使用原子层沉积填充间隙的方法和设备

    公开(公告)号:CN113818007A

    公开(公告)日:2021-12-21

    申请号:CN202110191386.9

    申请日:2021-02-19

    Abstract: 提供了使用原子层沉积填充间隙的方法和设备。该方法包括通过将反应抑制剂吸附到间隙的侧壁上而形成第一反应抑制层、通过将第一反应物吸附到间隙的底部和间隙的在间隙的底部周围的侧壁上而形成第一前体层、以及在间隙的底部和间隙的在间隙的底部周围的侧壁上形成第一原子层。反应抑制剂包括不与第二反应物反应的前体材料。第一反应抑制层具有其中反应抑制剂的密度朝向间隙的底部减小的密度梯度。形成第一原子层包括将第二反应物吸附到第一前体层上。

    集成光拾取器和制造它的方法及包括它的光信息存储系统

    公开(公告)号:CN1551159A

    公开(公告)日:2004-12-01

    申请号:CN200410045118.2

    申请日:2004-05-09

    CPC classification number: G11B7/1353 G11B7/123 G11B7/22

    Abstract: 提供一种集成光学拾取器及其制造方法,以及包括该光学拾取器的光学信息存储系统。集成光学拾取器包括:光源;主光探测器,用于接收由光源发射以及从信息存储介质反射的光;聚光和光路分离元件,用于将由光源发射的光聚焦在光学存储介质上并将入射在光学信息存储介质上的光的光路和由光学信息存储介质反射的光的光路分离;和光具座,其联结至聚光和光路分离元件,光路形成于光源和主光探测器、和聚光和光路分离元件之间,且光具座和聚光和光路分离元件分别形成于晶片上接着通过分离成多个组件获得。超小集成光学拾取器和包括光学拾取器的光学信息存储系统可以低成本批量地制造。

    防止莫尔可见性的图案结构和使用该图案结构的显示装置

    公开(公告)号:CN109524436B

    公开(公告)日:2023-07-28

    申请号:CN201811091535.9

    申请日:2018-09-18

    Abstract: 提供了一种用于防止莫尔图案变得可见的图案结构,以及使用该图案结构的显示装置。图案结构包括:第一元件图案,包括以第一间距规则排列的多个第一元件;第二元件图案,包括以第二间距规则排列的多个第二元件,第二元件图案设置在第一元件图案上;以及填充层,被配置为填充多个第二元件中的相邻第二元件之间的间隙。第二元件的透射率和填充层的透射率之间的差异为约5%或更小,因此,可以防止由于第一元件图案与第二元件图案的交叠而产生的莫尔图案变得可见。

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