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公开(公告)号：CN116472497A
公开(公告)日：2023-07-21
申请号：CN202180075400.7
申请日：2021-10-14
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： A·J·范德奈特 , M·C·M·维哈根 , J·H·W·雅各布斯 , L·J·A·凡鲍克霍文 , J·P·J·范勒比锡格
Abstract: 提供了一种用于光刻设备的调节系统，所述调节系统被配置成调节光刻设备的一个或多个光学元件，其中所述调节系统被配置成在一个或多个光学元件处具有亚大气压力。还提供了包括这种调节系统的光刻设备、这种调节系统的用途、调节系统的方法以及包括亚大气压力冷却系统的光刻方法。
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公开(公告)号：CN101872130B
公开(公告)日：2012-10-03
申请号：CN201010114018.6
申请日：2004-08-27
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·M·T·M·迪里奇斯 , S·N·L·当德斯 , J·H·W·贾科布斯 , H·詹森 , E·R·鲁普斯特拉 , J·J·S·M·梅坦斯 , M·K·斯塔文加 , B·斯特里克 , M·C·M·维哈根 , L·塞恩蒂恩斯-格鲁达
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70866 , B01D19/0031 , B01D61/025 , B01D61/24 , C02F1/04 , C02F1/20 , C02F1/28 , C02F1/283 , C02F1/32 , C02F1/42 , C02F1/441 , C02F2103/40 , G03F7/2041 , G03F7/70341
Abstract: 一种光刻投射装置，包括：用于提供辐射投射光束的辐射系统；用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需的图案对投射光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的辐射光束投射到基底的目标部分上的投射系统；用于以浸液至少部分填充所述投射系统的最后元件和所述基底之间的空间的液体供给系统，所述液体供给系统包括用于净化所述浸液的液体净化器，其中所述液体净化器包括位于所述空间的上游并不与所述空间接触的脱气单元；而且所述液体供给系统在所述投射系统的投射镜头周围形成无接触密封，从而所述浸液被限定为填充与所述投射系统面对的基底的主要表面和所述投射系统的最后元件之间的空间。
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公开(公告)号：CN101923290A
公开(公告)日：2010-12-22
申请号：CN201010186587.1
申请日：2005-08-12
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： T·P·M·卡迪 , J·H·W·贾科布斯 , N·坦卡特 , E·R·鲁普斯特拉 , A·L·H·J·范米尔 , J·J·S·M·梅坦斯 , C·G·M·德莫 , M·J·E·H·米特詹斯 , A·J·范德内特 , J·J·奥坦斯 , J·A·夸伊达克斯 , M·E·鲁曼-休斯肯 , M·K·斯塔温加 , P·A·J·廷内曼斯 , M·C·M·维哈根 , J·J·L·H·维斯帕 , F·E·德荣格 , K·戈尔曼 , B·门奇奇科夫 , H·博姆 , S·尼蒂亚诺夫 , R·莫尔曼 , M·F·P·斯米特斯 , B·L·P·小恩德马克 , F·J·J·詹斯森 , M·里伊彭
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70808 , G03F7/70341 , G03F7/70841 , G03F7/70875
Abstract: 一种光刻设备包括：调节辐射束的照明系统；支撑构图器件的支架，该构图器件能够将它截面中的图案赋予辐射束以形成构图的辐射束；支撑衬底的衬底台；把已构图的辐射束投影到衬底的目标部分的投影系统；利用液体至少部分地填充在所述投影系统的最后元件和所述衬底之间的间隙的液体供应系统；在投影系统的所述最后元件和述衬底之间的所述间隙中基本包含所述液体的密封构件；和控制和/或补偿浸渍液体从所述衬底蒸发的元件。
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公开(公告)号：CN100498538C
公开(公告)日：2009-06-10
申请号：CN200510075891.8
申请日：2005-05-16
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： N·A·拉勒曼特 , M·C·M·维哈根 , M·贝克斯 , R·斯图蒂恩斯 , P·A·斯米特斯 , W·F·G·M·赫托格 , D·T·W·范德普拉斯 , S·科伊林克 , H·克雷斯
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 一种光刻装置，包括：提供辐射投影光束的辐射系统；支撑图案成形装置的第一支撑结构，图案成形装置用于使投影光束根据所需的图案来形成图案；支撑衬底的第二支撑结构；投影系统，将已形成图案的光束投影到衬底的目标部分上，投影系统包括限定了到衬底的工作距离的下表面；和至少一个气体发生结构，在所述下表面和衬底之间延伸的体积中产生经调节的气流，其中，气体发生结构还包括导向件，其用于将气流引导到大致定位在投影系统下表面之下的下方体积中，导向件被构造为可将气流从大致向下的方向引导到大致平行于投影系统下表面的方向上。其中导向件是设置成可使气流朝向下方体积偏转的偏转面板。本发明还提供一种器件制造方法。
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公开(公告)号：CN1746775A
公开(公告)日：2006-03-15
申请号：CN200510113235.2
申请日：2005-08-12
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： T·P·M·卡迪 , J·H·W·贾科布斯 , N·坦卡特 , E·R·鲁普斯特拉 , A·L·H·J·范米尔 , J·J·S·M·梅坦斯 , C·G·M·德莫 , M·J·E·H·米特詹斯 , A·J·范德内特 , J·J·奥坦斯 , J·A·夸伊达克斯 , M·E·鲁曼-休斯肯 , M·K·斯塔温加 , P·A·J·廷内曼斯 , M·C·M·维哈根 , J·J·L·H·维斯帕 , F·E·德荣格 , K·戈尔曼 , B·门奇奇科夫 , H·博姆 , S·尼蒂亚诺夫 , R·莫尔曼 , M·F·P·斯米特斯 , B·L·P·小恩德马克 , F·J·J·詹斯森 , M·里伊彭
IPC: G03F7/20 , G03F9/00 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70808 , G03F7/70341 , G03F7/70841 , G03F7/70875
Abstract: 一种光刻设备包括：调节辐射束的照明系统；支撑构图器件的支架，该构图器件能够将它截面中的图案赋予辐射束以形成构图的辐射束；支撑衬底的衬底台；把已构图的辐射束投影到衬底的目标部分的投影系统；利用液体至少部分地填充在所述投影系统的最后元件和所述衬底之间的间隙的液体供应系统；在投影系统的所述最后元件和述衬底之间的所述间隙中基本包含所述液体的密封构件；和控制和/或补偿浸渍液体从所述衬底蒸发的元件。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1825208B
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN200610004195.2
申请日：2006-02-21
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·K·斯塔文加 , J·H·W·雅各布斯 , H·詹森 , M·C·M·维哈根
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/709
Abstract: 光刻装置和器件制造方法公开了用于减小光刻装置的液体供给系统中的压力梯度的各种类型的压力调节器件，液体供给系统具有构造成可在光刻装置的投影系统与衬底台之间至少部分地限制液体的液体限制结构。高的压力梯度会引起液体供给系统和/或液体限制结构中的颗粒污染。例如可以利用在一个或多个阀中的低速切换、围绕或通过一个或多个阀的引射流、将液体改道到排出管而不是或者附加地将阀切断、用于防止冲击波的压力调节器或流动限制器，以及用于补偿压力波动的缓冲容积/缓冲器，来减小压力梯度。
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公开(公告)号：CN101872130A
公开(公告)日：2010-10-27
申请号：CN201010114018.6
申请日：2004-08-27
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·M·T·M·迪里奇斯 , S·N·L·当德斯 , J·H·W·贾科布斯 , H·詹森 , E·R·鲁普斯特拉 , J·J·S·M·梅坦斯 , M·K·斯塔文加 , B·斯特里克 , M·C·M·维哈根 , L·塞恩蒂恩斯-格鲁达
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70866 , B01D19/0031 , B01D61/025 , B01D61/24 , C02F1/04 , C02F1/20 , C02F1/28 , C02F1/283 , C02F1/32 , C02F1/42 , C02F1/441 , C02F2103/40 , G03F7/2041 , G03F7/70341
Abstract: 一种光刻投射装置，包括：用于提供辐射投射光束的辐射系统；用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需的图案对投射光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的辐射光束投射到基底的目标部分上的投射系统；用于以浸液至少部分填充所述投射系统的最后元件和所述基底之间的空间的液体供给系统，所述液体供给系统包括用于净化所述浸液的液体净化器，其中所述液体净化器包括位于所述空间的上游并不与所述空间接触的脱气单元。
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公开(公告)号：CN1770018A
公开(公告)日：2006-05-10
申请号：CN200510114138.5
申请日：2005-10-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·J·S·M·梅坦斯 , S·N·L·多德斯 , R·F·德格拉夫 , C·A·胡根达姆 , A·J·范德内特 , F·J·H·M·特尼斯森 , P·A·J·廷内曼斯 , M·C·M·维哈根 , J·J·L·H·维斯帕 , E·A·M·范戈佩
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/70341
Abstract: 光刻装置和器件制造方法公开了一种光刻装置，其包括配置成使用液体至少部分填充投影系统和基底之间的空间的液体供给系统，配置成去除液体和气体混合物的出口，所述液体和气体混合物流过液体供给系统的液体限制结构和基底之间的间隙，配置成通过所述出口排出混合物的排空系统，该排空系统包括布置成把混合物中的液体和气体分开的分离罐和分离罐压力控制器，该分离罐压力控制器与分离罐的非液体填充区相连，并配置成使非液体填充区保持稳定的压力。
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公开(公告)号：CN1591192A
公开(公告)日：2005-03-09
申请号：CN200410068266.6
申请日：2004-08-27
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·M·T·M·迪里奇斯 , S·N·L·当德斯 , J·H·W·贾科布斯 , H·詹森 , E·R·鲁普斯特拉 , J·J·S·M·梅坦斯 , M·K·斯塔文加 , B·斯特里克 , M·C·M·维哈根 , L·塞恩蒂恩斯-格鲁达
CPC classification number: G03F7/70866 , B01D19/0031 , B01D61/025 , B01D61/24 , C02F1/04 , C02F1/20 , C02F1/28 , C02F1/283 , C02F1/32 , C02F1/42 , C02F1/441 , C02F2103/40 , G03F7/2041 , G03F7/70341
Abstract: 在一种光刻投射装置中，液体供给系统在投射系统的最后元件和带有液体封闭系统的基底之间的空间保持液体。该液体供给系统还包括用于净化浸液的脱矿物质单元、蒸馏单元和UV照射源。为了抑制生命体生长，化学药品可以加到浸液中，并且液体供给系统的部件可以由对可见光非透明的材料制造，从而减少生命体的生长。
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公开(公告)号：CN102749809B
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：CN201210116902.2
申请日：2012-04-19
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： S·N·L·多恩德尔斯 , V·Y·班尼恩 , J·H·J·莫尔斯 , M·C·M·维哈根 , O·W·V·费里基恩斯 , G·范冬克 , H·J·范格尔纳
CPC classification number: G03F7/70858 , F28D15/0266
Abstract: 本发明公开了一种用于热调节光刻设备的部份的热调节系统及热调节方法。所述系统包括：蒸发器，定位成与部份热接触，以通过蒸发器内流体的蒸发来从部份提取热量；冷凝器，定位成与部份相距一距离，用于通过冷凝器内流体的冷凝来从冷凝器内的流体去除热量；流体管路，布置在蒸发器和冷凝器之间，以形成流体能在其中流动的回路；泵，布置在回路中，以使流体在回路中循环；储存器，用于保持流体，储存器与回路流体连通且包括热交换器；温度传感器，用于提供表示流体温度的测量信号；及控制器，用于基于测量信号、通过调整热交换器传递至储存器内的流体或者从储存器内的流体传递的热量，而将回路内流体的温度保持为基本恒定。
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