发明公开

硅石和硅石型淤浆
摘要:
本发明涉及硅石、淤浆组合物及其制备方法。尤其,本发明的硅石包括聚集的初级粒子。引入了硅石的淤浆组合物适合于抛光制品,尤其可用于半导体基片和其它微电子基片的化学机械平整处理。
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