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公开(公告)号：CN105073941B
公开(公告)日：2018-01-30
申请号：CN201480009943.9
申请日：2014-02-14
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C09K3/14 , B24B37/00 , H01L21/304
CPC classification number: B24B37/044 , C09G1/02 , C09K3/1463 , H01L21/02024 , H01L21/30625 , C08L29/04 , C08K3/36 , C08L33/24 , C08L39/06 , C08K3/28
Abstract: 提供一种包含磨粒、水溶性聚合物和水的研磨用组合物。上述水溶性聚合物包含：根据规定的吸附比测定得到的吸附比小于5％的聚合物A、和该吸附比为5％以上且小于95％的聚合物B。此处，上述聚合物B选自羟乙基纤维素以外的聚合物。
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公开(公告)号：CN105051145A
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：CN201480017289.6
申请日：2014-03-14
Applicant: 福吉米株式会社
CPC classification number: C09G1/02 , C08F216/06 , C09G1/16 , C09K3/1436 , C09K3/1454 , H01L21/02024
Abstract: 本发明提供包含水溶性聚合物的研磨用组合物、利用规定的方法求出的蚀刻速率及磨粒吸附率分别在规定的范围的研磨用组合物，其中，所述水溶性聚合物具有包含SP值不同的多种重复单元的分子结构。此外，本发明还提供一种研磨用组合物制造方法，其为使用磨粒、碱性化合物、水溶性聚合物H及水来制造研磨用组合物的方法，所述水溶性聚合物H具有在碱性条件下表现出水解反应性的官能团，该方法包括如下工序：准备至少包含前述碱性化合物的A剂的工序；和准备至少包含前述水溶性聚合物H的B剂的工序。
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公开(公告)号：CN104995277A
公开(公告)日：2015-10-21
申请号：CN201480008802.5
申请日：2014-02-10
Applicant: 福吉米株式会社
CPC classification number: C09G1/02 , B24B37/044 , C09K3/1436 , C09K3/1463 , H01L21/02024 , H01L21/02052
Abstract: 提供一种包含磨粒、水溶性聚合物和水的研磨用组合物。上述研磨用组合物在上述磨粒的含量为0.2质量％的浓度时，利用动态光散射法测定的上述研磨用组合物中含有的颗粒的体积平均粒径DA为20nm～60nm。
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公开(公告)号：CN102161879A
公开(公告)日：2011-08-24
申请号：CN201110031268.8
申请日：2011-01-25
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C09K3/14 , C09G1/02 , H01L21/768 , H01L21/321
CPC classification number: C09G1/02 , C09G1/04 , H01L21/3212
Abstract: 本发明是一种研磨用组合物以及使用该研磨用组合物的研磨方法。本发明提供除了可以改善研磨后的研磨对象物的平坦性之外，还可以减少由于研磨而在研磨对象物上产生的表面缺陷的研磨用组合物，本发明的研磨用组合物含有氧化剂、防腐蚀剂和由化学式1所示的化合物构成的表面活性剂。化学式1的R1～R5中的1个～3个为烷基、炔基、烯基、芳基或芳基亚烷基，一个为氢原子或碳原子数为1～9的烷基，剩其余的为氢原子，O-R6为氧基亚乙基、氧基亚丙基、或氧基亚乙基与氧基亚丙基的无规或嵌段结合物，n为1以上的整数，X为OSO3-基、OPO32-基或OH基。
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公开(公告)号：CN111954705B
公开(公告)日：2021-11-30
申请号：CN201980023577.5
申请日：2019-02-21
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C09K3/14 , H01L21/304 , B24B37/04
Abstract: 本发明提供一种手段，其即使将研磨用组合物以浓缩液的状态长期间保管，也可以稳定地维持固定的研磨率。本发明为包含磨粒、碱性化合物、有机物和水的研磨用组合物，涉及通过下述式(1)测定的前述研磨用组合物的浓缩液的磨粒吸附参数不足15％的研磨用组合物，此处，C0为前述研磨用组合物的浓缩液所包含的全部有机碳量(重量ppm)，C1为对前述研磨用组合物的浓缩液进行离心分离处理而使前述磨粒沉淀，回收上清液，前述上清液所包含的全部有机碳量(重量ppm)。磨粒吸附参数(％)＝[(C0‑C1×(100‑A/2.2)/100)/C0)]×100(1)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111954705A
公开(公告)日：2020-11-17
申请号：CN201980023577.5
申请日：2019-02-21
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C09K3/14 , H01L21/304 , B24B37/04
Abstract: 本发明提供一种手段，其即使将研磨用组合物以浓缩液的状态长期间保管，也可以稳定地维持固定的研磨率。本发明为包含磨粒、碱性化合物、有机物和水的研磨用组合物，涉及通过下述式(1)测定的前述研磨用组合物的浓缩液的磨粒吸附参数不足15％的研磨用组合物，此处，C0为前述研磨用组合物的浓缩液所包含的全部有机碳量(重量ppm)，C1为对前述研磨用组合物的浓缩液进行离心分离处理而使前述磨粒沉淀，回收上清液，前述上清液所包含的全部有机碳量(重量ppm)。磨粒吸附参数(％)＝[(C0‑C1×(100‑A/2.2)/100)/C0)]×100 (1)。
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公开(公告)号：CN106663619B
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：CN201580033443.3
申请日：2015-06-17
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: H01L21/304 , H01L21/306 , H01L21/02 , B24B37/04 , B24B37/24 , C09K3/14
Abstract: 本发明提供降低雾度的性能优异、并且聚集性低的硅晶圆研磨用组合物。此处提供的硅晶圆研磨用组合物包含含酰胺基聚合物A和不含酰胺基的有机化合物B。含酰胺基聚合物A在主链中具有源自下述通式(1)所示的单体的结构单元S。另外，含酰胺基聚合物A的分子量MA与有机化合物B的分子量MB的关系满足下式：200≤MB
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公开(公告)号：CN108699425A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201680079331.6
申请日：2016-12-16
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C09K3/14 , B24B37/00 , C09G1/02 , H01L21/304
CPC classification number: B24B37/044 , B24B37/00 , C09G1/02 , C09K3/14 , H01L21/304 , H01L21/30625
Abstract: 提供能实现具有平滑性和低缺陷性的被研磨面的研磨用组合物。研磨用组合物含有满足条件(A)及(B)的水溶性高分子。条件(A)：在包含平均一次粒径35nm的二氧化硅、水溶性高分子、氨、及水、且二氧化硅的浓度为0.48质量％、水溶性高分子的浓度为0.0125质量％、pH为10.0的第一标准液中，吸附于二氧化硅的水溶性高分子的量相对于第一标准液中含有的水溶性高分子的总量的比率即吸附率为10％以上。条件(B)：在包含平均一次粒径35nm的二氧化硅、水溶性高分子、氨、及水、且二氧化硅的浓度为0.48质量％、水溶性高分子的浓度为0.0125质量％、pH为10.4的第二标准液中，吸附于二氧化硅的水溶性高分子的量相对于第二标准液中含有的水溶性高分子的总量的比率即吸附率为65％以下。
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公开(公告)号：CN119998927A
公开(公告)日：2025-05-13
申请号：CN202380069212.2
申请日：2023-09-26
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: H01L21/304 , B24B37/00 , C09G1/02 , C09K3/14
Abstract: 提供在包含纤维素衍生物的组成方面有效降低研磨后的表面缺陷的研磨用组合物、基板保护剂和它们的制造方法。提供一种研磨用组合物的制造方法，其中，所述研磨用组合物包含磨粒、碱性化合物、纤维素衍生物和表面活性剂。上述制造方法包括：工序(A)，其将原料纤维素衍生物溶解于溶剂而制作原料纤维素衍生物溶液，上述制造方法还包括以下的工序：工序(B1)，其将原料纤维素衍生物溶液加热，以及工序(B2)，其向历经工序(B1)后的原料纤维素衍生物溶液中添加原料表面活性剂；或者，工序(C1)，其向原料纤维素衍生物溶液中添加原料表面活性剂而制作添加剂混合液，以及工序(C2)，其将添加剂混合液加热。
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