公开(公告)号：CN102053495A

公开(公告)日：2011-05-11

申请号：CN201010541116.8

申请日：2010-11-05

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 市川幸司 ,  桥本和彦 ,  夏政焕

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

Abstract: 本发明提供一种光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物包含：树脂，该树脂包含衍生自由式(I)表示的化合物的结构单元，其中R1表示C1-C6含氟烷基，R2表示氢原子或甲基，并且A表示C1-C10二价饱和烃基，并且该树脂不溶或难溶于碱性水溶液，但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液；以及由式(II)表示的酸生成剂，其中Q1和Q2各自独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，X1表示单键或C1-C17二价饱和烃基，在所述C1-C17二价饱和烃基中，一个或多个-CH2-可以被-O-或-CO-代替，Y1表示可以具有一个或多个取代基的C1-C36脂族烃基，等，并且Z+表示有机抗衡阳离子。

公开(公告)号：CN102122114A

公开(公告)日：2011-07-13

申请号：CN201010623056.4

申请日：2010-12-31

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 畑光宏 ,  夏政焕

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0035 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/40

Abstract: 本发明提供一种用于制备光致抗蚀剂图案的方法，该方法包括以下步骤(A)至(D)：(A)在基底上涂覆第一光致抗蚀剂组合物以形成第一光致抗蚀剂膜，将第一光致抗蚀剂膜曝光于辐射，然后用碱性显影液将曝光的第一光致抗蚀剂膜显影，从而形成第一光致抗蚀剂图案；(B)使第一光致抗蚀剂图案对以下步骤(C)中的辐射惰性，使第一光致抗蚀剂图案不溶于碱性显影液或者使第一光致抗蚀剂图案不溶于在以下步骤(C)中使用的第二光致抗蚀剂组合物；(C)在步骤(B)中获得的第一光致抗蚀剂图案上，涂覆第二光致抗蚀剂组合物以形成第二光致抗蚀剂膜，将第二光致抗蚀剂膜曝光于辐射的步骤，和(D)用碱性显影液将曝光的第二光致抗蚀剂膜显影，从而形成第二光致抗蚀剂图案。