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公开(公告)号：CN1947061B
公开(公告)日：2011-01-26
申请号：CN200580002692.2
申请日：2005-01-19
申请人： 柯达彩色绘图有限责任公司
CPC分类号： G03F7/027 , B41C1/1008 , B41C1/1016 , B41C2201/02 , B41C2201/14 , B41C2210/04 , B41C2210/06 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41N1/083 , Y10S430/122 , Y10S430/145
摘要： 一种平版印刷板前体，包括：a)未经处理的或预先处理的基材和b)辐射敏感涂层，其包括：(i)至少一种在含水碱性显影剂中可溶的或可膨胀的聚合物粘合剂；(ii)至少一种可自由基聚合的单体和/或低聚物，其在分子中包括至少一个非芳族C-C双键和至少一个SH基团；和(iii)用于自由基聚合的辐射敏感引发剂或引发剂系统，其中组分(ii)具有通式(I)，其中各个R1a、R1b和R1c独立地选自H、C1-C6烷基、C2-C8链烯基、芳基、卤素、CN和COOR1d，其中R1d是H、C1-C18烷基、C2-C8链烯基、C2-C8炔基或芳基；和Z是脂族、杂环或芳香杂环间隔基或其两个或更多个的组合，其中Z可任选地包括一个或多个其它的SH基团和/或一个或多个其它的非芳族C-C双键；并且各个Z1独立地选自单键，通式(Ia)、(Ib)、(Ic)、(Id)、(Ie)、(If)、(Ig)、(Ih)、(Ij)、(Ik)、(Im)、(In)、(I0)、(Ip)、(Iq)、(Ir)、(Is)、(It)、(Iu)、(Iv)，其中R2a、R2b和R2c独立地选自H、C1-C6烷基和芳基，Z2选自单键、O、S和NR2c，Z3是连接到Z的单键，b是1-10的整数而c是1-3的整数。
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公开(公告)号：CN101390018A
公开(公告)日：2009-03-18
申请号：CN200680005249.5
申请日：2006-02-01
申请人： 柯达彩色绘图有限责任公司
IPC分类号： G03F7/32
CPC分类号： G03F7/322
摘要： 制造平版印版的方法，该方法包括：(a)提供具有亲水性表面的平版底材；(b)将阴图制版辐射感光组合物施涂于该亲水性表面上，其中该组合物包括：(i)一种或多种类型的单体和/或低聚物和/或聚合物，各自包括至少一个可供自由基聚合的烯属不饱和基团，(ii)至少一种感光剂，在至少一种助引发剂的存在下，在用波长300到＜480nm或＞750到1,100nm的辐射照射时该感光剂引发组分(i)的自由基聚合；和(iii)至少一种具有酸性官能团的粘结剂，并且该组合物对480－750nm的波长范围基本上不感光；(c)取决于所使用的感光剂或引发剂体系，所得阴图制版平版印版前体用选自波长范围为300到＜480nm或＞750到1,100nm的辐射中的辐射成像曝光；和(d)通过用pH值为9－14的碱性显影剂处理而除去未照射区，该碱性显影剂包括：(i)水，(ii)其量足以将pH值调节在9－14范围内的一种或多种碱金属氢氧化物，和(iii)1－30wt％的至少一种式(I)的化合物，其中R1、R2、R3和R4各自独立地选自C1－C12烷基和芳基，X选自－CH＝CH－，－C≡C－，式(II)、式(III)和式(IV)，n+m为2－30的值，p+q为0－30的值，其中在p+q≠0的情况下，氧化乙烯和氧化丙烯单元作为嵌段存在或无规分布。
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公开(公告)号：CN1947061A
公开(公告)日：2007-04-11
申请号：CN200580002692.2
申请日：2005-01-19
申请人： 柯达彩色绘图有限责任公司
CPC分类号： G03F7/027 , B41C1/1008 , B41C1/1016 , B41C2201/02 , B41C2201/14 , B41C2210/04 , B41C2210/06 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41N1/083 , Y10S430/122 , Y10S430/145
摘要： 一种平版印刷板前体，包括：a)未经处理的或预先处理的基材和b)辐射敏感涂层，其包括：(i)至少一种在含水碱性显影剂中可溶的或可膨胀的聚合物粘合剂；(ii)至少一种可自由基聚合的单体和/或低聚物，其在分子中包括至少一个非芳族C－C双键和至少一个SH基团；和(iii)用于自由基聚合的辐射敏感引发剂或引发剂系统，其中组分(ii)具有通式(I)，其中各个R1a、R1b和R1c独立地选自H、C1－C6烷基、C2－C8链烯基、芳基、卤素、CN和COOR1d，其中R1d是H、C1－C18烷基、C2－C8链烯基、C2－C8炔基或芳基；和Z是脂族、杂环或芳香杂环间隔基或其两个或更多个的组合，其中Z可任选地包括一个或多个其它的SH基团和/或一个或多个其它的非芳族C－C双键；并且各个Z1独立地选自单键，通式(Ia)、(Ib)、(Ic)、(Id)、(Ie)、(If)、(Ig)、(Ih)、(Ij)、(Ik)、(Im)、(In)、(Io)、(Ip)、(Iq)、(Ir)、(Is)、(It)、(Iu)、(Iv)，其中R2a、R2b和R2c独立地选自H、C1－C6烷基和芳基，Z2选自单键、O、S和NR2c，Z3是连接到Z的单键，b是1－10的整数而c是1－3的整数。
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公开(公告)号：CN101390018B
公开(公告)日：2012-06-13
申请号：CN200680005249.5
申请日：2006-02-01
申请人： 柯达彩色绘图有限责任公司
IPC分类号： G03F7/32
CPC分类号： G03F7/322
摘要： 制造平版印版的方法，该方法包括：(a)提供具有亲水性表面的平版底材；(b)将阴图制版辐射感光组合物施涂于该亲水性表面上，其中该组合物包括：(i)一种或多种类型的单体和/或低聚物和/或聚合物，各自包括至少一个可供自由基聚合的烯属不饱和基团，(ii)至少一种感光剂，在至少一种助引发剂的存在下，在用波长300到＜480nm或＞750到1,100nm的辐射照射时该感光剂引发组分(i)的自由基聚合；和(iii)至少一种具有酸性官能团的粘结剂，并且该组合物对480-750nm的波长范围基本上不感光；(c)取决于所使用的感光剂或引发剂体系，所得阴图制版平版印版前体用选自波长范围为300到＜480nm或＞750到1,100nm的辐射中的辐射成像曝光；和(d)通过用pH值为9-14的碱性显影剂处理而除去未照射区，该碱性显影剂包括：(i)水，(ii)其量足以将pH值调节在9-14范围内的一种或多种碱金属氢氧化物，和(iii)1-30wt％的至少一种式(I)的化合物，其中R1、R2、R3和R4各自独立地选自C1-C12烷基和芳基，X选自-CH＝CH-，-C≡C-，式(II)、式(III)和式(IV)，n+m为2-30的值，p+q为0-30的值，其中在p+q≠0的情况下，氧化乙烯和氧化丙烯单元作为嵌段存在或无规分布。
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公开(公告)号：CN101142531B
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：CN200580023537.9
申请日：2005-07-14
申请人： 柯达彩色绘图有限责任公司
IPC分类号： G03F7/075
CPC分类号： G03F7/0757 , G03F7/028
摘要： 辐射敏感型元件，包括(a)经过任选预处理的衬底，和(b)施加到所述衬底上的辐射敏感型涂层，由包含下列物质的组合物组成：(i)一种或多种类型的单体和/或低聚物和/或聚合物，每种含有至少一个可用于自由基聚合的烯键式不饱和基团，(ii)用于自由基聚合的至少一种辐射敏感型引发剂或者引发剂体系，其吸收波长范围为300-1200nm的辐射；和(iii)至少一种倍半硅氧烷，其含有至少一个取代基，每个取代基具有至少一个烯键式不饱和基团。
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公开(公告)号：CN101142531A
公开(公告)日：2008-03-12
申请号：CN200580023537.9
申请日：2005-07-14
申请人： 柯达彩色绘图有限责任公司
IPC分类号： G03F7/075
CPC分类号： G03F7/0757 , G03F7/028
摘要： 辐射敏感型元件，包括(a)经过任选预处理的衬底，和(b)施加到所述衬底上的辐射敏感型涂层，由包含下列物质的组合物组成：(i)一种或多种类型的单体和/或低聚物和/或聚合物，每种含有至少一个可用于自由基聚合的烯键式不饱和基团，(ii)用于自由基聚合的至少一种辐射敏感型引发剂或者引发剂体系，其吸收波长范围为300－1200nm的辐射；和(iii)至少一种倍半硅氧烷，其含有至少一个取代基，每个取代基具有至少一个烯键式不饱和基团。
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公开(公告)号：CN1802257A
公开(公告)日：2006-07-12
申请号：CN200480016029.3
申请日：2004-06-08
申请人： 柯达彩色绘图有限责任公司
IPC分类号： B41C1/10
CPC分类号： B41M5/465 , B41C1/1008 , B41C1/1016 , B41C2201/02 , B41C2201/14 , B41C2210/04 , B41C2210/06 , B41C2210/20 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41M5/368 , Y10S430/117 , Y10S430/121
摘要： (a)至少一种能吸收红外辐射的物质，(b)至少一种能形成自由基的化合物，和(c)至少一种式(I)的 1，4－二氢吡啶衍生物。
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