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1.

发明公开
基板处理装置及方法无效

公开(公告)号：CN101013655A

公开(公告)日：2007-08-08

申请号：CN200610153701.4

申请日：2006-09-14

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 李泳范 , 李庸懿 , 金京燮 , 朴明一

IPC: H01L21/00 , H01L21/67

Abstract: 本发明涉及一种利用激光光刻的基板处理装置和方法。根据本发明，提供一种基板处理装置，包括用于在基板上形成薄膜的膜形成单元和用于在薄膜上形成预定图案的激光光刻单元。此外，提供一种基板处理装置，包括用于在基板上涂覆薄膜的涂覆单元和用于在薄膜上形成预定图案的激光光刻单元。此外，提供一种基板处理方法，包括步骤：提供基板；在基板上形成薄膜；以及在相同装置中利用激光构图薄膜。即，在基板处理装置和方法中可采用可由现有技术的光学光刻单元和蚀刻单元替换的激光光刻单元。因此，能够确保图案的三维均匀性，同时精确地形成和控制大基板上的图案。

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