离子注入机和采用此离子注入机的离子注入方法

    公开(公告)号:CN1159074A

    公开(公告)日:1997-09-10

    申请号:CN96112929.8

    申请日:1996-09-16

    CPC classification number: H01J37/3171 H01J2237/057

    Abstract: 一种离子注入机和一种对正离子和负离子均适用的离子注入方法。该离子注入机具有:离子分离器;质量分析器,用于按照预定方向偏转由离子分离器导入的离子,而无论离子的带电状态如何;以及极性转换器,用于按照离子的带电状态来改变质量分析器中磁场的通量方向。因此,不用更换离子注入机,就能在晶片中形成浅杂质层和深杂质层,使得仅用一台离子注入机就能注入BF+和B+或P+,结果,半导体器件的产量可以被提高。

    离子注入机和采用此离子注入机的离子注入方法

    公开(公告)号:CN1189921C

    公开(公告)日:2005-02-16

    申请号:CN96112929.8

    申请日:1996-09-16

    CPC classification number: H01J37/3171 H01J2237/057

    Abstract: 一种离子注入机和一种对正离子和负离子均适用的离子注入方法。该离子注入机具有:离子分离器;质量分析器,用于按照预定方向偏转由离子分离器导入的离子,而无论离子的带电状态如何;以及极性转换器,用于按照离子的带电状态来改变质量分析器中磁场的通量方向。因此,不用更换离子注入机,就能在晶片中形成浅杂质层和深杂质层,使得仅用一台离子注入机就能注入BF+和B+或P+,结果,半导体器件的产量可以被提高。

    用于供给光致抗蚀剂的系统

    公开(公告)号:CN1075209C

    公开(公告)日:2001-11-21

    申请号:CN95102906.1

    申请日:1995-01-28

    Abstract: 一种用于供给光致抗蚀剂的系统,包括:一个用于保存光致抗蚀剂的存储容器;一个用于从存储容器中接收光致抗蚀剂的层叠过滤器,它具有一个适于从中排放光致抗蚀剂的排放管;和一个回流管,它连接在层叠过滤器的排放管与存储容器之间,用于使从层叠过滤器中排出的光致抗蚀剂回流至存储容器中。

    用于供给光致抗蚀剂的系统

    公开(公告)号:CN1121845A

    公开(公告)日:1996-05-08

    申请号:CN95102906.1

    申请日:1995-01-28

    Abstract: 一种用于供给光致抗蚀剂的系统,包括:一个用于保存光致抗蚀剂的存储容器;一个用于从存储容器中接收光致抗蚀剂的层叠过滤器,它具有一个适于从中排放光致抗蚀剂的排放管;和一个回流管,它连接在层叠过滤器的排放管与存储容器之间,用于使从层叠过滤器中排出的光致抗蚀剂回流至存储容器中。

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