公开(公告)号：US4387139A

公开(公告)日：1983-06-07

申请号：US302687

申请日：1981-09-15

申请人： Walter Herwig ,  Kurt Erbes ,  Rudolf Decker ,  Helga Sikora

发明人： Walter Herwig ,  Kurt Erbes ,  Rudolf Decker ,  Helga Sikora

IPC分类号： C08F2/00 ,  C08F2/48 ,  C08F2/50 ,  C08F290/00 ,  C08F299/00 ,  C08F299/06 ,  C08G18/00 ,  C08G18/67 ,  G03F7/032 ,  C08G18/32 ,  C08G69/00 ,  C08L29/04

CPC分类号： G03F7/032 ,  C08F299/065 ,  C08G18/6705 ,  C08G18/675 ,  Y10T428/31605 ,  Y10T428/31786

摘要： A polyurethane corresponding to the formula: ##STR1## wherein Q is a divalent, mononuclear or dinuclear aromatic radial which is unsubstituted or is substituted by lower alkyl groups and which can contain, as a linking member, a lower alkylene group,X is one of the groups --O--Ph--Z--Ph--O-- and --OOC--(CH.sub.2).sub.y --COO--,Ph being an optionally substituted phenylene group,Z being an alkylene group having 1-4 carbon atoms and y being a number from 2 to 12,R is a hydrogen atom or a methyl group,Y is an alkylene radical having 2-6 carbon atoms,m is an integer from 4 to 50n is an integer from 1 to 6 ando is an integer from 4 to 20having the properties of thermoplasts and being hardenable to give elastic products. It is suitable for use as a hardenable constituent of photopolymerizable materials.

摘要翻译： 对应于下式的聚氨酯：其中Q是未取代的或被低级烷基取代的二价，单核或双核芳族离子，其可以含有作为连接成员的低级亚烷基 基团，X是-O-Ph-Z-Ph-O-和-OOC-（CH 2）y -COO-基团之一，Ph是任选取代的亚苯基，Z是具有1-4个碳原子的亚烷基 y为2〜12的数，R为氢原子或甲基，Y为碳原子数2〜6的亚烷基，m为4〜50的整数，n为1〜6的整数，o 是4〜20的整数，具有热塑性的特性，并且可硬化以产生弹性产品。 适用于光聚合材料的可硬化组分。

公开(公告)号：US4399239A

公开(公告)日：1983-08-16

申请号：US400351

申请日：1982-07-21

申请人： Walter Herwig ,  Kurt Erbes ,  Rudolf Decker ,  Helga Sikora

发明人： Walter Herwig ,  Kurt Erbes ,  Rudolf Decker ,  Helga Sikora

IPC分类号： C08F2/00 ,  C08F2/48 ,  C08F2/50 ,  C08F290/00 ,  C08F299/00 ,  C08F299/06 ,  C08G18/00 ,  C08G18/67 ,  G03F7/032 ,  C08G18/14 ,  C08G18/32 ,  C08L29/04

CPC分类号： G03F7/032 ,  C08F299/065 ,  C08G18/6705 ,  C08G18/675 ,  Y10T428/31605 ,  Y10T428/31786

摘要： A polyurethane corresponding to the formula: ##STR1## wherein Q is a divalent, mononuclear or dinuclear aromatic radial which is unsubstituted or is substituted by lower alkyl groups and which can contain, as a linking member, a lower alkylene group,X is one of the groups --O--Ph--Z--Ph--O-- and --OOC--(CH.sub.2).sub.y --COO--,Ph being an optionally substituted phenylene group,Z being an alkylene group having 1--4 carbon atoms andy being a number from 2 to 12,R is a hydrogen atom or a methyl group,Y is an alkylene radical having 2-6 carbon atoms,m is an integer from 4 to 50n is an integer from 1 to 6 ando is an integer from 4 to 20having the properties of thermolasts and being hardenable to give elastic products. It is suitable for use as a hardenable constituent of photopolymerizable materials.

摘要翻译： 对应于下式的聚氨酯：其中Q是未取代的或被低级烷基取代的二价，单核或双核芳族离子，其可以含有作为连接成员的低级亚烷基 基团，X是-O-Ph-Z-Ph-O-和-OOC-（CH 2）y -COO-基团之一，Ph是任选取代的亚苯基，Z是具有1-4个碳原子的亚烷基 y为2〜12的数，R为氢原子或甲基，Y为碳原子数2〜6的亚烷基，m为4〜50的整数，n为1〜6的整数，o 是4〜20的整数，具有热熔胶的性质，并且可硬化以产生弹性产品。 适用于光聚合材料的可硬化组分。

公开(公告)号：US4485166A

公开(公告)日：1984-11-27

申请号：US366379

申请日：1982-04-07

申请人： Walter Herwig ,  Rudolf Decker ,  Helga Sikora ,  Kurt Erbes

发明人： Walter Herwig ,  Rudolf Decker ,  Helga Sikora ,  Kurt Erbes

IPC分类号： B23K35/22 ,  C08F299/02 ,  C08G59/00 ,  C08G59/40 ,  G03F7/004 ,  G03F7/032 ,  H05K3/28 ,  G03C1/68 ,  G03C1/76

CPC分类号： H05K3/287 ,  B23K35/224 ,  C08F299/024 ,  G03F7/032 ,  H05K2203/0793

摘要： A radiation-polymerizable mixture comprising a compound having at least two terminal ethylenically unsaturated groups which can form a crosslinked polymer by means of free-radical initiated addition polymerization, a polymeric binder, a radiation activatable polymerization initiator, and a compound having two epoxy groups in the molecule and a molecular weight of not more than 1,500; and a photopolymerizable copying material having a flexible transparent temporary support and a transferrable thermoplastic photopolymerizable layer comprising the above-described radiation-polymerizable mixture.

摘要翻译： 一种可辐射聚合的混合物，其包含具有至少两个末端烯键式不饱和基团的化合物，其可以通过自由基引发的加成聚合形成交联聚合物，聚合物粘合剂，可辐射活化聚合引发剂和具有两个环氧基团的化合物 该分子的分子量不超过1500; 以及具有柔性透明临时支撑体的可光聚合复印材料和包含上述可辐射聚合混合物的可转移热塑性可光聚合层。

公开(公告)号：US5387486A

公开(公告)日：1995-02-07

申请号：US144115

申请日：1993-10-27

申请人： Michael Emmelius ,  Walter Herwig ,  Kurt Erbes ,  Rudolf Decker

发明人： Michael Emmelius ,  Walter Herwig ,  Kurt Erbes ,  Rudolf Decker

IPC分类号： G03F7/033 ,  C08F257/02 ,  C08F283/10 ,  C08G59/00 ,  C08G59/18 ,  C08G59/40 ,  C08K3/36 ,  G03F1/08 ,  G03F7/004 ,  G03F7/031 ,  G03F7/032 ,  G03F7/038 ,  H05K3/06 ,  H05K3/28 ,  G03C3/00

CPC分类号： H05K3/287 ,  C08F257/02 ,  C08F283/10 ,  G03F7/004 ,  G03F7/032 ,  H05K2203/0793 ,  Y10S430/136

摘要： The present invention relates to a radiation-polymerizable mixture which includes a polymerizable compound, a polymeric binder which has units of methacrylic acid, a methacrylic acid ester and a styrene, the latter in a proportion of 40 to 65% by weight, a finely divided mineral pigment on a silicic acid or silicate basis, a photopolymerization initiator, a compound having at least two epoxy groups in its molecule and a thermal hardener for epoxy groups. The mixture is advantageous, in particular, for producing solder masks and can be cured after exposure to an image and development by heating to about 80.degree. to 150.degree. C. to form a stencil which is resistant under soldering conditions.

摘要翻译： 本发明涉及一种可辐射聚合的混合物，其包括可聚合化合物，具有甲基丙烯酸单元，甲基丙烯酸酯和苯乙烯的聚合物粘合剂，后者的比例为40至65重量％，细分 在硅酸或硅酸盐基础上的矿物颜料，光聚合引发剂，在其分子中具有至少两个环氧基的化合物和用于环氧基的热硬化剂。 该混合物特别有利于制备焊料掩模，并且可以在暴露于图像之后进行固化，并通过加热至约80-150℃进行显影，以形成在焊接条件下具有耐受性的模版。

公开(公告)号：US5264324A

公开(公告)日：1993-11-23

申请号：US585642

申请日：1990-09-20

申请人： Michael Emmelius ,  Walter Herwig ,  Kurt Erbes ,  Rudolf Decker

发明人： Michael Emmelius ,  Walter Herwig ,  Kurt Erbes ,  Rudolf Decker

IPC分类号： G03F7/033 ,  C08F257/02 ,  C08F283/10 ,  C08G59/00 ,  C08G59/18 ,  C08G59/40 ,  C08K3/36 ,  G03F1/08 ,  G03F7/004 ,  G03F7/031 ,  G03F7/032 ,  G03F7/038 ,  H05K3/06 ,  H05K3/28 ,  G03C1/68

CPC分类号： H05K3/287 ,  C08F257/02 ,  C08F283/10 ,  G03F7/004 ,  G03F7/032 ,  H05K2203/0793 ,  Y10S430/136

摘要： The present invention relates to a radiation-polymerizable mixture which includes a polymerizable compound, a polymeric binder which has units of methacrylic acid, a methacrylic acid ester and a styrene, the latter in a proportion of 40 to 65% by weight, a finely divided mineral pigment on a silicic acid or silicate basis, a photopolymerization initiator, a compound having at least two epoxy groups in its molecule and a thermal hardener for epoxy groups. The mixture is advantageous, in particular, for producing solder masks and can be cured after exposure to an image and development by heating to about 80.degree. to 150.degree. C. to form a stencil which is resistant under soldering conditions.

摘要翻译： 本发明涉及一种可辐射聚合的混合物，其包括可聚合化合物，具有甲基丙烯酸单元，甲基丙烯酸酯和苯乙烯的聚合物粘合剂，后者的比例为40至65重量％，细分 在硅酸或硅酸盐基础上的矿物颜料，光聚合引发剂，在其分子中具有至少两个环氧基的化合物和用于环氧基的热硬化剂。 该混合物特别有利于制备焊料掩模，并且可以在暴露于图像之后进行固化，并通过加热至约80-150℃进行显影，以形成在焊接条件下具有耐受性的模版。

公开(公告)号：US4379834A

公开(公告)日：1983-04-12

申请号：US391084

申请日：1982-06-23

申请人： Walter Herwig ,  Kurt Klupfel ,  Helga Sikora ,  Heide Sprengel

发明人： Walter Herwig ,  Kurt Klupfel ,  Helga Sikora ,  Heide Sprengel

IPC分类号： C23G1/00 ,  C23G1/10 ,  C25D5/34 ,  G03C5/00 ,  G03F7/42 ,  G03C5/24

CPC分类号： G03F7/426 ,  C23G1/00 ,  C23G1/103 ,  C25D5/34

摘要： A process and an aqueous treatment solution for cleaning copper surfaces, in particular for removing residues of photoresist layers, which residues still adhere after development to the cleared copper areas, are described. The solution contains a water-soluble aliphatic sulfonic acid having 8 to 30 carbon atoms or a water-soluble salt thereof.

摘要翻译： 描述了一种用于清洁铜表面的方法和水处理溶液，特别是用于去除残留在显影后残留到经清除的铜区域的光致抗蚀剂层的残留物。 该溶液含有碳原子数为8〜30的水溶性脂肪族磺酸或其水溶性盐。

公开(公告)号：US4559292A

公开(公告)日：1985-12-17

申请号：US537000

申请日：1983-09-29

申请人： Ulrich Geissler ,  Walter Herwig ,  Helga Sikora

发明人： Ulrich Geissler ,  Walter Herwig ,  Helga Sikora

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03C1/76 ,  G03C1/805 ,  G03F7/09 ,  G03F7/115 ,  G03F7/34 ,  G03C3/00

CPC分类号： G03F7/115 ,  G03F7/346

摘要： The present invention relates to a photosensitive transfer material, which comprises a flexible temporary support film which is preferably transparent, a thermoplastic photosensitive layer, optionally a flexible cover film on the free side of the photosensitive layer and, optionally, an intermediate layer between the support film and the photosensitive layer. The photosensitive transfer material is suitable for manufacturing photoresist stencils and solder masks. The temporary support film has a rough surface which exerts an embossing effect on the surface of the photosensitive layer and the intermediate layer, respectively. The mat-finish of the intermediate layer prevents an irregular deformation of this layer in moist air, while the mat-finish of the photosensitive layer precludes unwanted reflections.

摘要翻译： 本发明涉及一种感光转印材料，其包括优选透明的柔性临时支撑膜，热敏感光层，可选地在感光层的自由侧上的柔性覆盖膜，以及可选地，在支撑体 胶片和感光层。 感光转印材料适用于制造光刻胶模板和焊接掩模。 临时支撑膜具有分别在感光层和中间层的表面上施加压花效果的粗糙表面。 中间层的表面处理防止了该层在潮湿空气中的不规则变形，而感光层的光洁度则排除了不希望的反射。

公开(公告)号：US4678737A

公开(公告)日：1987-07-07

申请号：US931986

申请日：1986-11-25

申请人： Arnold Schneller ,  Walter Herwig ,  Kurt Erbes

发明人： Arnold Schneller ,  Walter Herwig ,  Kurt Erbes

IPC分类号： G03C1/72 ,  G03F7/004 ,  G03F7/021 ,  G03F7/022 ,  G03F7/039 ,  G03C1/76

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/021 ,  Y10S430/111

摘要： A radiation-sensitive composition is disclosed which comprises: (a) a polymeric binder comprised of an alkenyl phenol monomer; (b) a compound which forms a strong acid under the action of actinic radiation; and (c) a compound which contains at least one acid-cleavable C-O-C bond and has a solubility in a liquid developer which is increased by the action of acid. The composition yields positive-working recording layers which are more flexible than layers comprising known novolak binders.

摘要翻译： 公开了一种辐射敏感组合物，其包括：（a）由烯基酚单体组成的聚合物粘合剂; （b）在光化辐射作用下形成强酸的化合物; 和（c）含有至少一个酸可裂解的C-O-C键并且在液体显影剂中具有溶解性的化合物，其通过酸的作用而增加。 该组合物产生比包含已知酚醛清漆粘合剂的层更柔软的正性记录层。

公开(公告)号：US4014957A

公开(公告)日：1977-03-29

申请号：US609674

申请日：1975-09-02

申请人： Gunther Kirsch ,  Harald Cherdron ,  Walter Herwig

发明人： Gunther Kirsch ,  Harald Cherdron ,  Walter Herwig

IPC分类号： C08L67/00 ,  C08L77/00

CPC分类号： C08L77/00

摘要： The present invention relates to thermoplastic moulding compositions of (A) 99.5 to 80% by weight, of at least one amorphous linear polyamide and (B) 0.5 to 20% by weight of at least one segmented thermoplastic elastomeric copolyester. These novel moulding compositions combine good toughness and hardness with good elongation and stiffness properties as well as good flowing properties of the molten material.

摘要翻译： 本发明涉及（A）99.5至80重量％的至少一种非晶形线性聚酰胺和（B）0.5至20重量％的至少一个分段的热塑性弹性体共聚酯的热塑性模塑组合物。 这些新型成型组合物具有良好的韧性和硬度，具有良好的伸长率和刚度特性以及熔融材料的良好流动性能。

公开(公告)号：US3980614A

公开(公告)日：1976-09-14

申请号：US620247

申请日：1975-10-06

申请人： Siegfried Noetzel ,  Walter Herwig ,  Rudolf Kern ,  Werner Lotz

发明人： Siegfried Noetzel ,  Walter Herwig ,  Rudolf Kern ,  Werner Lotz

IPC分类号： C08L23/00 ,  C07F9/30 ,  C08K5/49 ,  C08K5/53 ,  C08L67/00 ,  C08L77/00 ,  C08L101/00 ,  C09K21/12 ,  C08J3/20

CPC分类号： C08K5/53

摘要： The specification discloses flame retarding plastic materials which contain, as the flame retarding agent, a phosphinic, diphosphinic or tri-phosphinic acid derived from 2-alkyl-2,5-dioxo-1,2-oxaphospholane and an organic monoamine or diamine or triamine, respectively.

摘要翻译： 该说明书公开了阻燃塑料材料，其含有由2-烷基-2,5-二氧代-1,2-氧代磷杂环戊酸和有机单胺或二胺或三胺衍生的次膦酸，二次膦酸或三次膦酸作为阻燃剂 ， 分别。