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公开(公告)号：CN1928496A
公开(公告)日：2007-03-14
申请号：CN200610128999.3
申请日：2006-09-06
Applicant: 富士通媒体部品株式会社 , 富士通株式会社
CPC classification number: G01C19/5607
Abstract: 本发明提供了一种角速度传感器。该角速度传感器包括感测角速度的振动器、以及安装有所述振动器的外壳。所述振动器布置在所述外壳中，以使得该振动器的宽度方向与所述外壳的长边方向一致。所述振动器可附着于所述外壳，以使得该振动器相对于垂直方向倾斜。
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公开(公告)号：CN1854684A
公开(公告)日：2006-11-01
申请号：CN200610078626.X
申请日：2006-04-26
Applicant: 富士通媒体部品株式会社 , 富士通株式会社
CPC classification number: G01C19/5607
Abstract: 一种角速度传感器，包括检测角速度的振动器和其上安装有该振动器的外壳。所述振动器沿着所述外壳的对角方向布置。所述角速度传感器包括支撑所述外壳的电路板。所述振动器附接在所述电路板上，以使得所述振动器相对于垂直方向以预定角度倾斜。
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公开(公告)号：CN1773292A
公开(公告)日：2006-05-17
申请号：CN200510084468.4
申请日：2005-07-08
Applicant: 富士通媒体部品株式会社 , 富士通株式会社
CPC classification number: G01P15/123 , G01P1/006 , G01P15/18
Abstract: 提供了一种加速度传感器，其抑制了偏移电压的波动并且具有改善的温度特性。该加速度传感器包括：形成在半导体基板中央的重物；形成在重物周边的框架；连接重物和框架的梁或隔膜；检测元件，其形成在梁或隔膜上并且检测与施加的加速度对应的梁或隔膜的弯曲；以及引线，形成在梁或隔膜上并且将所述检测元件的检测输出引导到设置在框架上的焊盘，其中，在梁或隔膜上形成包括与形成在梁或隔膜上的配线引线独立的多个点状图案的伪引线。
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公开(公告)号：CN100411076C
公开(公告)日：2008-08-13
申请号：CN03826489.7
申请日：2003-05-20
Applicant: 富士通株式会社
CPC classification number: H01H9/40 , H01H1/0036 , H01H9/42
Abstract: 电接点装置(X1)具有：第一接触件，其具有接点部(C1、C2)；第二接触件，其具有与接点部(C1)相对向的接点部(C3)及与接点部(C2)相对向的接点部(C4)；电路结构(Y1)，其并列设置有支路(YA)和支路(YB)，支路(YA)含有由接点部(C1、C3)构成的电接点(SA)，且在电接点(SA)的关闭状态下具有相对低的电阻，支路(YB)含有由接点部(C2、C4)构成的电接点(SB)，且在电接点(SB)的关闭状态下具有相对高的电阻。在第一接触件以及第二接触件接近的闭合动作中，在接点部(C2)与接点部(C4)接触之后，接点部(C1)与接点部(C3)接触。在第一接触件以及第二接触件分开的打开分离动作中，在接点部(C1)和接点部(C2)分离之后，接点部(C2)与接点部(C4)分离。
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公开(公告)号：CN100343949C
公开(公告)日：2007-10-17
申请号：CN200410069883.8
申请日：2004-07-15
Applicant: 富士通株式会社
CPC classification number: H01H59/0009 , B81B2201/016 , B81B2203/0127 , B81C1/00142 , B81C2201/0109
Abstract: 一种用于制造微开关元件的方法。该开关包括一衬底、两个固定到衬底的支撑构件、以及一桥接在支撑构件之间的活动梁。该梁包括一隔膜，一活动接触电极以及一活动驱动电极，活动接触电极和活动驱动电极都设置在隔膜上。该开关元件也包括一对面向活动接触电极的固定接触电极、以及一固定驱动电极，其与活动驱动电极一起用于产生静电力。该方法包括在衬底上制造牺牲层的步骤、在牺牲层上制造隔膜的步骤、以及通过隔膜介入蚀刻牺牲层的步骤，以便在衬底和隔膜之间牺牲层的剩余部分形成为支撑构件。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1771572A
公开(公告)日：2006-05-10
申请号：CN03826489.7
申请日：2003-05-20
Applicant: 富士通株式会社
CPC classification number: H01H9/40 , H01H1/0036 , H01H9/42
Abstract: 电接点装置(X1)具有：第一接触件，其具有接点部(C1、C2)；第二接触件，其具有与接点部(C1)相对向的接点部(C3)及与接点部(C2)相对向的接点部(C4)；电路结构(Y1)，其并列设置有支路(YA)和支路(YB)，支路(YA)含有由接点部(C1、C3)构成的电接点(SA)，且在电接点(SA)的关闭状态下具有相对低的电阻，支路(YB)含有由接点部(C2、C4)构成的电接点(SB)，且在电接点(SB)的关闭状态下具有相对高的电阻。在第一接触件以及第二接触件接近的闭合动作中，在接点部(C2)与接点部(C4)接触之后，接点部(C1)与接点部(C3)接触。在第一接触件以及第二接触件分开的打开分离动作中，在接点部(C1)和接点部(C2)分离之后，接点部(C2)与接点部(C4)分离。
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公开(公告)号：CN1716768A
公开(公告)日：2006-01-04
申请号：CN200510076089.0
申请日：2005-05-31
Applicant: 富士通媒体部品株式会社 , 富士通株式会社
Abstract: 压电薄膜谐振器和滤波器及其制造方法。一种压电薄膜谐振器，其包括：器件基板；以及层状体，设置在所述器件基板上，并由下电极、上电极，以及夹在该上电极和下电极之间的压电膜构成。该层状体具有膜部分，其中所述上电极通过所述压电膜与所述下电极彼此重叠，在所述器件基板和所述下电极之间形成穹顶形的间隙，并且该间隙位于该膜部分的下方。
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公开(公告)号：CN1677852A
公开(公告)日：2005-10-05
申请号：CN200510063776.9
申请日：2005-03-31
Applicant: 富士通媒体部品株式会社 , 富士通株式会社
CPC classification number: H03H3/04 , H03H9/02094 , H03H9/02149 , H03H9/174 , H03H9/564 , H03H9/568 , H03H2003/023 , H03H2003/0428
Abstract: 谐振器、滤波器以及谐振器的制造。该谐振器包括：设置在基板主表面上的压电薄膜；设置在压电薄膜的第一表面上的第一电极膜；设置在压电薄膜第二表面上的第二电极膜；设置在所述第一电极膜和所述第二电极膜其中之一上的频率调整膜；所述频率调整膜包括膜叠层，该膜叠层包括设置在第一电极膜和第二电极膜其中之一上的第一调整膜，以及设置在第一调整膜上的第二调整膜。第一调整膜用于Δf调整，第二调整膜用于校正滤波器制造工艺中生成的频率偏移。由此，可以准确地控制其中连接有多个谐振器的滤波器的中心频率。
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公开(公告)号：CN1677068A
公开(公告)日：2005-10-05
申请号：CN200510063778.8
申请日：2005-04-01
Applicant: 富士通媒体部品株式会社 , 富士通株式会社
CPC classification number: G01P15/123 , G01P15/18 , G01P21/00 , G01P2015/084
Abstract: 本发明提供用于具有多轴传感器的力传感器装置的应力检测方法和采用此方法的力传感器装置，所述力传感器装置的安装角度是任意的。该应力检测方法包括：检测轴相互正交的第一和第二力传感器。当第一力传感器的检测轴与被检测应力Ax的方向形成角度θ，并且在与被检测应力Ax的方向相垂直的方向上的应力分量是Az时，求得第一力传感器的轴方向的输出Apx为Apx＝αx(Ax×cosθ+Az×sinθ)，并且求得第二力传感器的轴方向的输出Apz为Apz＝αz(Ax×sinθ+Az×cosθ)，以及当αx和αz分别是第一力传感器和第二力传感器的检测灵敏度系数时，将第二力传感器的检测灵敏度系数αz设置为αz＝αxtanθ，求得被检测应力Ax为Ax＝(Apx－Apz)/αx(cosθ－tanθ×sinθ)。
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公开(公告)号：CN1661769A
公开(公告)日：2005-08-31
申请号：CN200410069883.8
申请日：2004-07-15
Applicant: 富士通株式会社
CPC classification number: H01H59/0009 , B81B2201/016 , B81B2203/0127 , B81C1/00142 , B81C2201/0109
Abstract: 一种用于制造微开关元件的方法。该开关包括一衬底、两个固定到衬底的支撑构件、以及一桥接在支撑构件之间的活动梁。该梁包括一隔膜，一活动接触电极以及一活动驱动电极，活动接触电极和活动驱动电极都设置在隔膜上。该开关元件也包括一对面向活动接触电极的固定接触电极、以及一固定驱动电极，其与活动驱动电极一起用于产生静电力。该方法包括在衬底上制造牺牲层的步骤、在牺牲层上制造隔膜的步骤、以及通过隔膜介入蚀刻牺牲层的步骤，以便在衬底和隔膜之间牺牲层的剩余部分形成为支撑构件。
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