处理基板，所述表面处理剂含有0.001质量％～2质量％的选自三唑(A1)及苯并三唑系化合物(A2)中的至少一种三唑化合物(A)及90质量％～99.999质量％的有机溶剂(B)；步骤(2)，在所述表面处理基板上形成抗蚀剂组合物的涂膜；步骤(3)，对所述涂膜进行曝光及显影，形成抗蚀剂图案；以及步骤(4)，将所述抗蚀剂图案作为掩模来进行镀敷液处理。
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公开(公告)号：CN102804065B
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：CN201080026410.3
申请日：2010-06-14
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/004 , C08F220/18 , C09K3/00 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0045 , C08F8/34 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F220/38 , G03F7/0046 , G03F7/029 , G03F7/039 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , Y10S430/111 , Y10S430/12 , Y10S430/122 , Y10S430/126
Abstract: 本发明提供一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有(A)含有酸解离性基团的树脂和(C)通式(i)表示的化合物(通式(i)中，R1表示氢原子等；R2表示单键等；R3表示氢原子的一部分或全部可以被氟原子取代的、碳原子数为1～10的直链状的1价烃基等；X+表示阳离子)。
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公开(公告)号：CN101031597B
公开(公告)日：2010-04-14
申请号：CN200580033001.5
申请日：2005-09-28
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08F220/10 , G03F7/11 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/11 , C08F220/18 , C08F220/26 , C08F220/38 , C08F228/00 , G03F7/2041
Abstract: 本发明形成一种上层膜，其不与光致抗蚀剂膜引起互混，可在抗蚀剂上形成覆膜，不溶出于浸液曝光时的介质而能维持稳定覆膜，进而，在施实非浸液曝光的干式曝光时不造成图案形状劣化，且容易溶解于碱显影液。其特征为含有至少一种选自具有下述式(1)表示的基团的重复单元、具有下述式(2)表示的基团的重复单元、及具有羧基的重复单元中的重复单元(I)、与具有磺基的重复单元(II)，通过凝胶渗透色谱法测定的重均分子量为2,000-100,000。式中，R1及R2的至少一方为碳数1-4的氟化烷基；式(2)中，R3为碳数1-20的氟化烷基。
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