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公开(公告)号：CN101183224B
公开(公告)日：2011-04-27
申请号：CN200710170254.8
申请日：2007-11-15
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/38 , H01L21/00 , H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种减压干燥装置，其能够高效安全且平稳地进行被处理基板的搬入搬出并最小限度抑制附着在基板的涂敷膜上的基板接触部的转印痕迹。该减压干燥单元(VD)(46)通过在搬入侧滚动搬送通路(104a)和内部滚动搬送通路(104b)上进行的滚动搬送，以滚动搬送方式将应接受减压干燥处理的基板G搬入到腔室(106)内，通过内部滚动搬送通路(104b)和搬出侧滚动搬送通路(104c)上进行的滚动搬送，将腔室(106)内完成减压干燥处理的基板G搬出腔室(106)外。在减压干燥处理中，多个升降销(128)使基板G保持水平姿势将其从滚动搬送通路(104b)向上方提起，以极细销尖部支撑基板G。
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公开(公告)号：CN101206412B
公开(公告)日：2011-03-30
申请号：CN200710159744.8
申请日：2007-12-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G03F7/38 , G03F7/26 , H01L21/027 , H01L21/677 , F26B5/04 , G02F1/1333
Abstract: 本发明提供一种减压干燥装置，其能够高效安全且平稳地进行被处理基板的搬入搬出并防止转印痕迹附着在基板上的涂敷膜上。该减压干燥单元(VD)(46)通过搬入侧滚轴搬送路(104)的滚轴搬送和台(122)上的浮起式辊搬送，将应接受减压干燥处理的基板G搬入腔室(106)中，通过台(122)上的浮起式辊搬送路的浮起式辊搬送和搬出侧滚轴搬送路(110)的滚轴搬送，将在腔室(106)内完成减压干燥处理的基板G向腔室(106)外搬出。在减压干燥处理中，基板G以面接触状态载置在台(122)的上面。
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公开(公告)号：CN1913101A
公开(公告)日：2007-02-14
申请号：CN200610115720.8
申请日：2006-08-11
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/677 , H01L21/683 , G03F7/38 , G03F7/16 , G02F1/1333
Abstract: 本发明提供一种减压干燥装置，即使基板为大型、安全性也优异，并能抑制振动的产生，且能可靠地防止涂敷在基板上的涂敷液发生转印。该减压干燥装置具备：在侧壁部具有搬入基板的搬入口和搬出基板的搬出口，将从搬入口搬入的基板以大致水平状态收容的腔室；对搬入口和搬出口进行开关的门部件；在利用门部件关闭搬入口和搬出口的状态下，对腔室内进行减压的减压机构；大致水平地搬送基板，将其从搬入口搬入到腔室内，并且，在利用减压机构进行减压干燥处理后，大致水平地搬送该基板，将其从搬出口搬出到腔室之外的搬送机构；和在腔室内，不是局部地支撑、而是能够均匀地支撑基板的带。
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公开(公告)号：CN111383975A
公开(公告)日：2020-07-07
申请号：CN201911300744.4
申请日：2019-12-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供基片处理装置和基片处理方法。实施方式的基片处理装置包括前处理作业线、涂敷作业线、输送作业线、显影处理作业线、第1输送部、第2输送部、第3输送部和第4输送部。涂敷作业线与前处理作业线并排地配置。输送作业线配置在涂敷作业线的上方或者下方。显影处理作业线配置在前处理作业线的上方或者下方。第1输送部设置在前处理作业线与涂敷作业线之间，将基片从前处理作业线输送到涂敷作业线。第2输送部与第1输送部直列地配置，将基片输送到输送作业线。第3输送部与第1输送部直列地配置，将基片输送到显影处理作业线。第4输送部与第1输送部直列地配置，从显影处理作业线输送基片。本发明能够缩短基片处理装置的全长。
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公开(公告)号：CN111383974A
公开(公告)日：2020-07-07
申请号：CN201911299964.X
申请日：2019-12-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供基片处理装置和基片处理方法。实施方式的基片处理装置包括前处理作业线、涂敷作业线、显影处理作业线、第1输送部、第2输送部和第3输送部。前处理作业线对基片进行前处理。涂敷作业线与前处理作业线并排地配置，在进行了前处理的基片涂敷处理液。显影处理作业线配置在前处理作业线的上方或者下方，对涂敷了处理液的基片进行显影处理。第1输送部设置在前处理作业线与涂敷作业线之间，将基片从前处理作业线输送到涂敷作业线。第2输送部与第1输送部直列地配置，将基片经外部装置输送到显影处理作业线。第3输送部与第1输送部直列地配置，从显影处理作业线输送基片。本发明能够缩短基片处理装置的全长。
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公开(公告)号：CN110875227A
公开(公告)日：2020-03-10
申请号：CN201910789074.0
申请日：2019-08-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种缩短基片处理装置的整体长度的技术。实施方式的基片处理装置包括预处理线、涂敷线、显影线和清洗线。预处理线对基片进行预处理。涂敷线配置在预处理线的下方，在进行了预处理的基片上涂敷光致抗蚀剂液。显影线对涂敷了光致抗蚀剂液的基片进行显影。清洗线配置在显影线的上方，对显影后的基片进行清洗。
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公开(公告)号：CN103065998A
公开(公告)日：2013-04-24
申请号：CN201210400840.8
申请日：2012-10-19
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/027 , C03C15/00
Abstract: 在本发明的处理台装置及使用该处理台装置的涂布处理装置中，缩短处理动作的节拍时间。基板搬入部包含：第一基板搬送部，可水平地搬送基板；及第一进退单元，使所述第一基板搬送部至少沿基板搬送方向在前后方向、斜上下方向及垂直上下方向的任一方向移动；所述基板处理部包含：载物台；第二基板搬送部，设置为可相对于所述载物台的载置面相对地升降，可在上升位置处水平地搬送所述基板；及第二进退单元，使所述第二基板搬送部相对于所述载物台的载置面相对地升降；所述基板搬出部包含：第三基板搬送部，可水平地搬送所述被处理基板；及第三进退单元，使所述第三基板搬送部至少沿基板搬送方向在前后方向、斜上下方向及垂直上下方向的任一方向移动。
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公开(公告)号：CN1978356B
公开(公告)日：2012-03-21
申请号：CN200610164202.5
申请日：2006-12-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: Y02P40/57
Abstract: 本发明的目的是输送基板以使得在玻璃基板上的涂敷膜上不产生不均性。在抗蚀剂涂敷处理组件的台的前后，设有第1输送体和第2输送体。第2输送体具有在Y方向上排列的多个辊、支承辊的保持器、和安装保持器的轨道板。在保持器上设有使辊旋转的旋转驱动部、和使保持器沿Y方向进退的水平驱动部。在台上设有相互独立而升降自如的升降销组。在通过升降销组使玻璃基板上升的状态下，使辊进入到玻璃基板的下方，将玻璃基板交接给该辊。辊一边旋转而以低速将玻璃基板向后方输送，一边后退。
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公开(公告)号：CN100521078C
公开(公告)日：2009-07-29
申请号：CN200710004356.2
申请日：2007-01-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/67 , H01L21/027 , G03F7/00
CPC classification number: H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供一种基板冷却装置，即使针对大型化的基板，也能够提高生产能力，同时能够确实地防止基板的变形和破损。基板冷却装置(25)包括：滚动搬送机构(5)，其为向一个方向搬送加热后的基板(G)的搬送路；和冷却结构(7)，冷却由滚动搬送机构(5)搬送的基板(G)。冷却机构(7)沿滚动搬送机构(5)从搬送方向的上游侧依次配置有预备冷却室(65a)和主冷却室(65b)，在预备冷却部(65a)冷却加热后的基板(G)，粗略除去基板(G)的热量，然后在主冷却部(65b)将该基板(G)冷却至规定的温度。
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