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公开(公告)号：CN114071076A
公开(公告)日：2022-02-18
申请号：CN202111214841.9
申请日：2017-02-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板拍摄装置。抑制设备事故且谋求基板拍摄装置的小型化和低成本化。检查单元(U3)包括：保持台，其构成为保持晶圆(W)而使晶圆(W)旋转；镜构件(430)，其具有反射面(432)，该反射面(432)相对于保持台的旋转轴线倾斜，并且与保持到保持台的晶圆(W)的端面(Wc)和背面(Wb)的周缘区域(Wd)相对；照相机，其具有拍摄元件，来自被保持到保持台的晶圆(W)的表面(Wa)的周缘区域(Wd)的光、以及来自被保持到保持台的晶圆(W)的端面(Wc)的光被镜构件(430)的反射面(432)反射而成的反射光都经由镜头输入该拍摄元件。
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公开(公告)号：CN113994199A
公开(公告)日：2022-01-28
申请号：CN202080041339.X
申请日：2020-06-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 野田康朗
IPC: G01N21/956 , G01N21/27 , H01L21/66
Abstract: 基板处理装置具有：保持部(31)，其用于保持在表面形成有膜的基板；摄像部(33)，其拍摄保持于保持部(31)的所述基板的表面来获取图像数据；分光测定部(40)，其将来自保持于保持部(31)的所述基板的表面的光进行分光来获取分光数据；以及控制装置(100)，其控制保持部(31)、摄像部(33)以及分光测定部(40)。
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公开(公告)号：CN107102515B
公开(公告)日：2020-06-23
申请号：CN201710097382.8
申请日：2017-02-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种即使是在晶圆具有翘曲的情况下、也对该晶圆的周缘进行恰当的处理的基板处理方法和基板处理装置。晶圆的处理方法包括如下工序：在翘曲量已知的基准晶圆的周缘整周上利用照相机对基准晶圆的端面进行拍摄、在基准晶圆的周缘整周上取得基准晶圆的端面的形状数据的工序；在晶圆的周缘整周上利用照相机对晶圆的端面进行拍摄、在晶圆的周缘整周上取得晶圆的端面的形状数据的工序；基于各形状数据对晶圆的翘曲量进行计算的工序；在晶圆的表面形成抗蚀剂膜的工序；基于该翘曲量来决定有机溶剂相对于抗蚀剂膜的周缘部的供给位置、利用从该供给位置供给的有机溶剂使该周缘部溶解而从晶圆上去除的第7工序。
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公开(公告)号：CN107102515A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201710097382.8
申请日：2017-02-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种即使是在晶圆具有翘曲的情况下、也对该晶圆的周缘进行恰当的处理的基板处理方法和基板处理装置。晶圆的处理方法包括如下工序：在翘曲量已知的基准晶圆的周缘整周上利用照相机对基准晶圆的端面进行拍摄、在基准晶圆的周缘整周上取得基准晶圆的端面的形状数据的工序；在晶圆的周缘整周上利用照相机对晶圆的端面进行拍摄、在晶圆的周缘整周上取得晶圆的端面的形状数据的工序；基于各形状数据对晶圆的翘曲量进行计算的工序；在晶圆的表面形成抗蚀剂膜的工序；基于该翘曲量来决定有机溶剂相对于抗蚀剂膜的周缘部的供给位置、利用从该供给位置供给的有机溶剂使该周缘部溶解而从晶圆上去除的第7工序。
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公开(公告)号：CN112068399B
公开(公告)日：2024-10-25
申请号：CN202010484089.9
申请日：2020-06-01
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种基片检查系统、基片检查方法和存储介质，其中，基片检查系统包括：拍摄部，其设置于基片处理装置中，拍摄在表面形成有膜的颜色信息用基片的表面来获取图像数据；膜厚测量部，其设置于基片处理装置中，测量以与颜色信息用基片相同的条件在表面形成了膜的膜厚测量用基片的膜厚；和模型制作部(107)，其制作膜厚模型，膜厚模型表示了基于图像数据获得的关于因膜的形成而引起的颜色信息用基片的表面的颜色变化的信息、与由膜厚测量部测量出的膜厚测量用基片的膜厚的对应关系。根据本发明，能够更简单地制作用于计算对象基片上所形成的膜的膜厚的模型。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109560016B
公开(公告)日：2023-10-20
申请号：CN201811119272.8
申请日：2018-09-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，该基板处理装置能够抑制装置的大型化并且确认基板的周缘部的状态。实施方式所涉及的基板处理装置具备搬入搬出站、交接站、处理站以及摄像单元。搬入搬出站具有将基板从盒取出并且进行搬送的第一搬送装置。交接站与搬入搬出站相邻地配置，具有用于载置由第一搬送装置搬送的基板的基板载置部。处理站与交接站相邻地配置，具有用于将基板从基板载置部取出并进行搬送的第二搬送装置以及用于对由第二搬送装置搬送来的基板进行处理的多个处理单元。摄像单元配置于交接站，用于拍摄基板的上表面和下表面中的一个面的周缘部和基板的端面。
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公开(公告)号：CN107104064B
公开(公告)日：2021-11-09
申请号：CN201710068654.1
申请日：2017-02-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板拍摄装置。抑制设备事故且谋求基板拍摄装置的小型化和低成本化。检查单元(U3)包括：保持台，其构成为保持晶圆(W)而使晶圆(W)旋转；镜构件(430)，其具有反射面(432)，该反射面(432)相对于保持台的旋转轴线倾斜，并且与保持到保持台的晶圆(W)的端面(Wc)和背面(Wb)的周缘区域(Wd)相对；照相机，其具有拍摄元件，来自被保持到保持台的晶圆(W)的表面(Wa)的周缘区域(Wd)的光、以及来自被保持到保持台的晶圆(W)的端面(Wc)的光被镜构件(430)的反射面(432)反射而成的反射光都经由镜头输入该拍摄元件。
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公开(公告)号：CN112068399A
公开(公告)日：2020-12-11
申请号：CN202010484089.9
申请日：2020-06-01
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种基片检查系统、基片检查方法和存储介质，其中，基片检查系统包括：拍摄部，其设置于基片处理装置中，拍摄在表面形成有膜的颜色信息用基片的表面来获取图像数据；膜厚测量部，其设置于基片处理装置中，测量以与颜色信息用基片相同的条件在表面形成了膜的膜厚测量用基片的膜厚；和模型制作部(107)，其制作膜厚模型，膜厚模型表示了基于图像数据获得的关于因膜的形成而引起的颜色信息用基片的表面的颜色变化的信息、与由膜厚测量部测量出的膜厚测量用基片的膜厚的对应关系。根据本发明，能够更简单地制作用于计算对象基片上所形成的膜的膜厚的模型。
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公开(公告)号：CN111580348A
公开(公告)日：2020-08-25
申请号：CN202010451614.7
申请日：2017-02-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板处理方法、基板处理装置以及计算机可读存储介质。基板处理方法包括：取得被处理基板的翘曲量；基于所述被处理基板的翘曲量来决定处理液相对于所述被处理基板的周缘部的供给位置；以及使表面形成有膜的所述被处理基板旋转，同时利用从所述供给位置供给的处理液使所述周缘部上的所述膜溶解而从所述被处理基板上去除。
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公开(公告)号：CN111580347A
公开(公告)日：2020-08-25
申请号：CN202010450886.5
申请日：2017-02-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板处理方法、基板处理装置以及计算机可读存储介质。基板处理方法包括：从照相机取得被处理基板的端面的拍摄图像；对所述被处理基板的端面的拍摄图像进行图像处理而取得所述被处理基板的端面的形状数据；以及基于翘曲量已知的基准基板的端面的形状数据以及利用图像处理得到的所述被处理基板的端面的形状数据对所述被处理基板的翘曲量进行计算。
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