氮化物半导体激光器件
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101132113A

    公开(公告)日:2008-02-27

    申请号:CN200710153168.6

    申请日:2005-05-17

    Abstract: 一种氮化物半导体激光器件(10),包括:氮化物半导体激光元件(11),其具有谐振腔端面且能够发射波长最长为420nm的光;连接到所述氮化物半导体激光元件(11)的散热器(12);管座(14),其上安装有散热器(12);以及设置在所述管座(14)上的光探测元件(13),用于探测来自所述氮化物半导体激光元件(11)的激光束。所述氮化物半导体激光元件(11)、散热器(12)和光探测元件(13)密封在连接到管座(14)的罩(15)中,且所述罩(15)之内的气氛具有最高为-30℃的露点和最高100ppm的氧浓度。

    制造激光器件的方法
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100420110C

    公开(公告)日:2008-09-17

    申请号:CN200610091605.1

    申请日:2006-06-06

    Abstract: 本发明公开了一种制造激光器件的方法,其包括在高于具有低熔点的金属的熔点的温度下使金属熔化,从而通过金属将激光器芯片固定到支架上,在低于所述熔点的加热温度下加热固定了激光器芯片的支架,之后,采用管壳覆盖固定了激光器芯片的支架,由此密封激光器芯片。可以在产生臭氧的环境内,或者产生氧等离子体的环境下执行加热步骤。此外,在干空气或惰性气体中采用管壳覆盖固定了激光器芯片的支架,从而制作密封封闭封装,之后在加热的同时向封装内照射紫外线。本发明在不劣化激光器芯片所采用的焊料和电极的情况下去除附着在包括激光器芯片、芯柱和管壳的封装元件上的污染物,并在激光器芯片工作时抑制光化学反应物质在发光端面上沉积。

    制造激光器件的方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101242077A

    公开(公告)日:2008-08-13

    申请号:CN200810004004.1

    申请日:2006-06-06

    Abstract: 本发明公开了一种制造激光器件的方法,其包括将激光器芯片固定到具有光透射窗的封装的内部;密封地封闭所述封装的内部;以及通过所述光透射窗向所述封装的内部照射具有420nm或更短波长的光,同时在70℃或更高的温度下加热所述激光器件。本发明在不劣化激光器芯片所采用的焊料和电极的情况下去除附着在包括激光器芯片、芯柱和管壳的封装元件上的污染物,并在激光器芯片工作时抑制光化学反应物质在发光端面上沉积。

    制造激光器件的方法
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1877931A

    公开(公告)日:2006-12-13

    申请号:CN200610091605.1

    申请日:2006-06-06

    Abstract: 本发明公开了一种制造激光器件的方法,其包括在高于具有低熔点的金属的熔点的温度下使金属熔化,从而通过金属将激光器芯片固定到支架上,在低于所述熔点的加热温度下加热固定了激光器芯片的支架,之后,采用管壳覆盖固定了激光器芯片的支架,由此密封激光器芯片。可以在产生臭氧的环境内,或者产生氧等离子体的环境下执行加热步骤。此外,在干空气或惰性气体中采用管壳覆盖固定了激光器芯片的支架,从而制作密封封闭封装,之后在加热的同时向封装内照射紫外线。本发明在不劣化激光器芯片所采用的焊料和电极的情况下去除附着在包括激光器芯片、芯柱和管壳的封装元件上的污染物,并在激光器芯片工作时抑制光化学反应物质在发光端面上沉积。

    氮化物半导体激光器件

    公开(公告)号:CN1702927A

    公开(公告)日:2005-11-30

    申请号:CN200510072704.0

    申请日:2005-05-17

    Abstract: 一种氮化物半导体激光器件(10),包括:氮化物半导体激光元件(11),其具有谐振腔端面且能够发射波长最长为420nm的光;连接到所述氮化物半导体激光元件(11)的散热器(12);管座(14),其上安装有散热器(12);以及设置在所述管座(14)上的光探测元件(13),用于探测来自所述氮化物半导体激光元件(11)的激光束。所述氮化物半导体激光元件(11)、散热器(12)和光探测元件(13)密封在连接到管座(14)的罩(15)中,且所述罩(15)之内的气氛具有最高为-30℃的露点和最高100ppm的氧浓度。

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