公开(公告)号：CN102150082A

公开(公告)日：2011-08-10

申请号：CN200980135499.4

申请日：2009-09-10

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 江畑琢磨 ,  中川大树 ,  松田恭彦 ,  笠原一树 ,  星子贤二 ,  中岛浩光 ,  池田宪彦 ,  酒井香织 ,  原田早纪

IPC: G03F7/039 ,  C08F20/26 ,  G03F7/004

CPC classification number: C08F20/28 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

Abstract: 一种放射线敏感性树脂组合物，其含有聚合物(A)、放射线敏感性的酸产生剂(B)、酸扩散抑制剂(C)和溶剂(D)，上述聚合物(A)是具有下述通式(a-1)表示的重复单元(a-1)的聚合物，上述酸扩散抑制剂(C)含有下述通式(C-1)表示的碱(C-1)和光分解性碱(C-2)中的至少一种碱。通式(a-1)中，R1相互独立地表示氢原子等，R为通式(a’)表示的1价基团，R19表示碳原子数为1～5的链状烃基等，A表示碳原子数为1～30的2价链状烃基等，m和n表示0～3的整数(其中m+n＝1～3)。通式(C-1)中，R2、R3相互独立地表示碳原子数为1～20的1价链状烃基等，2个R2也可以结合形成环结构。

公开(公告)号：CN103472674B

公开(公告)日：2017-04-26

申请号：CN201310320010.9

申请日：2010-09-17

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 浅野裕介 ,  佐藤光央 ,  中岛浩光 ,  笠原一树 ,  大泉芳史 ,  堀雅史 ,  川上峰规 ,  松田恭彦 ,  中原一雄

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C08F20/22

CPC classification number: G03F7/0392 ,  C08F20/22 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0388 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  G03F7/32

Abstract: 一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有具有酸解离性基团的聚合物(A)、由放射线照射而产生酸的产酸剂(B)、以及具有下述通式(x)表示的官能团和氟原子的聚合物(C)，上述聚合物(C)是氟原子含量比上述聚合物(A)高的聚合物。[通式(x)中，R1表示碱解离性基团，A表示氧原子(其中，不包括直接与芳香环、羰基和磺酰基连结的氧原子)、亚氨基、‑CO‑O‑*或者‑SO2‑O‑*(“*”表示与R1结合的结合位点)]。

公开(公告)号：CN102150082B

公开(公告)日：2013-08-07

申请号：CN200980135499.4

申请日：2009-09-10

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 江畑琢磨 ,  中川大树 ,  松田恭彦 ,  笠原一树 ,  星子贤二 ,  中岛浩光 ,  池田宪彦 ,  酒井香织 ,  原田早纪

IPC: G03F7/039 ,  C08F20/26 ,  G03F7/004

CPC classification number: C08F20/28 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

Abstract: 一种放射线敏感性树脂组合物，其含有聚合物(A)、放射线敏感性的酸产生剂(B)、酸扩散抑制剂(C)和溶剂(D)，上述聚合物(A)是具有下述通式(a-1)表示的重复单元(a-1)的聚合物，上述酸扩散抑制剂(C)含有下述通式(C-1)表示的碱(C-1)和光分解性碱(C-2)中的至少一种碱。通式(a-1)中，R1相互独立地表示氢原子等，R为通式(a’)表示的1价基团，R19表示碳原子数为1～5的链状烃基等，A表示碳原子数为1～30的2价链状烃基等，m和n表示0～3的整数(其中m+n＝1～3)。通式(C-1)中，R2、R3相互独立地表示碳原子数为1～20的1价链状烃基等，2个R2也可以结合形成环结构。

公开(公告)号：CN101395189A

公开(公告)日：2009-03-25

申请号：CN200780007265.2

申请日：2007-03-23

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 中川大树 ,  中岛浩光 ,  若松刚史 ,  原田健太郎 ,  西村幸生 ,  盐谷健夫

IPC: C08F20/22 ,  G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0046 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/322 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40

Abstract: 本发明的目的在于提供：新型的含氟聚合物、以及液浸曝光用的感放射线性树脂组合物、以及含氟聚合物的精制方法，其中所说的液浸曝光用的感放射线性树脂组合物含有该聚合物，得到的图案形状良好，焦深优良，且在液浸曝光时在所接触的水中的溶出物的量少，抗蚀剂被膜与水的后退接触角大。本发明的树脂组合物中含有：由上述通式(1)和(2)表示的重复单元、且Mw为1000～50000的新型含氟聚合物(A)；含有酸不稳定基团的树脂(B)；感放射线性酸发生剂(C)；含氮化合物(D)以及溶剂(E)。