公开(公告)号：CN104133342B

公开(公告)日：2018-01-23

申请号：CN201410381593.0

申请日：2006-05-22

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 宫坂昌宏 ,  熊木尚

IPC: G03F7/033 ,  G03F7/09 ,  G03F7/00 ,  H05K3/06

CPC classification number: G03F7/031 ,  C08F2/50 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/114 ,  Y10S430/116 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/146

Abstract: 本发明涉及感光性树脂组合物，感光性元件，光致抗蚀图形的形成方法及印刷电路板的制造方法。本发明提供一种感光性树脂组合物，其特征为，含有(A)粘合剂聚合物、(B)具有乙烯性不饱和键的光聚合性化合物、(C1)下述通式(1)所表示的化合物，式(1)中，至少1个R表示碳数4～12的烷基，a、b及c的总和为1～6；a、b及c的总和为2～6时，同一分子中的复数的各个R相同或相异。

公开(公告)号：CN104111583A

公开(公告)日：2014-10-22

申请号：CN201410381347.5

申请日：2006-05-22

Applicant: 日立化成工业株式会社

Inventor： 宫坂昌宏 ,  熊木尚

IPC: G03F7/027 ,  G03F7/004 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/031 ,  C08F2/50 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/114 ,  Y10S430/116 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/146

Abstract: 本发明涉及感光性树脂组合物，感光性元件，光致抗蚀图形的形成方法及印刷电路板的制造方法。本发明提供一种感光性树脂组合物，其特征为，含有(A)粘合剂聚合物、(B)具有乙烯性不饱和键的光聚合性化合物、(C1)下述通式(1)所表示的化合物，式(1)中，至少1个R表示碳数1～10的烷氧基，a、b及c的总和为1～6；a、b及c的总和为2～6时，同一分子中的复数的各个R相同或相异。

公开(公告)号：CN1645253B

公开(公告)日：2010-04-21

申请号：CN200510009055.X

申请日：2001-03-21

Applicant: 日立化成工业株式会社

Inventor： 村上泰治 ,  日高敬浩

IPC: G03F7/028 ,  C08F2/50 ,  H05K3/06

CPC classification number: G03F7/031 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/029 ,  G03F7/0295 ,  G03F7/038 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/125 ,  Y10S430/126 ,  Y10S430/146

Abstract: 本发明是提供一种激光扫描曝光用感光性树脂组合物，其特征为将感光性树脂组合物由高压水银灯全波长的活性光线照射，浓度范围0.00至2.00、浓度步进0.05、平板大小20mm×187mm、各步进大小3mm×12mm的41段步进平板的浓度1.00的21段固化曝光量定为E0mJ/cm2，将放置在40瓦特的无紫外线白色灯下2小时后的上述感光性树脂组合物，由高压水银灯全波长活性光线照射，上述41段步进平板的21段的固化曝光量定为E1mJ/cm2时，可满足下式(1)：-25≤(E1-E0)/E0×100≤25 (1)。

公开(公告)号：CN101061433A

公开(公告)日：2007-10-24

申请号：CN200580039486.9

申请日：2005-11-11

Applicant: 柯达彩色绘图有限责任公司

Inventor： B·施特雷梅尔 ,  H·鲍曼 ,  U·德瓦斯 ,  D·彼得施 ,  A·德拉贝尔 ,  M·默萨尔

IPC: G03F7/031 ,  G03F7/029

CPC classification number: G03F7/029 ,  G03F7/031 ,  Y10S430/116 ,  Y10S430/117 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/123 ,  Y10S430/127 ,  Y10S522/904 ,  Y10S522/913

Abstract: 平版印版前体，其包括(a)具有亲水性表面的平版底物，和(b)在亲水性表面上的辐射－感光涂层，其包含(i)一种或多种单体和/或低聚物和/或聚合物，每个都包含至少一个易进行自由基聚合的烯键式不饱和基团，(ii)至少一种敏化剂，和(iii)至少一种共引发剂，其能够与敏化剂(ii)一起形成自由基；其特征为，至少一种敏化剂是包括以下结构单元(通式(I))的低聚或者聚合化合物，其中π1是芳族或杂芳族单元或者两者的结合，使得共轭π－体系存在于结构(I)中的两个基团Z之间，每个Z独立地表示杂原子，每个R1和R2独立地选自卤素原子、烷基、芳基、烷基芳基或芳烷基、基团－NR3R4和基团－OR5，每个R3、R4和R5独立地选自烷基、芳基、烷基芳基和芳烷基，a和b独立地表示0或1－4的整数，n的值大于1，和AS是脂族间隔基团。

公开(公告)号：CN1802257A

公开(公告)日：2006-07-12

申请号：CN200480016029.3

申请日：2004-06-08

Applicant: 柯达彩色绘图有限责任公司

Inventor： H·-J·廷珀 ,  T·维蒂希 ,  J·黄 ,  U·米勒

IPC: B41C1/10

CPC classification number: B41M5/465 ,  B41C1/1008 ,  B41C1/1016 ,  B41C2201/02 ,  B41C2201/14 ,  B41C2210/04 ,  B41C2210/06 ,  B41C2210/20 ,  B41C2210/22 ,  B41C2210/24 ,  B41M5/368 ,  Y10S430/117 ,  Y10S430/121

Abstract: (a)至少一种能吸收红外辐射的物质，(b)至少一种能形成自由基的化合物，和(c)至少一种式(I)的 1，4－二氢吡啶衍生物。

公开(公告)号：CN1209685C

公开(公告)日：2005-07-06

申请号：CN01806651.8

申请日：2001-03-21

Applicant: 日立化成工业株式会社

Inventor： 村上泰治 ,  日高敬浩

IPC: G03F7/028 ,  G03F7/004 ,  C08F2/48 ,  H05K3/06 ,  H05K3/18

CPC classification number: G03F7/031 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/029 ,  G03F7/0295 ,  G03F7/038 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/125 ,  Y10S430/126 ,  Y10S430/146

Abstract: 本发明是提供一种激光扫描曝光用感光性树脂组合物，其含有(A)粘接剂聚合物、(B)分子内至少有1个可聚合的乙烯性不饱和基的光聚合性化合物、以及(C)光聚合引发剂；在该感光性树脂组合物中，(C)成分是以(C1)己芳基双咪唑化合物、(C2)芳基甘氨酸系化合物、及(C3)鎓盐化合物为必要成分。

公开(公告)号：CN1592738A

公开(公告)日：2005-03-09

申请号：CN02823446.4

申请日：2002-11-28

Applicant: 和光纯药工业株式会社 ,  松下电器产业株式会社

Inventor： 前泽典明 ,  浦野文良 ,  远藤政孝 ,  笹子胜

IPC: C07D209/48 ,  C07D409/14 ,  C07D487/04 ,  G03F7/039

CPC classification number: C07D209/48 ,  C07D487/04 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/121

Abstract: 本发明涉及作为在半导体元件等的制造中使用的化学放大型抗蚀剂组合物的酸产生剂或用于耐热性高分子合成原料有用的新的双二酰亚胺化合物，使用它们的酸产生剂和抗蚀剂组合物以及用该组合物的图案形成方法，进一步涉及作为双二酰亚胺化合物的合成中间体，例如耐热性高分子化合物，感光材料等的功能性化合物的中间体等有用的双(N－羟基)苯邻二甲酰亚胺化合物，即提供通式[1]所示的双二酰亚胺化合物，[式中，R，A1分别如权利要求1定义]使用它们的酸产生剂以及抗蚀剂组合物和用该组合物的图案形成方法。

公开(公告)号：CN1342273A

公开(公告)日：2002-03-27

申请号：CN00804533.X

申请日：2000-03-02

Applicant: 日立化成工业株式会社

Inventor： 大桥武志 ,  石川力

IPC: G03F7/027 ,  C08F20/30 ,  C08F290/06 ,  C08F257/00 ,  C08F2/48

CPC classification number: G03F7/027 ,  C08F257/02 ,  C08F290/06 ,  C08L51/003 ,  C09D151/003 ,  Y10S430/121 ,  Y10S430/126 ,  C08L2666/02

Abstract: 一种光敏树脂组合物,其包括:(A)含有羧基的粘合剂聚合物,其中含有苯乙烯或苯乙烯衍生物作为共聚组分,(B)光聚合引发剂,以及(C)光聚合性化合物,其分子内至少有一个可聚合的不饱和烯键,并含有通式(I)表示的化合物作为必要组分。式中,R1表示氢原子或甲基,A表示烯化氧基,Z1表示卤原子、烷基、环烷基、芳基、氨基、烷氨基、二烷氨基、硝基、氰基、巯基、烷巯基、烯丙基、羟烷基、羧烷基、酰基、烷氧基、或含杂环的基团,m是4～20的整数,n是0～5的整数。

公开(公告)号：CN1249826A

公开(公告)日：2000-04-05

申请号：CN98803003.9

申请日：1998-05-22

Applicant: 西巴特殊化学品控股有限公司

Inventor： K·蒙克

IPC: G03F7/033 ,  G03F7/004 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0048 ,  G03F7/033 ,  G06K19/02 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/117 ,  Y10S430/121

Abstract: 一种光敏组合物,其在室温下为液态并包括a)以苯乙烯－马来酸酐半酯共聚物为基础的18－22重量%的粘合剂聚合物,b)10－15重量%的至少一种光固化丙烯酸酯化合物,c)0.1－10重量%的光引发剂,和d)45－70重量%的丙二醇半酯或丙二醇半醚(halfether),组合物a)至d)的总和为100重量%,适于生产含光致结构的(photostructured)物体,优选地适合生产电话卡。

公开(公告)号：CN101616804B

公开(公告)日：2012-12-12

申请号：CN200880005659.9

申请日：2008-02-13

Applicant: 伊斯曼柯达公司

Inventor： M·列瓦农 ,  L·波斯特尔 ,  M·拉宾 ,  T·库尔特塞尔

IPC: B41C1/10 ,  G03F7/004

CPC classification number: B41M5/368 ,  B41C1/1008 ,  B41C2210/02 ,  B41C2210/06 ,  B41C2210/22 ,  B41C2210/24 ,  B41C2210/262 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/121

Abstract: 辐射敏感性组合物能够用于制备正性可成像元件，后者例如用于制作平版印刷版。组合物包括水性的碱性溶剂可溶性聚合物粘结剂，后者包括酚醛树脂(如线型酚醛清漆)或聚乙烯醇缩醛。组合物还包括包含一种或多种含碱性氮的有机化合物的显影性增强组合物。该辐射敏感性组合物能够被涂覆为可成像层，它进一步包括例如对红外辐射敏感的辐射吸收化合物。