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公开(公告)号：CN100474029C
公开(公告)日：2009-04-01
申请号：CN200710003929.X
申请日：2004-09-30
申请人： 日本航空电子工业株式会社
CPC分类号： G02B6/3584 , B81B3/0083 , B81B2201/045 , B81C1/00182 , G02B6/122 , G02B6/136 , G02B6/3514 , G02B6/3518 , G02B6/3546 , G02B6/357 , G02B6/3596 , G02B26/0841
摘要： 本发明涉及微光学装置制造方法。该装置包括复杂结构和可移动反射镜，可在更短的时间内制造出该微光学装置。硅基底和单晶硅装置层以及置于其间的氧化硅中间层构成基底，其上掩模材料层得以形成且被构图，从而形成与如平面图所示的预期光学装置的结构具有相同图案的掩模。将构造为反射镜表面的表面选择为硅晶体的面。利用掩模，通过反应离子干刻蚀，垂直刻蚀装置层，直到露出中间层为止。随后利用KOH溶液在约十分钟的时间段内以大约0.1μm/min的刻蚀速率，执行对于晶向是各向异性的湿刻蚀，从而将反射镜4的侧壁表面转变为光滑的晶体学表面。随后，选择性地湿刻蚀中间层，从而仅在位于光学装置的可移动部件下面的区域中除去中间层。
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公开(公告)号：CN101063732A
公开(公告)日：2007-10-31
申请号：CN200710101887.3
申请日：2007-04-25
申请人： 日本航空电子工业株式会社
CPC分类号： G02B6/3514 , G02B6/3518 , G02B6/352 , G02B6/355 , G02B6/357 , G02B6/3584
摘要： 本发明涉及一种光开关，其输入口(光纤61)与第一、第二输出口(光纤62、63)的光耦合通过由驱动器对反射镜的驱动而转换，第一、第二输出口在隔着输入口的相反一侧相互成为锐角而配置，经第一反射镜面(35a)、使输入口与第一输出口光耦合，经第二反射镜面(36a)、使输入口与第二输出口光耦合。入射光(71)向反射镜面(35a)、(36a)射入的入射角相等，且使自输入口分别至第一及第二输出口的光程相等。驱动器在第一反射镜面(35a)的近前位置使第二反射镜面(36a)插入或拔出。
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公开(公告)号：CN100350293C
公开(公告)日：2007-11-21
申请号：CN200410095156.9
申请日：2004-10-31
申请人： 日本航空电子工业株式会社
CPC分类号： G02B6/358 , G02B6/3514 , G02B6/3546 , G02B6/357 , G02B6/3584
摘要： 形成在基底上的光学器件包括：多个形成在基底顶面的光纤通道；反射镜，在配置在光纤通道中的光纤之间的光路中推进和拉出；可移动杆，一端支撑反射镜；梳形静电激励器，在可移动杆的中间部分的位置，在可移动杆长度方向上移动可移动杆；多个支撑梁，在可移动杆的驱动力施加点的两侧上的两端附近，可移动支承可移动杆，驱动力由梳形静电激励器产生。支撑梁在关于平行于可移动杆长度方向的中心线成线对称的位置上支持可移动杆，由多个支撑梁支承可移动杆的点关于由梳形静电激励器产生的驱动力的施加点对称。即使由梳形静电激励器产生的驱动力包括不同的矢量分量，可抑制可移动杆在驱动可移动杆的所需方向外的方向上的移动。
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公开(公告)号：CN1605897A
公开(公告)日：2005-04-13
申请号：CN200410089799.2
申请日：2004-10-10
申请人： 日本航空电子工业株式会社
CPC分类号： G02B6/358 , G02B6/3514 , G02B6/3546 , G02B6/357 , G02B6/3584 , G02B6/3596 , H02N1/008
摘要： 一种小型可移动设备包括形成于基底上并适于在平行于该基底的片表面方向上移位的可移动部分，形成并固定安装于该基底上的固定部分，及铰链，每个铰链的相对端部连接到该可移动部分和固定部分并呈现两反向弯曲状态，当其呈现任何一种弯曲状态，该铰链可通过自保持作用在两个位置有效保持该可移动部分。该基底形成有壁表面，这些壁表面设置成与铰链的相对面在整个铰链的可移动范围中都相对。当铰链呈现两反向弯曲状态任何一种(呈现生产初始状态)时，在铰链与设置在其相对侧的壁表面在铰链长度方向每个点上彼此相等。这克服了在生产中湿蚀后干燥步骤期间存在的困难，克服了可仅在铰链的一侧剩下液体使得该铰链保持吸附在壁表面上。
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公开(公告)号：CN100587529C
公开(公告)日：2010-02-03
申请号：CN200710101887.3
申请日：2007-04-25
申请人： 日本航空电子工业株式会社
CPC分类号： G02B6/3514 , G02B6/3518 , G02B6/352 , G02B6/355 , G02B6/357 , G02B6/3584
摘要： 本发明涉及一种光开关，其输入口(光纤61)与第一、第二输出口(光纤62、63)的光耦合通过由驱动器对反射镜的驱动而转换，第一、第二输出口在隔着输入口的相反一侧相互成为锐角而配置，经第一反射镜面(35a)、使输入口与第一输出口光耦合，经第二反射镜面(36a)、使输入口与第二输出口光耦合。入射光(71)向反射镜面(35a)、(36a)射入的入射角相等，且使自输入口分别至第一及第二输出口的光程相等。驱动器在第一反射镜面(35a)的近前位置使第二反射镜面(36a)插入或拔出。
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公开(公告)号：CN100444317C
公开(公告)日：2008-12-17
申请号：CN200510065655.8
申请日：2005-03-03
申请人： 日本航空电子工业株式会社
IPC分类号： H01L21/027 , G02B6/35 , G02B6/36
摘要： 一种微型移动装置，在单晶硅衬底上配置有可沿平行于晶片表面移动的活动部件(活动杆(46)、活动梳状电极(49)等)和固定部件(固定部件(40a)等)。固定部件通过夹在中间的绝缘层(62)固定在单晶硅衬底(61)上，在未形成固定部件的单晶硅衬底(61)的表面区域中形成凹陷(64)，活动部件位于凹陷(64)的上方。凹陷(64)形成足够大的间隙(50)，从而防止由外来物质造成的诸如活动部件故障和短路这样的问题。
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公开(公告)号：CN1766684A
公开(公告)日：2006-05-03
申请号：CN200510065655.8
申请日：2005-03-03
申请人： 日本航空电子工业株式会社
IPC分类号： G02B6/35 , G02B6/36 , H01L21/027
摘要： 一种微型移动装置，在单晶硅衬底上配置有可沿平行于晶片表面移动的活动部件(活动杆46、活动梳状电极49等)和固定部件(固定部件40a等)。固定部件通过夹在中间的绝缘层62固定在单晶硅衬底61上，在未形成固定部件的单晶硅衬底61的表面区域中形成凹陷64，活动部件位于凹陷64的上方。凹陷64形成足够大的间隙50，从而防止由外来物质造成的诸如活动部件故障和短路这样的问题。
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公开(公告)号：CN106164727B
公开(公告)日：2018-06-29
申请号：CN201580019615.1
申请日：2015-04-15
申请人： 日本航空电子工业株式会社
CPC分类号： G02B6/4231 , G02B6/00 , G02B6/32 , G02B6/325 , G02B6/4214 , G02B6/4249 , G02B6/4292 , G02B7/00
摘要： 一种光模块，其包含第一光学块和第二光学块，该第一光学块和第二光学块为了光轴对齐而分别具有透镜并且相互定位固定，具有阶段性的定位结构。第一阶段的定位结构形成为可看见的形状。第二阶段的定位结构包含棱和具有碰抵斜面的弹簧片，以碰抵斜面位于第二光学块的四个角部的方式将四个弹簧片形成在第二光学块，长度方向一端侧的两个碰抵斜面形成镜像，另一端侧的碰抵斜面与长度方向延长上的碰抵斜面位于同一平面上，通过使各碰抵斜面与第一光学块的棱碰抵而进行定位。第三阶段的定位结构包含在两光学块的一方形成的凹部、引导斜面和在另一方形成的凸部。凸部与凹部嵌合。
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公开(公告)号：CN100375914C
公开(公告)日：2008-03-19
申请号：CN200410102355.8
申请日：2004-09-30
申请人： 日本航空电子工业株式会社
CPC分类号： G02B6/3584 , B81B3/0083 , B81B2201/045 , B81C1/00182 , G02B6/122 , G02B6/136 , G02B6/3514 , G02B6/3518 , G02B6/3546 , G02B6/357 , G02B6/3596 , G02B26/0841
摘要： 本发明涉及微光学装置。该装置包括复杂结构和可移动反射镜，可在更短的时间内制造出该微光学装置。硅基底和单晶硅装置层以及置于其间的氧化硅中间层构成基底，其上掩模材料层得以形成且被构图，从而形成与如平面图所示的预期光学装置的结构具有相同图案的掩模。将构造为反射镜表面的表面选择为硅晶体的面。利用掩模，通过反应离子干刻蚀，垂直刻蚀装置层，直到露出中间层为止。随后利用KOH溶液在约十分钟的时间段内以大约0.1μm/min的刻蚀速率，执行对于晶向是各向异性的湿刻蚀，从而将反射镜4的侧壁表面转变为光滑的晶体学表面。随后，选择性地湿刻蚀中间层，从而仅在位于光学装置的可移动部件下面的区域中除去中间层。
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公开(公告)号：CN101004478A
公开(公告)日：2007-07-25
申请号：CN200710003929.X
申请日：2004-09-30
申请人： 日本航空电子工业株式会社
CPC分类号： G02B6/3584 , B81B3/0083 , B81B2201/045 , B81C1/00182 , G02B6/122 , G02B6/136 , G02B6/3514 , G02B6/3518 , G02B6/3546 , G02B6/357 , G02B6/3596 , G02B26/0841
摘要： 本发明涉及微光学装置制造方法。该装置包括复杂结构和可移动反射镜，可在更短的时间内制造出该微光学装置。硅基底和单晶硅装置层以及置于其间的氧化硅中间层构成基底，其上掩模材料层得以形成且被构图，从而形成与如平面图所示的预期光学装置的结构具有相同图案的掩模。将构造为反射镜表面的表面选择为硅晶体的面。利用掩模，通过反应离子干刻蚀，垂直刻蚀装置层，直到露出中间层为止。随后利用KOH溶液在约十分钟的时间段内以大约0.1μm/min的刻蚀速率，执行对于晶向是各向异性的湿刻蚀，从而将反射镜4的侧壁表面转变为光滑的晶体学表面。随后，选择性地湿刻蚀中间层，从而仅在位于光学装置的可移动部件下面的区域中除去中间层。
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