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公开(公告)号：CN107429146A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：CN201680011796.8
申请日：2016-02-12
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C09K3/14 , B24B37/00 , C09G1/02 , H01L21/304
CPC classification number: C09G1/02 , B24B37/044 , C09K3/1409 , C09K3/1463
Abstract: 本发明涉及一种研磨用组合物，其特征在于，其用于研磨包含金属或半金属的氧化物或者它们的复合材料的研磨对象物的表面，且至少含有水和二氧化硅，二氧化硅包含粒径为20nm以上且70nm以下的小粒径二氧化硅和粒径为100nm以上且200nm以下的大粒径二氧化硅，小粒径二氧化硅在前述研磨用组合物中含有2质量％以上，大粒径二氧化硅在研磨用组合物中含有2质量％以上，大粒径二氧化硅的平均粒径除以小粒径二氧化硅的平均粒径的值为2以上。
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公开(公告)号：CN106281221B
公开(公告)日：2017-11-03
申请号：CN201610663520.X
申请日：2016-08-12
Applicant: 福吉米株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够以充分的研磨速度对合金、金属氧化物的表面进行研磨且能够获得高品质的镜面的研磨材料、研磨用组合物及研磨方法。所述研磨材料含有α化率为80％以上且体积基准的累积粒径分布中的50％粒径为0.15μm以上且0.35μm以下的氧化铝。研磨用组合物含有该研磨材料且pH为7以下。该研磨材料及研磨用组合物用于含有合金和金属氧化物中的至少一者的研磨对象物的研磨。
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公开(公告)号：CN107109195A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201580071187.7
申请日：2015-11-26
Applicant: 福吉米株式会社
CPC classification number: C09G1/02 , B24B37/00 , B24B37/044 , C04B41/91 , C09K3/1409 , C09K3/1463
Abstract: 提供廉价且可对陶瓷进行高品质的镜面精加工的研磨用组合物。一种研磨用组合物，其含有由碳化物形成的磨粒，且用于研磨陶瓷。
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公开(公告)号：CN106281221A
公开(公告)日：2017-01-04
申请号：CN201610663520.X
申请日：2016-08-12
Applicant: 福吉米株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够以充分的研磨速度对合金、金属氧化物的表面进行研磨且能够获得高品质的镜面的研磨材料、研磨用组合物及研磨方法。所述研磨材料含有α化率为80％以上且体积基准的累积粒径分布中的50％粒径为0.15μm以上且0.35μm以下的氧化铝。研磨用组合物含有该研磨材料且pH为7以下。该研磨材料及研磨用组合物用于含有合金和金属氧化物中的至少一者的研磨对象物的研磨。
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公开(公告)号：CN105018030A
公开(公告)日：2015-11-04
申请号：CN201510176717.6
申请日：2015-04-14
Applicant: 福吉米株式会社
Abstract: 本发明提供一种研磨用组合物，其在对表面包含合金材料和树脂、且前述合金材料的面积相对于前述研磨面积整体之比处于特定范围的基板进行研磨时，降低合金材料的研磨速度与树脂的研磨速度之差，可以以高研磨速度一同研磨合金材料和树脂，进而，研磨后的基板表面的平滑性优异，可以得到具有高光泽的表面的基板。一种研磨用组合物，其用于研磨表面包含合金材料和树脂、且前述合金材料的面积相对于研磨面积整体之比为60～95％的基板的用途，其中，所述研磨用组合物包含基于体积基准的粒度分布的累积50％粒径(D50)为5.0μm以上的结晶性磨粒、和酸或其盐、和水溶性高分子。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104919076A
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：CN201380070851.7
申请日：2013-11-27
Applicant: 福吉米株式会社
CPC classification number: C23C16/40 , B24B37/042 , C09G1/02 , C09K3/1409 , C23C4/11 , C23C4/134 , C23C4/18 , C23C14/08 , C23C30/00 , Y10T428/24355
Abstract: 提供一种具备具有与以往不同的质感的新型表面的物品。由本发明提供的带有含金属氧化物的膜的物品具备基材、以及在该基材的表面设置的含金属氧化物的膜，前述含金属氧化物的膜的维氏硬度为350以上、表面粗糙度Ra为300nm以下、且20°光泽度值为50以上。
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公开(公告)号：CN104903052A
公开(公告)日：2015-09-09
申请号：CN201380069121.5
申请日：2013-12-26
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: B24B37/00
Abstract: 本发明的合金材料的研磨方法的特征在于，所述合金材料包含主成分和0.5质量％以上与前述主成分的维氏硬度(HV)相差5以上的副成分的元素，该方法中，使用含有磨粒和含氧酸系氧化剂的研磨用组合物对前述合金材料的表面进行研磨。前述合金材料的主成分优选为选自铝、钛、铁、镍和铜的至少1种。前述合金材料的主成分优选为铝，副成分的元素优选为选自硅、镁、铁、铜和锌的至少1种。研磨方法优选包括在使用研磨用组合物对合金材料进行研磨前，使用预磨用组合物对合金材料进行预磨的工序。
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公开(公告)号：CN105829097B
公开(公告)日：2018-06-26
申请号：CN201480068374.5
申请日：2014-12-04
Applicant: 福吉米株式会社
Abstract: 本发明提供具备色彩和金属光泽的新型构成的带有金属氧化物膜的物品。此处公开的带有金属氧化物膜的物品的特征在于，其具备：由金属材料形成的基材、和覆盖该基材的表面的由金属氧化物形成的金属氧化物膜，前述金属氧化物膜通过使用由前述金属氧化物形成的颗粒对前述基材的表面进行研磨而形成。
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公开(公告)号：CN104471016B
公开(公告)日：2018-06-22
申请号：CN201380037667.2
申请日：2013-07-16
Applicant: 福吉米株式会社
CPC classification number: C09K3/1436 , B24B37/00 , C09K3/1409 , G11B5/8404
Abstract: 本发明提供一种用于研磨合金材料的用途的合金材料研磨用组合物。合金材料含有：主成分的第1金属种、以及与前述第1金属种不同种类且具有比前述第1金属种的标准电极电位高的标准电极电位的第2金属种。合金材料研磨用组合物含有与碳键合的官能团能捕捉前述第2金属种的化合物。
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公开(公告)号：CN107708926A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：CN201680038710.0
申请日：2016-05-18
Applicant: 福吉米株式会社
CPC classification number: B24B29/02 , B24B37/22 , B24B37/24 , B24B37/26 , B32B5/12 , B32B5/245 , B32B27/36 , B32B2305/22 , B32B2307/72 , B32B2307/732
Abstract: 本发明提供一种研磨垫，其在对表面具有凸部和凹部中的至少一者的研磨对象物进行研磨时，能够充分研磨至研磨对象物的表面中凸部的附近部分、凹部的内表面。研磨垫具有立毛部(1)，所述立毛部(1)是多个长度为2mm以上的纤维(12)在基部(11)的表面立起而成的，纤维(12)的质量为250g/m2以上。该研磨垫用于含有金属、合金、或者金属氧化物材料、且表面具有凸部(21)和凹部(22)中的至少一者的研磨对象物(2)的研磨。
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