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公开(公告)号：CN112368643B
公开(公告)日：2024-11-15
申请号：CN201980044459.2
申请日：2019-06-14
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种无镀敷液的渗入而可制造形状良好的镀敷造形物的镀敷造形物的制造方法、电路基板及表面处理剂以及表面处理剂套组。本发明的镀敷造形物的制造方法包括：步骤(1)，将表面处理剂暴露于在表面具有含铜膜的基板上，形成表面处理基板，所述表面处理剂含有0.001质量％～2质量％的选自三唑(A1)及苯并三唑系化合物(A2)中的至少一种三唑化合物(A)及90质量％～99.999质量％的有机溶剂(B)；步骤(2)，在所述表面处理基板上形成抗蚀剂组合物的涂膜；步骤(3)，对所述涂膜进行曝光及显影，形成抗蚀剂图案；以及步骤(4)，将所述抗蚀剂图案作为掩模来进行镀敷液处理。
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公开(公告)号：CN113508337A
公开(公告)日：2021-10-15
申请号：CN202080017960.2
申请日：2020-04-13
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种感光性树脂组合物，用于形成驻波轨迹得到抑制且剖面为矩形的抗蚀剂图案膜。本发明的感光性树脂组合物含有：具有酸解离性基的聚合物(A)；光酸产生剂(B)；具有羟基的氨基甲酸酯(C)；以及溶剂(D)，所述溶剂(D)含有：选自丙二醇单甲醚乙酸酯等中的至少一种溶剂(D1)；以及选自二丙二醇二甲醚等中的至少一种溶剂(D2)。
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公开(公告)号：CN112585535B
公开(公告)日：2024-07-30
申请号：CN201980052361.1
申请日：2019-09-11
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明是一种感光性树脂组合物，含有聚合性化合物(A)、光自由基聚合引发剂(B)、硫醇化合物(C)、以及聚合抑制剂(D)，且硫醇化合物(C)的含量相对于聚合性化合物(A)100质量份而为5质量份～50质量份，聚合抑制剂(D)的含量相对于聚合性化合物(A)100质量份而为1质量份～10质量份。本发明可提供一种在明视场与暗视场两者中曝光量宽容度(EL)宽的感光性树脂组合物。可提供一种使用感光性树脂组合物能够在明视场与暗视场两者中精度佳地形成微细抗蚀剂图案的抗蚀剂图案的形成方法。可提供一种使用通过抗蚀剂图案的形成方法所形成的抗蚀剂图案能够制造精度佳、微细的镀覆造形物的镀覆造形物的制造方法。
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公开(公告)号：CN112534353A
公开(公告)日：2021-03-19
申请号：CN201980051934.9
申请日：2019-06-14
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/12 , G03F7/20 , G03F7/40 , H01L21/60
Abstract: 本发明的目的在于提供一种可形成分辨性优异、且能够应对铜镀敷及镍镀敷的抗蚀剂图案的感光性树脂组合物、使用所述感光性树脂组合物的抗蚀剂图案的形成方法、使用所述抗蚀剂图案的镀敷造形物的制造方法、具有镀敷造形物的半导体装置，本组合物含有聚合物(A)及光酸产生剂(B)，所述聚合物(A)具有下述式(a1)所表示的结构单元(a1)、下述式(a2)所表示的结构单元(a2)、及下述式(a3)所表示的结构单元(a3)。式(a3)中，R33表示羟基芳基。
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公开(公告)号：CN110383170A
公开(公告)日：2019-10-25
申请号：CN201880015558.3
申请日：2018-01-16
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够抑制镀敷处理时的镀敷的渗入的镀敷造型物的制造方法，以及用于所述镀敷造型物的制造方法中、可在基板上形成抑制了镀敷的渗入的抗蚀剂的镀敷造型物制造用感光性树脂组合物。本发明的镀敷造型物的制造方法包括：在基材上形成感光性树脂组合物的感光性树脂涂膜的工序(1)，所述感光性树脂组合物含有因酸的作用而对碱的溶解性增大的树脂(A)、光酸产生剂(B)、及因酸的作用而分解并生成伯胺或仲胺的化合物(C)；对感光性树脂涂膜进行曝光的工序(2)；对曝光后的感光性树脂涂膜进行显影而形成抗蚀剂图案的工序(3)；以及将抗蚀剂图案作为掩模进行镀敷处理的工序(4)。
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公开(公告)号：CN110383170B
公开(公告)日：2023-10-03
申请号：CN201880015558.3
申请日：2018-01-16
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够抑制镀敷处理时的镀敷的渗入的镀敷造型物的制造方法，以及用于所述镀敷造型物的制造方法中、可在基板上形成抑制了镀敷的渗入的抗蚀剂的镀敷造型物制造用感光性树脂组合物。本发明的镀敷造型物的制造方法包括：在基材上形成感光性树脂组合物的感光性树脂涂膜的工序(1)，所述感光性树脂组合物含有因酸的作用而对碱的溶解性增大的树脂(A)、光酸产生剂(B)、及因酸的作用而分解并生成伯胺或仲胺的化合物(C)；对感光性树脂涂膜进行曝光的工序(2)；对曝光后的感光性树脂涂膜进行显影而形成抗蚀剂图案的工序(3)；以及将抗蚀剂图案作为掩模进行镀敷处理的工序(4)。
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公开(公告)号：CN112585535A
公开(公告)日：2021-03-30
申请号：CN201980052361.1
申请日：2019-09-11
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明是一种感光性树脂组合物，其特征在于含有聚合性化合物(A)、光自由基聚合引发剂(B)、硫醇化合物(C)、以及聚合抑制剂(D)，且所述硫醇化合物(C)的含量相对于所述聚合性化合物(A)100质量份而为5质量份～50质量份，所述聚合抑制剂(D)的含量相对于所述聚合性化合物(A)100质量份而为1质量份～10质量份。本发明可提供一种在明视场与暗视场两者中曝光量宽容度(EL)宽的感光性树脂组合物。可提供一种使用所述感光性树脂组合物能够在明视场与暗视场两者中精度佳地形成微细抗蚀剂图案的抗蚀剂图案的形成方法。可提供一种使用通过所述抗蚀剂图案的形成方法所形成的抗蚀剂图案能够制造精度佳、微细的镀覆造形物的镀覆造形物的制造方法。
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公开(公告)号：CN112368643A
公开(公告)日：2021-02-12
申请号：CN201980044459.2
申请日：2019-06-14
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明的课题在于提供一种无镀敷液的渗入而可制造形状良好的镀敷造形物的镀敷造形物的制造方法。本发明的镀敷造形物的制造方法的特征在于包括：步骤(1)，将表面处理剂暴露于在表面具有含铜膜的基板上，形成表面处理基板，所述表面处理剂含有0.001质量％～2质量％的选自三唑(A1)及苯并三唑系化合物(A2)中的至少一种三唑化合物(A)及90质量％～99.999质量％的有机溶剂(B)；步骤(2)，在所述表面处理基板上形成抗蚀剂组合物的涂膜；步骤(3)，对所述涂膜进行曝光及显影，形成抗蚀剂图案；以及步骤(4)，将所述抗蚀剂图案作为掩模来进行镀敷液处理。
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公开(公告)号：CN112534353B
公开(公告)日：2024-12-24
申请号：CN201980051934.9
申请日：2019-06-14
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/12 , G03F7/20 , G03F7/40 , H01L21/60
Abstract: 本发明的目的在于提供一种可形成分辨性优异、且能够应对铜镀敷及镍镀敷的抗蚀剂图案的感光性树脂组合物、使用所述感光性树脂组合物的抗蚀剂图案的形成方法、使用所述抗蚀剂图案的镀敷造形物的制造方法、具有镀敷造形物的半导体装置，本组合物含有聚合物(A)及光酸产生剂(B)，所述聚合物(A)具有下述式(a1)所表示的结构单元(a1)、下述式(a2)所表示的结构单元(a2)、及下述式(a3)所表示的结构单元(a3)。式(a3)中，R33表示羟基芳基。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN118511127A
公开(公告)日：2024-08-16
申请号：CN202380016080.7
申请日：2023-02-13
Applicant: JSR株式会社
Abstract: [课题]本发明的课题在于提供一种溶剂的蒸发性优异并且可制造涂布气泡的生成得到充分抑制的抗蚀剂涂膜的感光性树脂组合物，并提供一种使用所述感光性树脂组合物的抗蚀剂图案膜的制造方法及使用所述抗蚀剂图案膜的镀敷造形物的制造方法。[解决手段]一种感光性树脂组合物，其特征在于包含：聚合物(A)，含有具有酚性羟基的结构单元与源自具有酸解离性基的(甲基)丙烯酸酯的结构单元；特定的光酸产生剂(B)；以及有机溶剂(C)，含有3‑乙氧基乙基丙酸酯，且所述感光性树脂组合物的固体成分浓度为30质量％以上。
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