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公开(公告)号：CN101403854A
公开(公告)日：2009-04-08
申请号：CN200810145253.2
申请日：2008-08-04
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G03F7/2014 , G03F1/50 , G03F7/70375
Abstract: 本发明提供了一种纳米图案化的方法和一种制造纳米压印母板和离散轨道磁记录介质的方法。该纳米图案化的方法包括以下步骤：(a)在基底上顺序地形成蚀刻目标材料层、光致抗蚀剂层和被图案化成第一图案的金属层，第一图案具有线图案以预定的间隔被重复布置的结构；(b)将光照射到金属层的表面上，以激发表面等离子体激元，使得光致抗蚀剂层通过表面等离子体激元被曝光成第二图案；(c)去除金属层并对光致抗蚀剂层进行显影；(d)利用被图案化成第二图案的光致抗蚀剂层作为掩模对蚀刻目标材料层进行蚀刻。
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公开(公告)号：CN1294439C
公开(公告)日：2007-01-10
申请号：CN03122571.3
申请日：2003-04-21
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G02B3/08 , G02B5/1814
Abstract: 本发明提供一种平面透镜，其能够补偿色差，易于形成并使得能够易于组装光学检拾器，以及一种形成平面透镜的方法。平面透镜包括一透明基底，在透明基底的一个表面上带有一透镜型腔，以及形成在透镜型腔之中的一透镜元件，带有一第一折射表面，接触于透镜型腔的底部，以及一第二衍射表面，具有一对置于第一折射表面的衍射光栅。
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公开(公告)号：CN1249694C
公开(公告)日：2006-04-05
申请号：CN02155975.9
申请日：2002-12-11
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G11B7/12
CPC classification number: G11B7/1384 , B82Y20/00 , G02B6/12004 , G02B6/1225 , G02B6/124 , G02B6/1245 , G02B6/30 , G11B7/124 , G11B7/1353 , G11B7/1359 , G11B7/1374 , G11B2007/13722
Abstract: 本发明提供了一种集成式光学头。在该集成式光学头中，光源发出光。波导元件引导光。输入耦合器位于波导元件的一边缘处，与由光源发出的光耦合，并将该耦合光传递给波导元件。输出耦合器位于波导元件的另一边缘处，与由波导元件发出的光耦合，并将该耦合光聚焦在光盘上。光通路改变单元安装在波导元件上，并改变由光盘反射，再经过了输出耦合器的光的光通路。光检测器接收经过光通路改变单元的光，并将接收的光转变成电信号，以便从光盘检测信息。因此，提高了输入耦合效率和输出耦合效率，从而使光损失减小。这样，能够改进光学头的记录和复制，并能获得重量轻、紧凑的集成式光学头。
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公开(公告)号：CN1517723A
公开(公告)日：2004-08-04
申请号：CN03143839.3
申请日：2003-05-25
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G02B3/0018 , G02B3/0068 , G03F7/0005 , G03F7/0035 , G03F7/40
Abstract: 本发明提供一种显微透镜阵列的制造方法。该方法包括使用光刻工艺在衬底的一面形成一圆柱形光刻胶掩模；应用回流工艺熔化光刻胶掩模，使其具有与显微透镜相对应的轮廓；使用等离子刻蚀将光刻胶掩模的轮廓传递到衬底上，在衬底上形成显微透镜；在显微透镜的表面上形成一光刻胶，其具有用来改进显微透镜的曲面的表面轮廓；以及通过等离子刻蚀方法刻蚀光刻胶，将光刻胶的弯曲轮廓传递到显微透镜的表面。通过这样的方法，可制造具有精确曲面、高数值孔径(NA)和低像差的高性能显微透镜。
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公开(公告)号：CN1514266A
公开(公告)日：2004-07-21
申请号：CN03148927.3
申请日：2003-06-24
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G02B5/1814 , Y10S359/90
Abstract: 本发明涉及一种具有高数值孔径、色差得以消除的复合消色差光学透镜及其制造方法。该复合消色差光学透镜包括：低折射率的第一光学组件和高折射率的第二光学组件。第二光学组件形成在第一光学组件凹陷部分并具有衍射表面，上述衍射表面是第二光学组件与第一光学组件的接触表面并有多个形成在折射表面上的纹槽。制造此复合消色差光学透镜的方法包括：在表面形状与折射表面形状相同的模具中形成具有多个纹槽的衍射表面；用上述模具在低折射率的第一光学组件上形成具有衍射表面的凹陷区；在凹陷区涂覆高折射率材料，研磨上述材料表面，并形成高折射率的第二光学组件。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102759854A
公开(公告)日：2012-10-31
申请号：CN201210192882.7
申请日：2008-08-04
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G03F7/2014 , G03F1/50 , G03F7/70375
Abstract: 本发明提供了一种纳米图案化的方法和一种制造纳米压印母板和离散轨道磁记录介质的方法。该纳米图案化的方法包括以下步骤：(a)在基底上顺序地形成蚀刻目标材料层、光致抗蚀剂层和被图案化成第一图案的金属层，第一图案具有图案以预定间隔被重复布置的结构；(b)将光照射到金属层的表面上，以激发表面等离子体激元，使得表面等离子体激元传递的光能的分布使光致抗蚀剂层的位于金属层的图案之间的中部以及光致抗蚀剂层的位于金属层的图案的中部下方的部分被曝光，以使光致抗蚀剂层被曝光成第二图案；(c)去除被图案化的金属层并对光致抗蚀剂层进行显影；(d)利用被图案化成第二图案的光致抗蚀剂层作为掩模对蚀刻目标材料层进行蚀刻。
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公开(公告)号：CN101403854B
公开(公告)日：2012-08-08
申请号：CN200810145253.2
申请日：2008-08-04
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G03F7/2014 , G03F1/50 , G03F7/70375
Abstract: 本发明提供了一种纳米图案化的方法和一种制造纳米压印母板和离散轨道磁记录介质的方法。该纳米图案化的方法包括以下步骤：(a)在基底上顺序地形成蚀刻目标材料层、光致抗蚀剂层和被图案化成第一图案的金属层，第一图案具有线图案以预定的间隔被重复布置的结构；(b)将光照射到金属层的表面上，以激发表面等离子体激元，使得光致抗蚀剂层通过表面等离子体激元被曝光成第二图案；(c)去除金属层并对光致抗蚀剂层进行显影；(d)利用被图案化成第二图案的光致抗蚀剂层作为掩模对蚀刻目标材料层进行蚀刻。
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公开(公告)号：CN101441873A
公开(公告)日：2009-05-27
申请号：CN200810212611.7
申请日：2008-08-21
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 本发明提供了一种磁记录介质及其制造方法，为了增大磁记录介质的记录密度，所述磁记录介质被构造为通过连续地形成具有薄膜状的第一磁层和包括图案化的磁比特的第二磁层的多个磁层。第一磁层具有大于第二磁层的磁各向异性系数的磁各向异性系数。
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公开(公告)号：CN101000770A
公开(公告)日：2007-07-18
申请号：CN200610121658.3
申请日：2006-08-28
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G11B5/127 , G11B5/187 , G11B11/105
CPC classification number: G11B5/314 , G11B5/02 , G11B2005/0005 , G11B2005/0021
Abstract: 本发明提供一种HAMR头及其制造方法。该HAMR头安装在具有面对记录介质的ABS的滑块上，且辐照光到该记录介质的局部区域上从而提高记录密度。该HAMR头包括衬底、记录单元、波导和NFE极。所述衬底附着在所述滑块的一侧上，所述记录单元位于所述衬底上且具有阶梯式末端从而将磁通聚集在所述记录单元的面对所述ABS的该末端。所述波导位于通过所述记录单元的该阶梯式末端形成的空间中，所述NFE极与所述记录单元接近地定位且具有与所述ABS在相同平面的末端从而利用经过所述波导传输的光产生将辐照到所述记录介质上的近场光。
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公开(公告)号：CN1584743A
公开(公告)日：2005-02-23
申请号：CN200410054485.9
申请日：2004-07-22
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G02B3/0031 , B29C43/021 , B29L2011/0016 , B29L2011/005 , C03B11/08 , C03B11/082 , C03B2215/412 , C03B2215/414 , C03B2215/49 , C03C15/00 , C03C17/32 , G02B3/0075
Abstract: 提供一种制造微透镜的方法，其中使用压印技术首先模制至少一个第一透镜。进而，制造透镜支架以及形成在下表面上的第二透镜，所述透镜支架包括其上设有第一透镜的孔。随后，通过沿透镜支架的孔中的光轴对准第一和第二透镜来结合第一和第二透镜。因此，能容易地制造由衍射透镜和折射透镜所构成的混合微透镜以及混合微透镜阵列。
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