一种基于圆环形金属网栅的透红外辐射微带天线

    公开(公告)号:CN103531901A

    公开(公告)日:2014-01-22

    申请号:CN201310499218.1

    申请日:2013-10-23

    Abstract: 一种基于圆环形金属网栅的透红外辐射微带天线属于双模复合探测与识别技术;该天线包括介质基片(1),粘贴于介质基片(1)上表面的微带贴片(2),粘贴于介质基片(1)下表面的接地板(3),连接微带贴片(2)的馈线(6);所述的介质基片(1)由透红外辐射材料制作而成,所述的微带贴片(2)为圆环形金属网栅,所述的接地板(3)为圆环形金属网栅;介质基片(1)、微带贴片(2)以及接地板(3)材料的选择,使得该天线具有红外光学透过率高、透射光高级次衍射能量分布均匀的优势,进而使得天线后方的红外光学成像系统能够均匀清晰成像。

    一种基于随机金属网栅的透红外辐射微带天线

    公开(公告)号:CN103515711A

    公开(公告)日:2014-01-15

    申请号:CN201310500207.0

    申请日:2013-10-23

    Abstract: 一种基于随机金属网栅的透红外辐射微带天线属于双模复合探测与识别技术;该天线包括介质基片(1),粘贴于介质基片(1)上表面的微带贴片(2),粘贴于介质基片(1)下表面的接地板(3),连接微带贴片(2)的馈线(6);所述的介质基片(1)由透红外辐射材料制作而成,所述的微带贴片(2)为随机金属网栅,所述的接地板(3)为随机金属网栅;介质基片(1)、微带贴片(2)以及接地板(3)结构及材料的选择,使得该天线具有红外光学透过率高、透射光高级次衍射能量分布均匀的优势,进而使得天线后方的红外光学成像系统能够均匀清晰成像。

    一种基于随机网栅及透红外半导体的透红外辐射微带天线

    公开(公告)号:CN103515709A

    公开(公告)日:2014-01-15

    申请号:CN201310500208.5

    申请日:2013-10-23

    Abstract: 一种基于随机网栅及透红外半导体的透红外辐射微带天线属于双模复合探测与识别技术;该天线包括介质基片(1),粘贴于介质基片(1)上表面的微带贴片(2),粘贴于介质基片(1)下表面的接地板(3),连接微带贴片(2)的馈线(6);所述的介质基片(1)由透红外辐射材料制作而成,所述的微带贴片(2)为随机金属网栅,所述的接地板(3)由透红外辐射半导体材料制作而成;介质基片(1)、微带贴片(2)以及接地板(3)结构及材料的选择,使得该天线不仅具有效率高的优势,而且具有红外光学透过率高、透射光高级次衍射能量分布均匀的优势,进而使得天线后方的红外光学成像系统能够均匀清晰成像。

    基于圆环形金属网栅及透红外半导体的透红外微带天线

    公开(公告)号:CN103515701A

    公开(公告)日:2014-01-15

    申请号:CN201310499203.5

    申请日:2013-10-23

    Abstract: 基于圆环形金属网栅及透红外半导体的透红外微带天线属于双模复合探测与识别技术;该天线包括介质基片(1),粘贴于介质基片(1)上表面的微带贴片(2),粘贴于介质基片(1)下表面的接地板(3),连接微带贴片(2)的馈线(6);所述的介质基片(1)由透红外辐射材料制作而成,所述的微带贴片(2)为圆环形金属网栅,所述的接地板(3)由透红外辐射半导体材料制作而成;介质基片(1)、微带贴片(2)以及接地板(3)材料的选择,使得该天线不仅具有效率高的优势,而且具有红外光学透过率高、透射光高级次衍射能量分布均匀的优势,进而使得天线后方的红外光学成像系统能够均匀清晰成像。

    双位相复合超分辨光瞳滤波方法与装置

    公开(公告)号:CN1786776A

    公开(公告)日:2006-06-14

    申请号:CN200510130464.5

    申请日:2005-12-09

    Abstract: 本发明公开了一种双位相复合超分辨光瞳滤波方法,包括将直写光束分成相互正交的第一光束和第二光束;对第一光束进行位相调制;对第二光束进行位相调制;位相调制通过第二位相调制板实现,所述第一、第二位相调制板的结构由其归一化位相分布函数确定;使所述第一光束和第二光束通过聚焦物镜会聚;使所述第一光束和第二光束聚焦于同一焦平面上的步骤;本发明的有益效果在于,不需要制作透过率调制板就可以实现透过率调制,避免了光束遮挡、光束整形、透过率渐变掩模板调制过程中生成杂散光的问题;、避免光束整形过程中,破坏光束准直性和能量均匀性;实现透过率调制的同时,还保留有位相设计自由度,因而可以独立实现振幅型超分辨、位相型超分辨及复振幅型超分辨,具有设计灵活的优点。本发明的还提供一种实现上述双位相复合超分辨光瞳滤波方法的装置。

    一种基于衍射光栅的主轴径向回转误差测量装置与方法

    公开(公告)号:CN108168461B

    公开(公告)日:2019-10-25

    申请号:CN201810027452.7

    申请日:2018-01-11

    Abstract: 本发明一种基于衍射光栅的主轴径向回转误差测量装置与方法属于精密仪器制造及测量技术领域;该装置包括待测主轴,光栅,装夹装置,激光器,凸透镜,折光元件,光电转换器,信号处理电路和上位机;该方法首先确定等分角半径位置,再调整激光器、凸透镜与折光元件的位置,调整光电转换器与凸透镜之间距离,将获得的干涉信号转换为电学信息,对接收到的信号进行辨向计数及矢量合成并解调出光栅的位移信息,最后评定待测主轴的径向回转误差;本发明利用衍射光栅将主轴的径向回转误差转化为衍射干涉光斑的位移,利用光电转换器获取光斑的位移信息,从而规避了高采样频率的电容传感器难以获得的困境,实现了高速主轴径向回转误差的精密测量。

    一种用于测量主轴径向回转误差的标准器

    公开(公告)号:CN107036553B

    公开(公告)日:2019-05-21

    申请号:CN201710308222.3

    申请日:2017-05-04

    Abstract: 本发明一种用于测量主轴径向回转误差的标准器属于精密仪器制造及测量技术领域;该标准器包括设置有靶标的靶标盘,安装盘,LED,PCB板,开关,装有电池的电池座和紧固螺栓;所述靶标盘安装在安装盘上部,所述LED焊接在PCB板上表面,所述开关和电池座焊接在PCB板下表面,所述PCB板通过紧固螺栓安装在安装盘下部;所述靶标为通孔,设置在靶标盘中心外的位置;本发明标准器与待测主轴同轴设置,形成一套全新的主轴径向回转误差测量装置与方法,再结合数字图像处理技术,不仅不需要高采样频率电容传感器,降低了设备成本,而且能够实现高转速主轴径向回转误差的高精度测量。

    基于45°光纤的非本征型光纤珐珀声压传感器及加工方法

    公开(公告)号:CN105067102B

    公开(公告)日:2017-11-14

    申请号:CN201510508642.7

    申请日:2015-08-19

    Abstract: 本发明基于45°光纤的非本征型光纤珐珀声压传感器及加工方法属于声压传感器技术领域;该传感器包括一个硅支撑结构,一根从硅支撑结构侧面贴靠底部插入的研抛端面为45°的光纤,设置在硅支撑结构顶部的声压敏感薄膜,硅支撑结构与声压敏感薄膜构成珐珀腔;声压敏感薄膜为银薄膜,银薄膜内切圆直径与厚度的比值大于1000;该加工方法首先加工硅支撑结构,并在基座上表面依次旋涂正性光刻胶,沉积声压敏感薄膜,再将硅支撑结构顶端与声压敏感薄膜粘贴在一起,然后溶解正性光刻胶,最后将光纤从光纤插口插入、调整,再将光纤插口密封;本发明不仅能够满足贴合于被测物表面使用的技术需求,而且能够解决共轴型非本征型光纤珐珀腔声压传感器稳定性差的问题。

    一种用于测量主轴径向回转误差的标准器

    公开(公告)号:CN107036553A

    公开(公告)日:2017-08-11

    申请号:CN201710308222.3

    申请日:2017-05-04

    CPC classification number: G01B11/2408

    Abstract: 本发明一种用于测量主轴径向回转误差的标准器属于精密仪器制造及测量技术领域;该标准器包括设置有靶标的靶标盘,安装盘,LED,PCB板,开关,装有电池的电池座和紧固螺栓;所述靶标盘安装在安装盘上部,所述LED焊接在PCB板上表面,所述开关和电池座焊接在PCB板下表面,所述PCB板通过紧固螺栓安装在安装盘下部;所述靶标为通孔,设置在靶标盘中心外的位置;本发明标准器与待测主轴同轴设置,形成一套全新的主轴径向回转误差测量装置与方法,再结合数字图像处理技术,不仅不需要高采样频率电容传感器,降低了设备成本,而且能够实现高转速主轴径向回转误差的高精度测量。

    一种内嵌式金属网栅电磁屏蔽光学窗制备方法

    公开(公告)号:CN104837325B

    公开(公告)日:2017-07-28

    申请号:CN201510262960.X

    申请日:2015-05-21

    Inventor: 金鹏 韩余

    Abstract: 一种内嵌式金属网栅电磁屏蔽光学窗制备方法属于光学窗技术领域;该方法首先制作二氧化钛溶胶;然后采用旋涂法在衬底上涂覆二氧化钛溶胶,并使二氧化钛溶胶自然干燥,形成裂缝模板;最后在裂缝模板表面连续刮涂掺有疏水溶剂的纳米银浆,直到纳米银浆充满裂缝,并在50~80℃温度范围内加热烘烤;本发明内嵌式金属网栅电磁屏蔽光学窗制备方法,可以实现在与现有技术相同效果的同时,省略现有技术必须的去除裂缝模板的步骤,节省制作时间和制作成本;同时,烘干后的纳米银浆嵌入到裂缝模板内,有效避免因纳米银浆损坏而造成光学窗电磁屏蔽性能被破坏的问题,此外,还考虑到二氧化钛溶胶厚度的变化会影响光学窗透光性能问题,给出了二氧化钛溶胶的合理厚度。

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