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公开(公告)号:CN110100218A
公开(公告)日:2019-08-06
申请号:CN201780079680.2
申请日:2017-11-15
Applicant: 应用材料公司
Inventor: 徐明 , 苏斯汉特·S·科希特 , 迈克尔·R·赖斯 , 史蒂文·E·巴巴扬 , 詹妮弗·Y·孙
Abstract: 电子装置制造系统包括具有热流量传感器的质量流量控制器(MFC)。热流量传感器可测量质量流率并且可包括传感器管,所述传感器管具有涂覆有材料的内表面以形成内阻挡层。内阻挡层可防止或实质上减少在内表面上发生腐蚀性反应的可能性,此可防止或减少MFC漂移超出MFC的质量流率准确性规格的可能性。此可改善由MFC进行的流量检测的可重复性。亦提供了在电子装置制造系统中测量和控制质量流率的方法,其他方面也是如此。
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公开(公告)号:CN114174950B
公开(公告)日:2023-03-28
申请号:CN202080053778.2
申请日:2020-07-24
Applicant: 应用材料公司
IPC: G05D7/06
Abstract: 本文揭露了一种用于控制气体的流率的设备,包含经配置以限制气体的流率的流量限制元件;耦合到流量限制元件的入口的压力调节器,其中该压力调节器经配置以控制压力调节器和流量限制元件之间的气体压力;耦合至流量限制元件的出口的流量计,其中该流量计经配置以测量流量限制元件的出口处的气体的流率;和操作性地耦合至压力调节器和流量计的控制器,其中该控制器接收流量计的流率测量值、确定与目标流率相关联的压力设定、并使压力调节器具有压力设定。
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公开(公告)号:CN117730167A
公开(公告)日:2024-03-19
申请号:CN202180100447.4
申请日:2021-07-01
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C16/448 , C23C14/48 , H01J37/32
Abstract: 本公开内容涉及提供具有蒸发器及储存器(reservoir)的前驱物输送系统。该储存器包括与该蒸发器流体连通的上游端。储存器阀与该储存器的下游端流体连通,且最终阀设置于该储存器阀的下游。缓冲区界定在该储存器阀及该最终阀之间。第一气体入口耦接至该缓冲区。第一气体入口耦接至缓冲阀。
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公开(公告)号:CN116711057A
公开(公告)日:2023-09-05
申请号:CN202180090593.3
申请日:2021-12-10
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 示例性基板处理系统可以包括盖板。所述系统可包括安置在盖板上的气体分流器。气体分流器可限定多个气体入口和气体出口。气体出口的数量可以大于气体入口的数量。所述系统可包括与气体分流器对接的多个阀块。每个阀块可以限定多个气体管腔。气体管腔中的每一者的入口可以与气体出口中的一者流体连通。气体分流器和每个阀块之间的界面可以包括扼流器。所述系统可包括安置在盖板上的多个输出歧管。所述系统可以包括多个输出焊件,其可以将气体管腔中的一者的出口与输出歧管中的一者耦合。
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公开(公告)号:CN115885221A
公开(公告)日:2023-03-31
申请号:CN202180051320.8
申请日:2021-10-21
Applicant: 应用材料公司
IPC: G05B11/36
Abstract: 一种方法包括对于第一管道,接收第一压力值,第一压力值对应于耦合至此第一管道的第一阀的第一阀位置。此方法进一步包括对于与此第一管道平行地路由(route)的第二管道,接收第二压力值,第二压力值对应于耦合至此第二管道的第二阀的第二阀位置。此方法进一步包括基于此第一阀位置、此第一压力值、此第二阀位置和此第二压力值产生流体传导图。此方法进一步包括由处理装置基于配方和此流体传导图引起此第一阀处于第一阀位置且此第二阀处于第二阀位置,以用于此配方的工艺。
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公开(公告)号:CN114174950A
公开(公告)日:2022-03-11
申请号:CN202080053778.2
申请日:2020-07-24
Applicant: 应用材料公司
IPC: G05D7/06
Abstract: 本文揭露了一种用于控制气体的流率的设备,包含经配置以限制气体的流率的流量限制元件;耦合到流量限制元件的入口的压力调节器,其中该压力调节器经配置以控制压力调节器和流量限制元件之间的气体压力;耦合至流量限制元件的出口的流量计,其中该流量计经配置以测量流量限制元件的出口处的气体的流率;和操作性地耦合至压力调节器和流量计的控制器,其中该控制器接收流量计的流率测量值、确定与目标流率相关联的压力设定、并使压力调节器具有压力设定。
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