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公开(公告)号：CN110879433B
公开(公告)日：2021-01-01
申请号：CN201911167157.2
申请日：2019-11-25
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G02B5/18
Abstract: 一种基于光热折变玻璃的反射式体光栅制备方法，包括步骤：(1)曝光面进行精抛光；采用双束紫外平行光形成的干涉条纹对PTR玻璃进行曝光；采用450‑550℃的温度进行热显影；沿垂直于曝光入射面方向切割；对切割面精抛光处理后镀上对使用波长λ使透过率大于99.5％的全介质减反膜，完成反射式体光栅的制备。本发明通过调节曝光角度θ可实现对使用波长的调控，通过对曝光时长、热处理温度和时长实现对反射式体光栅的衍射效率(10％～99％)进行调控，通过切割厚度(0.3mm～30mm)调控实现对光谱半高宽(0.02nm～1nm)进行调控。通过工艺参数调节实现自由调控，且有利于实现规模化量产。
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公开(公告)号：CN110736561A
公开(公告)日：2020-01-31
申请号：CN201911012197.X
申请日：2019-10-23
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种高功率激光系统中反射光学元件的制备及其测温方法，反射光学元件的制备包括步骤：在基底材料上利用磁控溅射镀制一层VO2相变薄膜；在VO2相变薄膜上镀制高反膜。由于VO2的相变特性，反射光学元件的透过率会随温度发生变化，高功率激光系统中测温方法包括利用接触式测温的方法测试反射光学元件在某一波长处透过率随温度变化的曲线；高功率激光系统中，增加该波长的探测激光入射至反射光学元件表面的辐照区域，并利用功率计测试探测激光的透过率；结合上述透过率随温度变化曲线利用透射率计算光学元件的表面温度。本发明相比红外热像仪测温的方法不仅成本较低，而且可以高精度的测试光学元件表面微米深度的温度变化。
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公开(公告)号：CN108873316A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201810746871.6
申请日：2018-07-09
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种多块多通道复用体布拉格光栅级联角度偏转器，构成是：沿入射光方向依次是第1块复用体布拉格光栅的前表面的第1增透膜、第1块复用透射式体布拉格光栅、第2块复用透射式体布拉格光栅、…、第N块复用透射式体布拉格光栅和第N块复用透射式体布拉格光栅的后表面的第2增透膜，N为2以上的正整数。所包含的所有光栅通道的最小偏转角度从小到大依次级联。本发明提高了入射光束的绝对衍射效率，具有性能优越，结构简单，可大批量生产，在激光光束扫描技术领域具有重要的实用前景。
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公开(公告)号：CN112394436B
公开(公告)日：2021-07-06
申请号：CN202011336817.8
申请日：2020-11-25
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种用于1064纳米波段的非对称结构全介质反射式合束光栅，其特征在于该光栅由下而上依次分别是光栅基底、周期膜系、位相匹配层和倾斜矩形槽型剖面的顶部光栅。本发明适用于中心波长1064纳米波段，具有偏振不敏感、超宽带、高效率的特点，能满足小型化光谱合束系统对高线密度、宽带不敏感合束光栅的需求。特别适合于结构紧凑、对光源线宽要求较低的双光栅高能激光光谱合束系统。
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公开(公告)号：CN105891925A
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201610239620.X
申请日：2016-04-18
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G02B5/18
CPC classification number: G02B5/1861
Abstract: 一种中心波长1064纳米偏振无关宽带高衍射效率双层反射型全介质光栅，包括由顶层光栅层、次层光栅层和次层光栅剩余层构成光栅顶部结构，以及由高折射率对比度全介质周期薄膜层和基底构成光栅底部结构，所述的顶层光栅层和次层光栅层为高折射率对比度材料，所述光栅的周期为833～1052纳米，占宽比为0.47～0.65。本发明的反射型全介质光栅在入射角度为?1级利特罗角时，在入射光1020～1100纳米范围内可同时使TE、TM偏振方向的?1级衍射效率高于95％，波段内最高衍射效率超过99％，且在较宽角谱(5°左右)和宽方位角谱(正负15°～正负20°)内具有高于95％的?1级衍射效率，实现对偏振无关入射光的高效率衍射。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112394436A
公开(公告)日：2021-02-23
申请号：CN202011336817.8
申请日：2020-11-25
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种用于1064纳米波段的非对称结构全介质反射式合束光栅，其特征在于该光栅由下而上依次分别是光栅基底、周期膜系、位相匹配层和倾斜矩形槽型剖面的顶部光栅。本发明适用于中心波长1064纳米波段，具有偏振不敏感、超宽带、高效率的特点，能满足小型化光谱合束系统对高线密度、宽带不敏感合束光栅的需求。特别适合于结构紧凑、对光源线宽要求较低的双光栅高能激光光谱合束系统。
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公开(公告)号：CN110673444B
公开(公告)日：2020-06-09
申请号：CN201910863246.4
申请日：2019-09-12
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种超大超重衬底表面光刻胶均匀涂覆的旋涂设备，包括旋涂主机、上下样系统和总控系统,该设备主要由气浮转台、密封腔体、匀胶转盘、自动滴胶系统、上下样系统及控制台组成。所述的具有自动动平衡调节功能的气浮转台是该设备的关键所在，所述的匀胶转盘是采用补圆法尽可能地降低方形衬底旋转时产生的不规则气流对涂胶均匀性的影响，所述的上下样系统用于保障超大/超重衬底安全地上下涂胶机工位。本发明设备能够满足在直径近两米、重量约700kg的衬底表面进行光刻胶的涂布工艺，在通光口径内的涂胶不均匀性优于±3％。
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公开(公告)号：CN110673444A
公开(公告)日：2020-01-10
申请号：CN201910863246.4
申请日：2019-09-12
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种超大超重衬底表面光刻胶均匀涂覆的旋涂设备，包括旋涂主机、上下样系统和总控系统,该设备主要由气浮转台、密封腔体、匀胶转盘、自动滴胶系统、上下样系统及控制台组成。所述的具有自动动平衡调节功能的气浮转台是该设备的关键所在，所述的匀胶转盘是采用补圆法尽可能地降低方形衬底旋转时产生的不规则气流对涂胶均匀性的影响，所述的上下样系统用于保障超大/超重衬底安全地上下涂胶机工位。本发明设备能够满足在直径近两米、重量约700kg的衬底表面进行光刻胶的涂布工艺，在通光口径内的涂胶不均匀性优于±3％。
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公开(公告)号：CN105891925B
公开(公告)日：2019-04-19
申请号：CN201610239620.X
申请日：2016-04-18
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G02B5/18
Abstract: 一种中心波长1064纳米偏振无关宽带高衍射效率双层反射型全介质光栅，包括由顶层光栅层、次层光栅层和次层光栅剩余层构成光栅顶部结构，以及由高折射率对比度全介质周期薄膜层和基底构成光栅底部结构，所述的顶层光栅层和次层光栅层为高折射率对比度材料，所述光栅的周期为833～1052纳米，占宽比为0.47～0.65。本发明的反射型全介质光栅在入射角度为‑1级利特罗角时，在入射光1020～1100纳米范围内可同时使TE、TM偏振方向的‑1级衍射效率高于95％，波段内最高衍射效率超过99％，且在较宽角谱(5°左右)和宽方位角谱(正负15°～正负20°)内具有高于95％的‑1级衍射效率，实现对偏振无关入射光的高效率衍射。
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公开(公告)号：CN106840610B
公开(公告)日：2018-10-02
申请号：CN201710011135.1
申请日：2017-01-06
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G01M11/02
Abstract: 一种真空环境下光学元件损伤阈值的测量装置和测量方法。采用等效光路法实现在真空环境中对光斑面积的准确测量和对测量过程中的光斑质量进行实时监测，确保对光学元件损伤阈值的准确测量。该装置可以在一次真空环境中实现对4片透、反射元件和衍射元件样品采用1‑on‑1、S‑on‑1、R‑on‑1和光栅扫描的方式进行损伤阈值测量，并能够对测试环境中的残余气体进行分析。且该设备能对测量过程进行自动控制并实现数据的自主采集，极大地提高了真空环境下光学元件的损伤测试效率。
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