制备薄膜晶体管基底的方法

    公开(公告)号:CN101170086A

    公开(公告)日:2008-04-30

    申请号:CN200710108519.1

    申请日:2007-05-31

    CPC classification number: H01L27/1288 H01L27/1214

    Abstract: 本发明提供了一种制备薄膜晶体管基底的方法,该方法包括在基底上依次形成栅极绝缘层、有源层和数据金属膜。第一光刻胶图形在数据金属膜上形成,在沟道形成区内的第一光刻胶图形与不在沟道形成区内的第一光刻胶图形相比,具有相对小的厚度。利用第一光刻胶图形,对有源层和数据金属膜顺序进行刻蚀。利用包括六氟化硫气体和氧气的气体混合物,对第一光刻胶图形进行干法刻蚀,以形成在沟道形成区中形成有开口的第二光刻胶图形。然后利用第二光刻胶图形,对数据金属膜进行刻蚀。在此制备方法中,使用干法、湿法或酸清洗工序来减少基底中条纹(stringer)的形成。

    显示装置的像素修复装置

    公开(公告)号:CN101034214A

    公开(公告)日:2007-09-12

    申请号:CN200710086086.4

    申请日:2007-03-09

    Abstract: 本发明公开一种可以更加精密地修复高亮度像素的显示装置的像素修复装置。本发明所提供的显示装置的像素修复装置包含:生成飞秒激光束的激光发生器;使所述飞秒激光束的强度变均匀的光束均化器;聚焦器,用于会聚所述飞秒激光束使其焦点的高度对准显示面板组件上发生高亮度像素(high pixel)现象的位置,所谓高亮度像素现象为在使整个画面变黑而确认是否存在像素缺陷时,因为液晶层存在杂质、配线断路或短路等原因而发生的缺陷部分发亮的现象。

    平面显示板以及附着于其的保护膜偏振片叠层

    公开(公告)号:CN101013165A

    公开(公告)日:2007-08-08

    申请号:CN200610151863.4

    申请日:2006-09-13

    Abstract: 本发明涉及当检查具有附着在其表面的保护膜的平面显示板的故障时具有提高的检测能力的平面显示板、以及附着到平面显示板的保护膜和偏振片叠层。本发明的平面显示板形成有附着到其一个表面的可分离的保护膜并且该保护膜包括用于保护膜的防眩层。这样的保护膜能够应用到诸如液晶显示器、等离子体显示装置或有机光发射二极管的平面显示装置。

    液晶显示器基板的制造
    17.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1945812B

    公开(公告)日:2010-06-16

    申请号:CN200610139943.8

    申请日:2006-09-27

    CPC classification number: H01L27/124

    Abstract: 用于制造LCD基板的方法和装置,包括:在底部基板上形成像素开关元件的栅电极;在所述底部基板上形成栅极绝缘层;在所述栅极绝缘层上形成所述开关元件的源电极和漏电极;在所述底部基板上形成保护绝缘层;将激光光束辐射到基板上,以形成使所述漏电极的一小部分曝光的第一接触孔;以及在基板上形成通过所述第一接触孔电连接到所述漏电极的像素电极。所述方法和装置均简化制造LCD基板的过程并使所述过程更加可靠。

    薄膜晶体管基底的制造方法

    公开(公告)号:CN101162710A

    公开(公告)日:2008-04-16

    申请号:CN200710152434.3

    申请日:2007-10-12

    CPC classification number: H01L27/124 H01L27/1288 H01L29/41733

    Abstract: 本发明公开了一种薄膜晶体管(TFT)基底的制造方法,该方法包括:在基底上形成栅极绝缘膜和有源层;在有源层上形成包括第一金属层、第二金属层和第三金属层的数据金属层;在数据金属层上形成第一光致抗蚀剂图案;通过利用第一光致抗蚀剂图案对第三金属层进行干蚀刻;通过利用第一光致抗蚀剂图案对第二金属层和第一金属层同时进行干蚀刻;通过利用第一光致抗蚀剂图案对有源层进行干蚀刻;对第一光致抗蚀剂图案进行蚀刻以形成第二光致抗蚀剂图案,其中,通过第二光致抗蚀剂图案来去除沟道区;通过利用第二光致抗蚀剂图案对数据金属层的沟道区进行干蚀刻来形成源电极和漏电极。

    基板处理装置及方法
    19.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101013655A

    公开(公告)日:2007-08-08

    申请号:CN200610153701.4

    申请日:2006-09-14

    Abstract: 本发明涉及一种利用激光光刻的基板处理装置和方法。根据本发明,提供一种基板处理装置,包括用于在基板上形成薄膜的膜形成单元和用于在薄膜上形成预定图案的激光光刻单元。此外,提供一种基板处理装置,包括用于在基板上涂覆薄膜的涂覆单元和用于在薄膜上形成预定图案的激光光刻单元。此外,提供一种基板处理方法,包括步骤:提供基板;在基板上形成薄膜;以及在相同装置中利用激光构图薄膜。即,在基板处理装置和方法中可采用可由现有技术的光学光刻单元和蚀刻单元替换的激光光刻单元。因此,能够确保图案的三维均匀性,同时精确地形成和控制大基板上的图案。

    液晶显示器基板的制造
    20.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1945812A

    公开(公告)日:2007-04-11

    申请号:CN200610139943.8

    申请日:2006-09-27

    CPC classification number: H01L27/124

    Abstract: 用于制造LCD基板的方法和装置,包括:在底部基板上形成像素开关元件的栅电极;在所述底部基板上形成栅极绝缘层;在所述栅极绝缘层上形成所述开关元件的源电极和漏电极;在所述底部基板上形成保护绝缘层;将激光光束辐射到基板上,以形成使所述漏电极的一小部分曝光的第一接触孔;以及在基板上形成通过所述第一接触孔电连接到所述漏电极的像素电极。所述方法和装置均简化制造LCD基板的过程并使所述过程更加可靠。

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