1,4-二苄基-2,3-苄脒C60的制备方法

    公开(公告)号:CN1876635A

    公开(公告)日:2006-12-13

    申请号:CN200610016992.2

    申请日:2006-07-07

    Inventor: 高翔 郑敏

    Abstract: 本发明涉及一种1,4-二苄基-2,3-苄脒C60的制备方法。用电化学还原法生成的C602-与苯腈(PhCN)反应,选择性的合成出具有较大空间位阻的cis-1衍生物:1,4-二苄基-2,3-苄脒C60。这是首次用富勒烯负离子合成出的具有较大空间位阻的富勒烯的cis-1型的衍生物。产物的结构直接证明了C602-阴离子具有断裂腈基的C≡N键的能力,这是首次用一个非金属中心断开C≡N键。将在生物和医学等方面有很好的应用。

    一种离子液体的制备方法

    公开(公告)号:CN1958574B

    公开(公告)日:2012-05-02

    申请号:CN200610131643.5

    申请日:2006-11-16

    Inventor: 陈继 胡旭 刘郁

    CPC classification number: Y02P20/582

    Abstract: 本发明涉及一种离子液体的制备方法,所用的微波连续反应设备是在家用微波炉的基础上设计,改造,组装而成的。本发明制备的离子液体为具有下面的通式的化合物:A+B-,式中A+为有机阳离子,B-为无机阴离子;所述离子液体在1个大气压下的纯态形式具有低于100℃的熔点。本发明的方法的反应速率可以提高10~1000倍,使常规方法进行的很多速度很慢的离子液体的合成变得容易实现并高速完成,由传统方法制备所需的一周缩短到一个小时以内,而且过程可以连续进行,有效的降低了成本。

    一种离子液体的制备方法

    公开(公告)号:CN1958574A

    公开(公告)日:2007-05-09

    申请号:CN200610131643.5

    申请日:2006-11-16

    Inventor: 陈继 胡旭 刘郁

    CPC classification number: Y02P20/582

    Abstract: 本发明涉及一种离子液体的制备方法,所用的微波连续反应设备是在家用微波炉的基础上设计、改造、组装而成的。本发明制备的离子液体为具有下面的通式的化合物:A+B-,式中A+为有机阳离子,B-为阴离子,所述的阴离子B-为无机阴离子;所述离子液体在1个大气压下(101.325kPa)的纯态形式具有低于100℃的熔点。本发明的方法的反应速率可以提高10~1000倍,使常规方法进行的很多速度很慢的离子液体的合成变得容易实现并高速完成,由传统方法制备所需的一周缩短到一个小时以内,而且过程可以连续进行,有效的降低了成本。

    用于生产四氢噻吩的方法
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118354998A

    公开(公告)日:2024-07-16

    申请号:CN202280080365.2

    申请日:2022-12-05

    Abstract: 本发明涉及用于生产四氢噻吩的方法,其包含以下相继的阶段:a)在至少一种催化剂的存在下、在气体相中、在硫化氢(H2S)的存在下使1,4‑丁二醇反应,以形成包含四氢噻吩、水和可能的未反应的硫化氢的物流(A);b)冷凝物流(A),以获得富四氢噻吩的物流(B)和含有阶段a)结束时可能地形成的不可冷凝物的气态流出物(C);c)至少一个纯化物流(B)的阶段,优选地通过沉降,其中分离水性相、构成物流(D)的有机相和气态流出物(E);d)任选地至少一次蒸馏物流(D),以从气态流出物(F)中离析四氢噻吩;e)收取从阶段c)和任选地阶段d)中离析的四氢噻吩,阶段b)和c)可为相继的或者同时的;f)通过如下的塔进行的气液提取,向所述塔供应有一种或多种包含气态流出物(C)和/或气态流出物(E)以及任选地气态流出物(F)的气体物流(G)以及1,4‑丁二醇的液体物流,以在塔出口处形成气体物流(H)和包含1,4‑丁二醇的富集的液体物流(I);g)将物流(I)的全部或一部分再循环至反应a)。

    用于表面保护的化学产品

    公开(公告)号:CN108473440A

    公开(公告)日:2018-08-31

    申请号:CN201680076238.X

    申请日:2016-11-11

    Applicant: 瀚森公司

    Inventor: C·查 J·比特格

    Abstract: 本公开的一些措施在金属组件与含烃流体接触,即发生积垢的环境前利用钝化作为处理来防止、减少或至少减慢设备积垢。例如,一种措施包括利用本公开的组合物和化合物钝化SAGD工艺或系统中的换热器的方法。在组件首次包含于在线系统之前或将系统下线进行维护后,可将所述组合物施加到组件。所述组合物可用于处理金属设备表面,例如,通过使它们与本文所述的组合物的悬液或溶液接触,然后使系统在线。所述方法可进一步包括处理所述工艺流体,例如,通过将本文所述的组合物注射或分所述组合物批处理进入所述工艺流体。

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