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公开(公告)号：CN110603434A
公开(公告)日：2019-12-20
申请号：CN201880029676.X
申请日：2018-05-09
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 萨姆尔·班纳 , 吴冬 , 梅迪·瓦泽-艾拉瓦尼 , 瓦赫布·比沙拉
Abstract: 一种用于弹性检验样品的方法包括以下步骤：使用射束源形成输入射束；使用输入掩模来阻挡所述输入射束的一部分；及从所述输入射束的一部分形成定形射束。在物镜的第一部分处接收所述定形射束及将所述定形射束聚焦到样品上。在所述物镜的第二部分处收集反射射束。在所述物镜的所述第一部分及所述第二部分处及在所述物镜的第三部分处收集散射光。在暗视野检测器模块处接收所述散射光，且将所述散射光的一部分引导到暗视野检测器。所述暗视野检测器模块包括具有一或多个输出孔的输出掩模，所述一或多个输出孔允许所述散射光穿过所述物镜的所述第三部分的至少一部分穿过而作为所述散射光被引导到所述暗视野检测器的所述部分。
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公开(公告)号：CN109075095A
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201780021891.0
申请日：2017-05-23
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/66 , H01L21/683 , H01L21/67
Abstract: 提供了一种用于处理基板的系统。所述系统包括：处理腔室，包括封闭处理区域的一个或多个侧壁；以及基板支撑件。所述系统进一步包括：通道，连接到处理腔室；以及第一颗粒检测器，设置在沿着所述通道的第一位置处。第一颗粒检测器包括：能源，被构造为发射第一射束；一个或多个光学器件，被构造为沿着一个或多个路径引导所述第一射束，其中所述一个或多个路径延伸穿过通道的至少一部分。第一颗粒检测器进一步包括：第一能量检测器，设置在不同于一个或多个路径上的位置处。所述系统进一步包括：控制器，被构造为与第一颗粒检测器通信，其中所述控制器被构造为基于从第一颗粒检测器接收的信号来识别故障。
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公开(公告)号：CN119923707A
公开(公告)日：2025-05-02
申请号：CN202380069890.9
申请日：2023-09-25
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 埃里克·进鸿·黃 , 托德·J·伊根 , 梅迪·瓦泽-艾拉瓦尼
Abstract: 一种系统包括：辐射源，被配置为发射辐射束。所述系统进一步包括：第一光学传感器，被配置为检测从物体的表面反射的所述辐射束的第一部分的第一强度。所述系统进一步包括：第二光学传感器，被配置为检测由所述物体的所述表面散射的所述辐射束的第二部分的第二强度。所述系统进一步包括：处理设备，与所述第一光学传感器和所述第二光学传感器通信耦合。所述处理设备被配置为基于所述第一强度和所述第二强度的比较，确定所述物体的所述表面的粗糙度或发射率中的至少一者。
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公开(公告)号：CN119866505A
公开(公告)日：2025-04-22
申请号：CN202380065358.X
申请日：2023-07-28
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 约瑟夫·R·约翰逊 , 郦昂 , 简·M·F·C·曾敏贞 , 梅迪·瓦泽-艾拉瓦尼
Abstract: 一种用于捕获生物组织样本的空间组学图像的成像系统，可包括：被配置为固定放置于成像系统中的生物组织样本的成像腔室；包含至少一个扫描线的时延及积分（TDI）成像器；被配置为照射生物组织样本上的正被该TDI成像器捕获的区域的光源；及被配置为使得该TDI成像器使用生物组织样本的一个或多个TDI扫描来扫描该生物组织样本的控制器。
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公开(公告)号：CN117296138A
公开(公告)日：2023-12-26
申请号：CN202280034732.5
申请日：2022-04-22
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 赵国衡 , 文卡塔考西克·沃尔提 , 托德·J·伊根 , 凯尔·R·坦蒂翁 , 安德烈亚斯·舒尔茨 , 尼兰詹·拉姆钱德拉·哈斯基瓦莱 , 梅迪·瓦泽-艾拉瓦尼
IPC: H01L21/66
Abstract: 使用基于图像的原位处理监测技术监测蚀刻或沉积处理的方法和系统包括照射布置在处理腔室中的样品上的测量区域。使用远离处理腔室产生并通过第一光纤传输到处理腔室的第一观察窗的输入光束照射测量区域。从测量区域反射的第一输入光束的部分通过第二光纤从第一观察窗传输到成像传感器。在成像传感器处获得一系列图像，并确定每个图像内的像素的反射率的变化。基于反射率的变化监测蚀刻或沉积处理。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112782941A
公开(公告)日：2021-05-11
申请号：CN202011231914.0
申请日：2020-11-06
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 梅迪·瓦泽-艾拉瓦尼 , 克里斯多弗·丹尼斯·本彻 , 克里希纳·斯雷兰姆巴特拉 , 侯赛因·法瓦兹 , 莱奥·恩格尔 , 罗伯特·珀尔穆特
IPC: G03F7/20
Abstract: 公开了一种操作多小束带电粒子装置的方法。在所述方法中，平移附接到台的靶，并且重复选择小束、初始化小束和使靶曝光的每个步骤。选择小束的步骤包括使可重新配置的多个所选择的小束通过消隐电路。初始化小束的步骤包括使所选择的小束中的每一个指向在初始方向上。使靶曝光的步骤包括使所选择的小束中的每一个从初始方向扫描到最终方向，并且用所选择的小束辐照在台上的靶的多个区域。
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公开(公告)号：CN112185833A
公开(公告)日：2021-01-05
申请号：CN202010624217.5
申请日：2020-07-01
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 梅迪·瓦泽-艾拉瓦尼 , 托德·J·伊根 , 凯尔·罗斯·坦蒂旺
Abstract: 公开的实施方式描述了一种系统，该系统包括：沉积腔室；产生入射光束的光源，其中该入射光束用于照射沉积腔室的区域；和相机，收集源自沉积腔室的照射区域的散射光，其中当第一入射光束与沉积腔室的照射区域内的微粒相互作用时，产生散射光。所描述的系统可以可选地具有处理装置，耦接于所述相机，以产生照射区域的多个位置的散射数据，其中每个位置的散射数据包括源自该位置的散射光的强度。
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公开(公告)号：CN109075093A
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201780020187.3
申请日：2017-03-30
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 梅迪·瓦泽-艾拉瓦尼 , 托德·伊根 , 班纳·萨姆尔 , 凯尔·坦蒂旺
IPC: H01L21/66
Abstract: 本公开内容的实施方式提供用于检查和处理基板的方法和系统。在一个实施方式中，提供一种方法，所述方法包括：将第一多个束从衍射分束器传输到基板的第一表面以产生第二多个束的反射，其中第一多个束在到达基板的第一表面时彼此间隔开；在光学装置的记录表面上接收第二多个束，其中第二多个束在到达记录表面时彼此间隔开；测量在记录表面上的第二多个束的位置信息；将第二多个束的位置信息与存储在存储器中的位置信息进行比较；和将比较的结果存储在存储器中。
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公开(公告)号：CN108885092A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201780019443.7
申请日：2017-03-09
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 梅迪·瓦泽-艾拉瓦尼 , 托德·伊根 , 萨姆尔·班纳 , 凯尔·坦蒂旺
Abstract: 本公开内容的实施方式提供了一种计量系统。在一个示例中，计量系统包括：激光源，适用于发射光束；透镜，适用于从激光源接收光束的至少一部分；第一分束器，定位为接收穿过透镜的光束的至少部分；第一束移位装置，适用于致使从分束器接收的光束的一部分被分为两个或更多个子光束；第一记录装置，具有检测表面；以及第一偏振器，定位在第一移位装置与第一记录装置之间，其中所述第一偏振器经配置以致使从第一移位装置提供的两个或更多个子光束在第一记录装置的检测表面上形成干涉图案。
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