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公开(公告)号：CN103903962B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201310430739.1
申请日：2013-09-18
Applicant: 第一毛织株式会社
IPC: H01L21/027 , H01L21/02 , H01L21/311
CPC classification number: H01L23/564 , H01L21/02118 , H01L21/02282 , H01L21/0271 , H01L21/0332 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 本发明公开了一种硬掩模组合物和形成图案的方法以及包括该图案的半导体集成电路器件。该硬掩模组合物，其包含：（A）由以下化学式1表示的用于硬掩模组合物的单体，（B）含芳环的聚合物，以及（C）溶剂。在以下化学式1中，A、A′、A″、L、L′、x、y、和z均与说明书中限定的相同。[化学式1]
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公开(公告)号：CN104812729A
公开(公告)日：2015-07-29
申请号：CN201380059507.8
申请日：2013-06-04
Applicant: 第一毛织株式会社
CPC classification number: C07C39/14 , C07C33/26 , C07C39/12 , C07C43/23 , C07C2603/50 , C07C2603/52 , C07C2603/54 , C09D173/00 , G03F7/0752 , G03F7/09 , G03F7/094 , G03F7/11 , G03F7/40 , H01L21/02118 , H01L21/02282 , H01L21/0274 , H01L21/31144
Abstract: 本发明涉及硬屏蔽组成物用的以化学式1表示的单体、包含此单体的硬屏蔽组成物及使用此硬屏蔽组成物形成图案的方法。于化学式1，A1至A3、X1至X3、L1、L2、n及m是与说明书中所述的相同。
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公开(公告)号：CN104024941A
公开(公告)日：2014-09-03
申请号：CN201280065651.8
申请日：2012-11-23
Applicant: 第一毛织株式会社
IPC: G03F7/11 , G03F7/004 , G03F7/00 , H01L21/027 , G03F7/26
CPC classification number: G03F7/094 , G03F7/0752 , G03F7/09 , G03F7/091 , G03F7/40 , H01L21/0276 , H01L21/0332
Abstract: 本发明涉及一种用于形成硬掩模的组合物，其包括溶剂和包含由式1和2表示的重复单元的共聚物，一种利用其形成图案的方法，以及一种包括通过所述方法形成的图案的半导体集成电路装置。
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公开(公告)号：CN101462957A
公开(公告)日：2009-06-24
申请号：CN200810184087.7
申请日：2008-12-17
Applicant: 第一毛织株式会社
IPC: C07C69/54 , C08F220/18 , C08F222/14 , C08F220/30 , G03F7/028
CPC classification number: C07C69/54 , C07C2603/24 , G03F7/0397
Abstract: 本发明涉及一种芳族(甲基)丙烯酸酯化合物和一种光敏聚合物、以及一种抗蚀剂组合物。芳族(甲基)丙烯酸酯化合物是由右边化学式1表示的具有α－羟基的芳族(甲基)丙烯酸酯。在右边化学式1中，每种取代基与在说明书中的限定相同。本发明的芳族(甲基)丙烯酸酯化合物光敏聚合物在光刻工艺中具有对于底层极好的粘合特性和极好的抗干蚀刻性，并且因此可以用来制备具有极好光刻特性的抗蚀剂组合物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104718497B
公开(公告)日：2019-03-19
申请号：CN201380053489.2
申请日：2013-09-02
Applicant: 第一毛织株式会社
Abstract: 揭示硬罩幕组成物以及使用硬罩幕组成物的图案形成方法。硬罩幕组成物包括由下列化学式1表示的高分子、由下列化学式2表示的单体以及溶剂，其中所包含的单体的含量等同于或高于高分子的含量。一实施例的硬罩幕组成物确保耐热性以及耐蚀刻性，且满足填沟特性。
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公开(公告)号：CN104024940B
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：CN201280065648.6
申请日：2012-11-29
Applicant: 第一毛织株式会社
IPC: G03F7/11 , G03F1/38 , G03F7/004 , G03F7/26 , H01L21/027
CPC classification number: C07C39/21 , C07C39/225 , C08G65/38 , G03F1/00 , G03F7/094 , G03F7/20 , H01L21/02118 , H01L21/02282 , H01L21/0332 , H01L21/31144
Abstract: 本发明涉及一种由式1表示的用于硬掩模组合物的单体、包含该单体的硬掩模组合物、以及使用该硬掩模组合物形成图案的方法。
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公开(公告)号：CN104768912B
公开(公告)日：2017-11-14
申请号：CN201380056460.X
申请日：2013-03-19
Applicant: 第一毛织株式会社
IPC: C07C49/792 , G03F7/004
CPC classification number: G03F7/027 , C07C49/788 , C07C49/792 , C07C49/796 , C07C49/798 , C07C49/83 , C07C49/835 , G03F7/091 , G03F7/094 , G03F7/11 , G03F7/16 , G03F7/30 , G03F7/36
Abstract: 本发明是关于一种由化学式1表示的硬掩膜组成物用单体、一种含括所述单体的硬掩膜组成物，及一种使用所述硬掩膜组成物形成图案的方法。由所述硬掩膜组成物形成的薄层具有对抗蚀刻气体的充分的耐蚀刻性且因而具有更低的蚀刻速率。
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公开(公告)号：CN103896736B
公开(公告)日：2017-06-23
申请号：CN201310300799.1
申请日：2013-07-17
Applicant: 第一毛织株式会社
CPC classification number: C07C33/26 , C07C43/23 , G03F7/0752 , G03F7/09 , G03F7/40
Abstract: 本发明公开了用于硬掩模组合物的单体和包含单体的硬掩模组合物及使用硬掩模组合物形成图案的方法。用于硬掩模组合物的单体，由下面化学式1表示，其中在化学式1中，A0、A1、A2、L1、L1′、L2、L2′、X1、X2、m和n与具体实施方式中相同。[化学式1]
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公开(公告)号：CN104812729B
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201380059507.8
申请日：2013-06-04
Applicant: 第一毛织株式会社
CPC classification number: C07C39/14 , C07C33/26 , C07C39/12 , C07C43/23 , C07C2603/50 , C07C2603/52 , C07C2603/54 , C09D173/00 , G03F7/0752 , G03F7/09 , G03F7/094 , G03F7/11 , G03F7/40 , H01L21/02118 , H01L21/02282 , H01L21/0274 , H01L21/31144
Abstract: 本发明涉及硬屏蔽组成物用单体、包含此单体的硬屏蔽组成物及使用此硬屏蔽组成物形成图案的方法。该硬屏蔽组成物用单体以下列化学式1表示，其耐热性及耐蚀刻性与对溶剂的可溶性、间隙填充特征及平坦化特征可被确保。[化学式1]于化学式1，A1至A3、X1至X3、L1、L2、n及m是与说明书中所述的相同。
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