公开(公告)号：CN101546126A

公开(公告)日：2009-09-30

申请号：CN200910118251.9

申请日：2009-03-03

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 畑光宏 ,  藤裕介 ,  宫川贵行

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/122

Abstract: 本发明的目的在于提供不会影响作为功能性树脂组合物的基本特性、能进一步提高析像度的化学放大型抗蚀剂组合物以及浸液曝光用化学放大型抗蚀剂组合物。该化学放大型抗蚀剂组合物含有树脂和产酸剂，所述树脂含有在侧链具有对酸不稳定的基团的结构单元、式(I)表示的结构单元、以及具有多环式内酯结构的结构单元，并且所述树脂本身为可溶于有机溶剂，不溶或难溶于碱性水溶液，但在酸的作用下变得可溶于碱性水溶液的树脂，所述产酸剂是式(II)A+E－(II)表示的产酸剂。

公开(公告)号：CN102122114A

公开(公告)日：2011-07-13

申请号：CN201010623056.4

申请日：2010-12-31

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 畑光宏 ,  夏政焕

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0035 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/40

Abstract: 本发明提供一种用于制备光致抗蚀剂图案的方法，该方法包括以下步骤(A)至(D)：(A)在基底上涂覆第一光致抗蚀剂组合物以形成第一光致抗蚀剂膜，将第一光致抗蚀剂膜曝光于辐射，然后用碱性显影液将曝光的第一光致抗蚀剂膜显影，从而形成第一光致抗蚀剂图案；(B)使第一光致抗蚀剂图案对以下步骤(C)中的辐射惰性，使第一光致抗蚀剂图案不溶于碱性显影液或者使第一光致抗蚀剂图案不溶于在以下步骤(C)中使用的第二光致抗蚀剂组合物；(C)在步骤(B)中获得的第一光致抗蚀剂图案上，涂覆第二光致抗蚀剂组合物以形成第二光致抗蚀剂膜，将第二光致抗蚀剂膜曝光于辐射的步骤，和(D)用碱性显影液将曝光的第二光致抗蚀剂膜显影，从而形成第二光致抗蚀剂图案。

公开(公告)号：CN102023483A

公开(公告)日：2011-04-20

申请号：CN201010284062.1

申请日：2010-09-13

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 增山达郎 ,  畑光宏

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00 ,  C07C271/22 ,  C07D207/16

CPC classification number: C07C271/22 ,  C07D207/16 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种光致抗蚀剂组合物，其包含树脂、酸生成剂和由式(I)表示的化合物，在式(I)中，R1表示可以具有一个或多个羟基的C2-C12烷基等，R2和R3各自独立表示氢原子等，R4，R5和R6各自独立表示氢原子等，A1表示单键或C1-C2亚烷基，在所述C1-C2亚烷基中的一个或多个-CH2-可以被-O-代替。

公开(公告)号：CN101995769A

公开(公告)日：2011-03-30

申请号：CN201010247395.7

申请日：2010-08-05

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 畑光宏 ,  增山达郎

IPC: G03F7/004 ,  C08F220/18 ,  C08F222/14 ,  C07C229/56 ,  C07C229/36 ,  C07C229/08 ,  C07C227/20 ,  C07D207/16 ,  C07D295/15

CPC classification number: G03F7/0045

Abstract: 本发明提供一种光致抗蚀剂组合物，其包含树脂，酸生成剂和由式(C1)表示的化合物，在式(C1)中，Rc2表示可以具有一个或多个取代基的C7-C20芳烷基，并且Rc1表示由式(1)表示的基团，在式(1)中，Rc3和Rc4各自独立地表示氢原子或直链，支链或环状C1-C12脂族烃基，Rc5表示C1-C30二价有机基团，并且Rc3和Rc4或Rc5可以彼此结合以与Rc3和Rc4或Rc5结合的氮原子一起形成环。

公开(公告)号：CN101993395A

公开(公告)日：2011-03-30

申请号：CN201010249208.9

申请日：2010-08-06

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 增山达郎 ,  畑光宏

IPC: C07C271/28 ,  C07C271/38 ,  C07C271/22 ,  C07C271/34 ,  C07C271/36 ,  C07C271/24 ,  C07C269/06 ,  C07D207/16 ,  C07D211/60 ,  C07D209/14 ,  C07C323/59 ,  C07C319/20 ,  G03F7/039

CPC classification number: C07D207/16 ,  C07C271/22 ,  C07C271/24 ,  C07C271/28 ,  C07C271/34 ,  C07C271/36 ,  C07C271/38 ,  C07C2601/14 ,  C07C2602/28 ,  C07C2603/74 ,  C07D209/44 ,  C07D211/60 ,  G03F7/0045

Abstract: 本发明提供一种由式(C1)表示的化合物和一种包含树脂、酸生成剂和由式(C1)表示的化合物的光致抗蚀剂组合物，在所述式(C1)中，Rc2表示具有至少一个硝基的C6-C10芳族烃基，并且Rc1表示由式(1)表示的基团，在所述式(1)中，Rc4表示氢原子等，Rc5表示C1-C30二价烃基，并且Rc3表示由式(3-1)，(3-2)或(3-3)表示的基团，在所述式(3-1)，(3-2)或(3-3)中，Rc6，Rc7，Rc8，Rc9，Rc10，Rc11，Rc12，Rc13和Rc14各自独立地表示C1-C30烃基。

公开(公告)号：CN101585896A

公开(公告)日：2009-11-25

申请号：CN200910139072.3

申请日：2009-05-15

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 藤裕介 ,  畑光宏

IPC: C08F220/10 ,  G03F7/039

CPC classification number: C08F220/28 ,  C08F220/18 ,  Y10S430/114

Abstract: 本发明提供聚合物和含有该聚合物的化学放大型抗蚀剂组合物，聚合物包含：式(Ia)或(Ib)表示的结构单元，其中R 1 、R 2 、R 3 、n、Z 1 、k、R 4 、R 5 和m具有与说明书相同的含义；式(II)表示的结构单元，其中R 6 、R 7 、R 8 、R 9 、n′、Z 2 、k′、R 21 、R 22 和R 23 具有与说明书相同的含义；以及选自由式(IIIa)、(IIIb)、(IIIc)、(IIId)和(IIIf)表示结构单元中的至少一个结构单元，其中R 10 、R 11 、R 12 、j、a、b、c、Z 3 和k″具有与说明书相同的含义。