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公开(公告)号：CN102656111B
公开(公告)日：2015-03-04
申请号：CN201080057273.X
申请日：2010-11-26
Applicant: 国际商业机器公司
CPC classification number: B82Y40/00 , B81C1/00031 , B81C2201/0149 , G03F7/0392 , G03F7/09 , G03F7/091 , G03F7/165 , G03F7/325 , G03F7/327 , G03F7/40
Abstract: 一种用于形成包括自组装材料的畴图案的分层结构的方法，包括：在衬底上布置包括非交联光刻胶的光刻胶层；可选地烘焙光刻胶层；将光刻胶层图案式曝光于第一辐射；可选地烘焙已曝光光刻胶层；以及采用非碱性显影剂来显影已曝光光刻胶层以形成包括未交联已显影光刻胶的负性图案化光刻胶层；其中，已显影光刻胶不可溶于适用于浇铸能够自组装的给定材料的给定有机溶剂，并且已显影光刻胶可溶于含水碱性显影剂和/或第二有机溶剂。在图案化光刻胶层上浇铸包括溶解在给定有机溶剂中的能够自组装的给定材料的溶液，并且去除给定有机溶剂。当可选地加热和/或退火已浇铸的给定材料时，允许已浇铸的给定材料自组装，由此形成包括自组装给定材料的畴图案的分层结构。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102858761B
公开(公告)日：2014-12-17
申请号：CN201180019931.0
申请日：2011-04-28
IPC: C07D317/36 , C07D319/04 , C08G64/30
CPC classification number: C07D319/04 , C07D317/36 , C08G64/0233 , C08G64/30 , Y02P20/582
Abstract: 公开了一种制备含有活性碳酸五氟苯基酯侧基的环状羰基化合物的单釜方法。环状羰基化合物可通过开环方法聚合形成含有重复单元的ROP聚合物，该重复单元包含碳酸五氟苯基酯侧链基团。可在开环聚合之前或之后使用合适亲核化合物使该碳酸五氟苯基酯侧基选择地转化成各种其他官能团。
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公开(公告)号：CN102667623B
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：CN201080057340.8
申请日：2010-11-26
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: G03F7/00
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00
Abstract: 一种形成包括自组装材料的分层结构的方法，包括：在衬底上布置非交联的光刻胶层；将光刻胶层图案式曝光于第一辐射；可选地加热已曝光光刻胶层；采用含水碱性显影剂在第一显影工艺中显影已曝光光刻胶层，从而形成初始图案化光刻胶层；光化学地、热地和/或化学地处理初始图案化光刻胶层，由此形成包括布置在第一衬底表面上的未交联的已处理光刻胶的已处理图案化光刻胶层；在已处理图案化光刻胶层上浇铸定向控制材料在第一溶剂中的溶液，并且去除第一溶剂，从而形成定向控制层；加热定向控制层以有效地将定向控制材料的一部分结合至第二衬底表面；在第二显影工艺中去除已处理光刻胶的至少一部分以及可选地去除任何未结合的定向控制材料，由此形成用于自组装的预图案；可选地加热预图案；在预图案上浇铸溶解在第二溶剂中的能够自组装的材料的溶液，并且去除第二溶剂；以及采用可选的加热和/或退火，允许已浇铸材料自组装，由此形成包括自组装材料的分层结构。
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公开(公告)号：CN102858761A
公开(公告)日：2013-01-02
申请号：CN201180019931.0
申请日：2011-04-28
IPC: C07D317/36 , C07D319/04 , C08G64/30
CPC classification number: C07D319/04 , C07D317/36 , C08G64/0233 , C08G64/30 , Y02P20/582
Abstract: 公开了一种制备含有活性碳酸五氟苯基酯侧基的环状羰基化合物的单釜方法。环状羰基化合物可通过开环方法聚合形成含有重复单元的ROP聚合物，该重复单元包含碳酸五氟苯基酯侧链基团。可在开环聚合之前或之后使用合适亲核化合物使该碳酸五氟苯基酯侧基选择地转化成各种其他官能团。
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公开(公告)号：CN102763039A
公开(公告)日：2012-10-31
申请号：CN201180010036.2
申请日：2011-02-03
CPC classification number: C09D133/16 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041
Abstract: 本发明提供了用于光刻工艺的含有磺酰胺的组合物、顶涂层聚合物和添加剂聚合物，其相对于本领域已知的而言具有改善的静态后退水接触角。本发明的含有磺酰胺的顶涂层聚合物和添加剂聚合物包含如式(I)所示的具有支化的连接基团的磺酰胺取代的重复单元。
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公开(公告)号：CN102667623A
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：CN201080057340.8
申请日：2010-11-26
Applicant: 国际商业机器公司
IPC: G03F7/00
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00
Abstract: 一种形成包括自组装材料的分层结构的方法，包括：在衬底上布置非交联的光刻胶层；将光刻胶层图案式曝光于第一辐射；可选地加热已曝光光刻胶层；采用含水碱性显影剂在第一显影工艺中显影已曝光光刻胶层，从而形成初始图案化光刻胶层；光化学地、热地和/或化学地处理初始图案化光刻胶层，由此形成包括布置在第一衬底表面上的未交联的已处理光刻胶的已处理图案化光刻胶层；在已处理图案化光刻胶层上浇铸定向控制材料在第一溶剂中的溶液，并且去除第一溶剂，从而形成定向控制层；加热定向控制层以有效地将定向控制材料的一部分结合至第二衬底表面；在第二显影工艺中去除已处理光刻胶的至少一部分以及可选地去除任何未结合的定向控制材料，由此形成用于自组装的预图案；可选地加热预图案；在预图案上浇铸溶解在第二溶剂中的能够自组装的材料的溶液，并且去除第二溶剂；以及采用可选的加热和/或退火，允许已浇铸材料自组装，由此形成包括自组装材料的分层结构。
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