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公开(公告)号：CN104335331B
公开(公告)日：2016-09-14
申请号：CN201380026779.8
申请日：2013-03-26
Applicant: 日立化成株式会社
IPC: H01L21/304 , B24B37/00 , C09K3/14
CPC classification number: C09G1/02 , C01B33/12 , C09K3/1436 , C09K3/1463 , H01L21/31053
Abstract: 一种含有磨粒、添加剂和水的悬浮液，磨粒含有4价金属元素的氢氧化物，并且，在将该磨粒的含量调节至1.0质量％的水分散液中，使该水分散液对波长400nm的光的吸光度为1.00以上，并且，在将所述磨粒的含量调节至1.0质量％的水分散液中，使该水分散液对波长500nm的光的透光率在50％/cm以上，将所述磨粒的含量调节至1.0质量％的水分散液的N03‑浓度、与将该水分散液以60℃保持72小时后的N03‑浓度的差为200ppm以下。
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公开(公告)号：CN104582899A
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CN201380045013.4
申请日：2013-07-30
Applicant: 日立化成株式会社
IPC: B24B37/00 , C09K3/14 , H01L21/304
CPC classification number: C09G1/02 , B24B37/044 , C01F17/0043 , C01P2002/84 , C01P2004/64 , C09K3/1409 , C09K3/1463 , H01L21/31053 , H01L21/76224 , C09K3/14
Abstract: 本发明的一个实施方式涉及的研磨剂含有：液态介质、含4价金属元素的氢氧化物的磨粒、具有芳香环及聚氧化烯链的高分子化合物、以及阳离子性聚合物，其中，高分子化合物的重均分子量在1000以上。
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公开(公告)号：CN104321854B
公开(公告)日：2017-06-20
申请号：CN201380026259.7
申请日：2013-03-26
Applicant: 日立化成株式会社
IPC: H01L21/3105 , B24B37/04 , C09K3/14 , C01B33/12 , C09G1/02
CPC classification number: B24B37/044 , C01B33/12 , C09G1/02 , C09K3/1436 , C09K3/1463 , H01L21/304 , H01L21/31053
Abstract: 一种含有磨粒、添加剂和水的研磨液，磨粒含有4价金属元素的氢氧化物，并且，在将该磨粒的含量调节至1.0质量％的水分散液中，使该水分散液对波长400nm的光的吸光度为1.00以上、小于1.50。
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公开(公告)号：CN104334675B
公开(公告)日：2016-10-26
申请号：CN201380026857.4
申请日：2013-03-26
Applicant: 日立化成株式会社
IPC: C09K3/14 , C09G1/02 , B24B37/04 , H01L21/3105
CPC classification number: C09G1/02 , B24B37/044 , C09K3/1436 , C09K3/1463 , H01L21/304 , H01L21/31053
Abstract: 一种含有磨粒、添加剂和水的悬浮液，所述磨粒含有4价金属元素的氢氧化物，并且，在将该磨粒的含量调节至1.0质量％的水分散液中，所述磨粒使该水分散液对波长400nm的光的吸光度为1.00以上、小于1.50，并且，在以离心加速度1.59×105G对将所述磨粒的含量调节至1.0质量％的水分散液进行50分钟离心分离时获得不挥发成分含量为300ppm以上的液相。
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公开(公告)号：CN104335331A
公开(公告)日：2015-02-04
申请号：CN201380026779.8
申请日：2013-03-26
Applicant: 日立化成株式会社
IPC: H01L21/304 , B24B37/00 , C09K3/14
CPC classification number: C09G1/02 , C01B33/12 , C09K3/1436 , C09K3/1463 , H01L21/31053
Abstract: 一种含有磨粒、添加剂和水的悬浮液，磨粒含有4价金属元素的氢氧化物，并且，在将该磨粒的含量调节至1.0质量％的水分散液中，使该水分散液对波长400nm的光的吸光度为1.00以上，并且，在将所述磨粒的含量调节至1.0质量％的水分散液中，使该水分散液对波长500nm的光的透光率在50％/cm以上，将所述磨粒的含量调节至1.0质量％的水分散液的N03-浓度、与将该水分散液以60℃保持72小时后的N03-浓度的差为200ppm以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103339219B
公开(公告)日：2015-01-14
申请号：CN201280006424.8
申请日：2012-01-20
Applicant: 日立化成株式会社
IPC: C09G1/02 , C09K3/14 , B24B37/04 , H01L21/3105
CPC classification number: C09G1/02 , B24B37/044 , C09K3/1463 , H01L21/30625 , H01L21/31053
Abstract: 本发明的CMP研磨液包含水及磨粒，磨粒含有复合粒子，所述复合粒子含有包含第1粒子的核心和设置于该核心上的第2粒子，第1粒子含有二氧化硅，第2粒子含有氢氧化铈，CMP研磨液的pH为9.5以下。
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公开(公告)号：CN103339219A
公开(公告)日：2013-10-02
申请号：CN201280006424.8
申请日：2012-01-20
Applicant: 日立化成株式会社
IPC: C09K3/14 , B24B37/04 , H01L21/3105
CPC classification number: C09G1/02 , B24B37/044 , C09K3/1463 , H01L21/30625 , H01L21/31053
Abstract: 本发明的CMP研磨液包含水及磨粒，磨粒含有复合粒子，所述复合粒子含有包含第1粒子的核心和设置于该核心上的第2粒子，第1粒子含有二氧化硅，第2粒子含有氢氧化铈，CMP研磨液的pH为9.5以下。
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公开(公告)号：CN108831830A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：CN201810916995.4
申请日：2013-02-14
Applicant: 日立化成株式会社
IPC: H01L21/304 , B24B37/00 , C09K3/14
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1436 , C09K3/1463 , H01L21/30625 , H01L21/31053 , H01L21/76224
Abstract: 本发明涉及的研磨剂含有：水、包含四价金属元素的氢氧化物的磨粒、聚亚烷基二醇和阳离子性聚合物，其中，阳离子性聚合物选自由烯丙基胺聚合物、二烯丙基胺聚合物、乙烯基胺聚合物和乙烯亚胺聚合物构成的组群中的至少一种。
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公开(公告)号：CN104321852B
公开(公告)日：2016-12-28
申请号：CN201380026398.X
申请日：2013-03-26
Applicant: 日立化成株式会社
IPC: H01L21/304 , B24B37/00 , C09K3/14
CPC classification number: C09G1/02 , B24B37/044 , C01B33/113 , C09K3/1436 , C09K3/1463 , H01L21/31053
Abstract: 一种含有磨粒和水的悬浮液，所述磨粒含有4价金属元素的氢氧化物，并且，在将该磨粒的含量调节至1.0质量％的水分散液中，所述磨粒使该水分散液对波长400nm的光的吸光度为1.00以上、小于1.50，并且，在以离心加速度1.59×105G对将该磨粒的含量调节至1.0质量％的水分散液进行50分钟离心分离时获得的液相中，所述磨粒使该液相对波长400nm的光的吸光度为0.035以上。
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公开(公告)号：CN103374330B
公开(公告)日：2015-10-14
申请号：CN201310317864.1
申请日：2011-11-21
Applicant: 日立化成株式会社
IPC: C09K3/14
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463 , C09K13/00 , H01L21/31053
Abstract: 根据本发明涉及的磨粒的制造方法，将所述4价金属元素的盐的水溶液与碱液，在规定的参数在5.00以上的条件下混合，得到含有4价金属元素的氢氧化物的磨粒。
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