一种三轴加速度计
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113624994B

    公开(公告)日:2025-02-11

    申请号:CN202110942892.7

    申请日:2021-08-17

    Abstract: 本发明提供一种三轴加速度计,其包括:Z轴加速度计,其包括Z质量块、Z质量块锚点、扭转梁,Z质量块内定义有第一空间、第二空间和第三空间,Z质量块锚点位于第三空间内;扭转梁位于第三空间内且平行于Y轴放置,扭转梁连接所述Z质量块锚点和Z质量块;Z质量块位于所述扭转梁一侧的质量与Z质量块位于所述扭转梁另一侧的质量不同,以使Z质量块以所述扭转梁为轴发生类似跷跷板式运动;X轴加速度计,其位于所述第一空间内;Y轴加速度计,其位于所述第二空间内。与现有技术相比,本发明的三轴加速度计将X轴加速度计和Y轴加速度计设置在Z轴加速度计的质量块内,其整体架构合理紧凑,可节省芯片面积,降低成本。

    基于后装配工艺的高灵敏度谐振式环形陀螺结构

    公开(公告)号:CN118980365A

    公开(公告)日:2024-11-19

    申请号:CN202411039596.6

    申请日:2024-07-31

    Abstract: 本发明属于陀螺仪技术领域,具体涉及了一种基于后装配工艺的高灵敏度谐振式环形陀螺结构,旨在解决现有的陀螺仪容易受环境温度变化和振动干扰影响的问题。本发明包括:所述陀螺结构包括核心部分和边缘部分;所述核心部分包括:第一支撑锚点结构和环形谐振子结构;所述边缘部分,包括等间隔在所述环形谐振子结构外周围成圆形的n个电极和n/2个后装配功能块;每个所述外周电极与环形谐振子结构形成平行板电容器;所述外周电极包括第一类电极和第二类电极,第一类电极外周连接后装配功能块。本发明通过后装配工艺突破深宽比极限对电容间隙的限制,实现极小电容间隙,增大了有用输出信号,提高了角速度输出信号的信噪比。

    一种MEMS器件
    3.
    发明公开
    一种MEMS器件 审中-实审

    公开(公告)号:CN118929558A

    公开(公告)日:2024-11-12

    申请号:CN202410057662.6

    申请日:2024-01-15

    Inventor: 丁海涛

    Abstract: 本申请公开了一种MEMS器件,包括:敏感单元,敏感单元包括可动电极板,位于可动电极板第一侧的第一电极板和位于可动电极板第二侧的第二电极板,第一电极板与可动电极板构成第一电容;第二电极板与可动电极板构成第二电容;第一电容和第二电容共同构成敏感单元的检测电容;差模检测模块,第一电容和第二电容连接至差模检测模块的输入端,差模检测模块实现第一电容和第二电容的差模检测;共模检测模块,第一电容和第二电容连接至共模检测模块的输入端,共模检测模块实现第一电容和第二电容的共模检测;以及非线性消除模块,差模检测模块的输出端和共模检测模块的输出端分别连接至非线性消除模块的输入端。

    一种光驱动微镜、制备方法及其驱动光路结构

    公开(公告)号:CN115113388B

    公开(公告)日:2024-07-05

    申请号:CN202210649236.2

    申请日:2022-06-09

    Applicant: 西湖大学

    Abstract: 本发明公开了一种光驱动微镜,包括:支撑外框;顶面敷设有金属反射层的镜面基底;将镜面基底与所述支撑外框相互固定的驱动悬臂梁;所述驱动悬臂梁为具有光热响应的交联液晶高分子薄膜结构。本发明同时公式公开了上述光驱动微镜的制备方法和对应的驱动光路结构。本发明相比于传统MEMS微镜具有结构简单、非接触操控、扫描角度大、抗电磁干扰的特点,在光扫描系统、光开关、数字显示等领域具有重要应用前景。

    微机械的z加速度传感器
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118221061A

    公开(公告)日:2024-06-21

    申请号:CN202311748619.6

    申请日:2023-12-19

    Inventor: C·纳格尔

    Abstract: 本发明涉及一种微机械的z加速度传感器,具有:衬底(10),其具有主延伸平面(x,y);微机械的摇摆结构(20),其平行于延伸平面布置在衬底上方并且能够沿垂直于延伸平面的第一方向z倾翻,其中,摇摆结构在第一子区域(40)中具有第一穿孔(50),第一穿孔沿第一方向z穿过摇摆结构延伸,第一穿孔具有平行于主延伸平面的第一横截面,第一横截面具有至少为1:1的第一长宽比,和第二穿孔(55),第二穿孔沿第一方向z穿过摇摆结构延伸,该第二穿孔具有第二横截面,第二横截面具有较长侧与较短侧的第二长宽比,其中,第一长宽比小于第二长宽比。本发明的核心在于,在重复的图案中,第一穿孔和第二穿孔交替地彼此并排地布置。

    一种无边缘凸起的金属盖石墨岛及其制备方法

    公开(公告)号:CN111747372B

    公开(公告)日:2024-06-14

    申请号:CN201910234457.1

    申请日:2019-03-26

    Inventor: 杨德智 张清卿

    Abstract: 本发明提供一种金属盖石墨岛及其制备方法,所述金属盖石墨岛包括岛状结构的石墨和覆盖于其上的金属盖层,所述金属盖层表面平整,且无边缘凸起,所述金属盖石墨岛可自回复,且具有微米尺度的大尺寸超滑面,有利于将超滑技术应用于微米尺度电学器件中。所述制备方法采用两层胶制备工艺,所获得的金属盖石墨岛表面平整,无边缘凸起,显著地提升了微米尺度金属盖石墨岛的自回复率,提高了获得超滑面的成功率,有效地降低了成本。

    一种超滑结构及其制备方法
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117902547A

    公开(公告)日:2024-04-19

    申请号:CN202311763948.8

    申请日:2023-12-19

    Abstract: 本申请提供了一种超滑结构及其制备方法,该超滑结构制备方法包括提供超滑岛和第一基底,然后,再将超滑岛内的滑块沿超滑界面转移至第一基底的上表面,最后,再对第一基底上的滑块的电阻值进行测量,筛选出电阻值满足目标阈值的滑块,获得超滑结构。通过对滑块的电阻值进行测量,并根据测量结果,对电阻值小于目标阈值的滑块进行筛选,以获取不含部分超滑面的滑块。利用不含有部分超滑面的滑块具有更加优异的结构稳定性的特点,将其与第一基底进行结合,获得具有鲁棒性的超滑结构,提高超滑结构的超滑特性。

    一种精简工艺的微镜芯片及制造方法

    公开(公告)号:CN110182751B

    公开(公告)日:2024-02-13

    申请号:CN201910455156.1

    申请日:2019-05-29

    Inventor: 陈巧

    Abstract: 本发明涉及一种精简工艺的微镜芯片及制造方法,采用SOI硅片,驱动器布置于第三层,质量块与转轴布置在第一层,第二层布置支持结构,其中驱动器采用面内驱动器结构,可以实现面内驱动,通过中层支撑结构产生面外驱动转矩,带动质量块运动,可以实现快速扫描和大角度扫描驱动结构;该结构工艺上利于实现,不挑战工艺难点,可以大大简化面外运动加工难度,实现大角度,大质量块驱动;相对于多层机构的MEMS省去了多次键合的工艺,简化了制造工艺,大大降低加工成本和加工难度,提高成品率。

    静电驱动器及其实现方法
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117348028A

    公开(公告)日:2024-01-05

    申请号:CN202210734351.X

    申请日:2022-06-27

    Abstract: 本公开提供了一种静电驱动器及其实现方法、静电驱动器中的梳齿构件对及其制造方法、包括静电驱动器的微机电系统、激光雷达系统以及车辆。制造静电驱动器的梳齿构件对的方法包括:获取中间器件,其包括衬底;形成在衬底上的缓冲层;以及在缓冲层上相对设置的一对中间梳齿构件,其中,每个中间梳齿构件包括梳齿连接梁和包括多个梳齿的梳状部分;进行预清洁,以去除各个梳齿的外表面上的自然钝化层;进行化学气相沉积处理,以在各个梳齿的除底表面以外的其它外表面上形成中间介电层;以及去除部分中间介电层,以得到形成在各个梳齿的齿间侧表面的至少一部分上的介电层部分。

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