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公开(公告)号:CN114314621B
公开(公告)日:2023-01-10
申请号:CN202011062747.1
申请日:2020-09-30
申请人: 中国科学院过程工程研究所
IPC分类号: C01F7/22 , C01F7/30 , C01B33/187
摘要: 一种无焙烧、强化酸浸煤矸石生产冶金级氧化铝和白炭黑的方法。该方法不进行原料的焙烧活化,采用升温、加压强化盐酸酸浸煤矸石粉,酸浸溶液用于生产冶金级氧化铝,酸浸硅渣用于生产白炭黑。该方法主要步骤包括煤矸石机械粉碎与湿法球磨,草酸除铁,强化酸浸,树脂吸附除杂,喷雾造粒,一步热解和氯化氢吸收,得到冶金级的氧化铝产品,吸收氯化氢得到的盐酸循环利用于煤矸石的强化酸浸;酸浸硅渣经过硫酸洗涤、硅渣碱溶、稀酸沉硅、分离与干燥,得到高纯白炭黑产品。该方法生产成本较低、产品价值高、容易实现规模化生产,是高价值利用煤矸石资源的合理工艺。
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公开(公告)号:CN108002397A
公开(公告)日:2018-05-08
申请号:CN201711488649.2
申请日:2017-12-29
申请人: 云南磷化集团有限公司
IPC分类号: C01B33/187
CPC分类号: C01B33/187 , C01P2006/80
摘要: 本发明公开了一种用工业水玻璃制备白炭黑的方法,属于磷化工领域。工业水玻璃制备白炭黑的技术关键是采用酸化沉淀法制备白炭黑,利用工业水玻璃为原料与不同酸剂反应,从而实现了白炭黑的制备,满足工业湿法磷酸汽提脱氟要求。该发明技术反应条件简单、工艺流程短、成本低,且得到的白炭黑产品中二氧化硅的含量高,杂质含量低等特点,经过反应后得到的白炭黑中SiO2含量高于90%,氟0.41%,铁0.011%,铝0.012%,镁0.0034%,用此白炭黑进行汽提脱氟,在1h以内,脱氟磷酸的P2O5/F大于300。
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公开(公告)号:CN104944429A
公开(公告)日:2015-09-30
申请号:CN201510361792.X
申请日:2015-06-26
申请人: 肇庆学院
IPC分类号: C01B33/187 , A61K8/25 , A61Q11/00
摘要: 本发明涉及轻工、化工材料的技术领域,具体涉及一种复合型二氧化硅及其制备方法及其在牙膏中的应用。一种复合型二氧化硅的制备方法,包括:步骤一,二氧化硅溶胶的制备;步骤二,羧甲基纤维素钠的活化;步骤三,二氧化硅的表面包覆反应;步骤四,产物的后处理。该复合型二氧化硅的制备方法,具有方法简单,生产成本低,无需高温,无需特殊复杂、昂贵设备,且能够适用于大规模生产的特点。该复合型二氧化硅的制备方法制得的复合型二氧化硅,既能够用作牙膏摩擦剂,又同时能够用作牙膏增稠剂,即,该复合型二氧化硅同时具有摩擦剂和增稠剂的功能,从而能够简化牙膏的配方组成,节约成本。
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公开(公告)号:CN104169218A
公开(公告)日:2014-11-26
申请号:CN201380013380.6
申请日:2013-03-07
申请人: 赫罗伊斯石英玻璃股份有限两合公司
IPC分类号: C01B33/12 , C01B33/157 , C01B33/187
CPC分类号: C01B33/1417 , B05D5/005 , B05D2203/35 , B05D2601/22 , B82Y30/00 , C01B33/158 , C01P2004/64 , C03B19/066 , C03C3/076 , C03C8/02 , C03C17/25 , C03C2205/00 , C03C2217/213 , C03C2218/11 , C03C2218/30
摘要: 本发明涉及使用二氧化硅淤浆生产糊状二氧化硅物料的方法,该方法可以简化中间存储条件和运输条件,而没有因此损害由淤浆生成糊状二氧化硅物料的可加工性。根据本发明提供了,使均质化二氧化硅基础淤浆经受干燥步骤以形成二氧化硅干燥物料,并随后通过再湿步骤进一步加工成糊状二氧化硅物料,其中所述再湿步骤包括向二氧化硅干燥物料加入液体,以形成具有大于85重量%的固体含量的糊状可捏合的二氧化硅物料。本发明还涉及糊状二氧化硅物料作为修补物料的用途。
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公开(公告)号:CN102753479A
公开(公告)日:2012-10-24
申请号:CN201080063502.9
申请日:2010-12-20
申请人: 蓝星有机硅法国公司
发明人: R·瓦勒罗
IPC分类号: C01B33/12 , C01B33/18 , C01B33/187 , C01B33/193
CPC分类号: C01B33/12 , C01B33/18 , C01B33/187 , C01B33/193 , C01P2006/11 , C01P2006/12 , C01P2006/19 , C09C1/30 , C09C1/3018 , Y10T428/2982
摘要: 本发明涉及制备尤其是粉末形式的沉淀二氧化硅的方法。本发明还涉及如此获得的沉淀二氧化硅,以及其用途,尤其是用于增强有机硅弹性体基质或者基于有机硅糊料的基质。
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公开(公告)号:CN1826160B
公开(公告)日:2012-08-08
申请号:CN200480021352.X
申请日:2004-07-27
申请人: P&W投资基金管理有限公司
IPC分类号: B01D21/01 , C02F1/52 , C01B33/40 , C01B33/142 , C01B33/187 , C01B33/26 , C01B33/32
CPC分类号: C02F1/5245 , B01D21/01 , C02F2103/007 , C02F2103/42 , Y02W10/37
摘要: 本发明涉及一种碱性含水絮凝剂,其基于碱性含水的盐粘土提取物,含有溶解的硅酸盐和铝酸盐以及碱金属氯化物,其中1重量份以Al(OH)3表示的铝酸盐分摊有1.)约2到3重量份以SiO2表示的硅酸盐以及2.)至少约(10)重量份,特别是至少(20)重量份碱金属氯化物,本发明还涉及一种絮凝剂和沉降剂,其形式为酸性提取的和碱性提取的盐粘土。此外本发明还涉及一种制备这类絮凝剂和沉降剂的方法。它们可以有利地用于游泳池装置,用于饮用水处理、工业水处理、灰色水处理和废水处理,在澄清装置中作为吸附助剂、沉积助剂和过滤助剂,以及在游泳池、池塘和群落生境中用于减少有害物质和使水澄清,其中每种絮凝剂的使用特别是经过计量装置进行。本发明的特别优点在于,所涉及的试剂是由天然产物获得,可以没有有害副作用地用于池塘和群落生境中。
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公开(公告)号:CN101873995A
公开(公告)日:2010-10-27
申请号:CN200880117796.1
申请日:2008-10-24
申请人: 赢创德固赛有限公司
IPC分类号: C01B33/12 , C01B33/143 , C01B33/18 , C01B33/187 , C01B33/193
摘要: 本申请公开了具有下列性质的沉淀二氧化硅:d50值为150到2000nm;d90值为500到7000nm;硅醇基密度为2.5到8OH/nm2;和最大修正堆积密度为70g/l。所述沉淀二氧化硅适合于稠化并为液体体系提供触变性,和现有的沉淀二氧化硅的质量相比,所述沉淀二氧化硅具有更好的稠化和触变效率。所述沉淀二氧化硅在非极性或中等极性液体体系(比如不饱和聚酯(UPE)树脂体系)中很好地充当触变剂。
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公开(公告)号:CN100572271C
公开(公告)日:2009-12-23
申请号:CN200580002403.9
申请日:2005-01-13
申请人: COD技术股份公司
IPC分类号: C01B33/187 , C09C1/30
CPC分类号: C09C1/3018 , C01B33/187 , C01P2004/61 , C01P2006/12 , C01P2006/19 , C09C1/30 , C09C1/3009 , C09C1/3045 , Y10T428/2982
摘要: 从橄榄石生产沉淀二氧化硅的方法,包括以下步骤:提供具有颗粒尺寸优选直径低于1毫米的橄榄石颗粒,优选混合橄榄石和水以形成橄榄石/水浆料,-混合橄榄石/水浆料与盐酸(HCl),盐酸浓度优选在18wt%或以上,并且温度优选在50-130℃之间,并且反应一段时间,优选在20-360分钟之间,除去粗矿物杂质(砂质产品),从母液中分离沉淀二氧化硅,机械处理分离沉淀二氧化硅和可选一些水以获得浆料,通过加入铝酸钠或者另外的合适的铝酸盐优选至100-6000p.p.m.,并且调节pH值优选在4-9之间,来制备低粘度浆料,根据产品需要在温度50-150℃之间老化,分散二氧化硅浆料,除去细矿物杂质(砂质产品),干燥二氧化硅。
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公开(公告)号:CN100482588C
公开(公告)日:2009-04-29
申请号:CN200480034268.1
申请日:2004-09-07
申请人: 法国圣戈班玻璃厂
CPC分类号: C03C1/026 , C01B33/193 , C03B5/235 , C03B5/2356 , C03C1/02 , Y02P40/57 , Y02P40/58
摘要: 本发明涉及选自碱金属、碱土金属或稀土的元素的硅酸盐制备方法,该方法包括在一个反应器中二氧化硅与所述元素硫酸盐的反应,该反应器配备至少一个在熔化物料中的浸没式燃烧嘴,所述的浸没式燃烧嘴供给含有氧气的气体,以有效消耗的氧气计,把过量的还原性燃料加到该反应器中。该方法能在相对低的温度下令人满意的实施这种反应。
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公开(公告)号:CN1787966A
公开(公告)日:2006-06-14
申请号:CN03826706.3
申请日:2003-08-01
申请人: PPG工业俄亥俄公司
IPC分类号: C01B33/12 , C01B33/187 , C01B33/193 , C09G1/02 , C09K3/14
CPC分类号: H01L21/3212 , B82Y30/00 , C01B33/18 , C01B33/193 , C01P2004/50 , C01P2004/51 , C01P2004/62 , C01P2004/64 , C01P2006/12 , C01P2006/19 , C01P2006/90 , C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1436 , C09K3/1463 , C23F3/00 , H01L21/30625 , H01L21/31053
摘要: 本发明涉及硅石、淤浆组合物及其制备方法。尤其,本发明的硅石包括聚集的初级粒子。引入了硅石的淤浆组合物适合于抛光制品,尤其可用于半导体基片和其它微电子基片的化学机械平整处理。
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