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公开(公告)号：CN103345128B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201310276200.5
申请日：2008-02-06
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
发明人： 斯蒂芬.泽尔特 , 关彦彬 , 安德拉斯.G.梅杰 , 曼弗雷德.莫尔 , 约翰尼斯.艾森门格 , 达米安.菲奥尔卡 , 简.霍恩 , 马库斯.德冈瑟 , 弗洛里安.巴赫 , 迈克尔.帕特拉 , 约翰尼斯.万格勒 , 迈克尔.莱
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70258 , G01B11/002 , G01B11/272 , G01M11/30 , G01N21/55 , G02B26/0833 , G03F7/70058 , G03F7/70116 , G03F7/70133 , G03F7/702 , G03F7/70291 , G03F7/70516 , G03F7/7085 , G05B13/048 , Y10S359/904
摘要： 本发明涉及一种微光刻投射曝光设备(10)的照明系统(12)，包括光瞳面和由优选地可单独控制、用于光瞳面可变地照明的射束偏转元件(28)组成的基本上平面状的布置。可以根据施加在射束偏转元件(28)上的控制信号，通过每个射束偏转元件(28)使得入射到它上的投射光束(32)产生偏转。测量照明装置(54、56、58、60；88；90；98)将与投射光束(32)无关的测量光束(36)被引导到射束偏转元件(28)上。检测装置检测在射束偏转元件(28)上偏转后的测量光束(38)。评估单元根据检测装置提供的测试信号确定投射光束(32)的偏转。
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公开(公告)号：CN103345128A
公开(公告)日：2013-10-09
申请号：CN201310276200.5
申请日：2008-02-06
申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
发明人： 斯蒂芬.泽尔特 , 关彦彬 , 安德拉斯.G.梅杰 , 曼弗雷德.莫尔 , 约翰尼斯.艾森门格 , 达米安.菲奥尔卡 , 简.霍恩 , 马库斯.德冈瑟 , 弗洛里安.巴赫 , 迈克尔.帕特拉 , 约翰尼斯.万格勒 , 迈克尔.莱
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70258 , G01B11/002 , G01B11/272 , G01M11/30 , G01N21/55 , G02B26/0833 , G03F7/70058 , G03F7/70116 , G03F7/70133 , G03F7/702 , G03F7/70291 , G03F7/70516 , G03F7/7085 , G05B13/048 , Y10S359/904
摘要： 本发明涉及一种微光刻投射曝光设备(10)的照明系统(12)，包括光瞳面和由优选地可单独控制、用于光瞳面可变地照明的射束偏转元件(28)组成的基本上平面状的布置。可以根据施加在射束偏转元件(28)上的控制信号，通过每个射束偏转元件(28)使得入射到它上的投射光束(32)产生偏转。测量照明装置(54、56、58、60；88；90；98)将与投射光束(32)无关的测量光束(36)被引导到射束偏转元件(28)上。检测装置检测在射束偏转元件(28)上偏转后的测量光束(38)。评估单元根据检测装置提供的测试信号确定投射光束(32)的偏转。
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公开(公告)号：CN1603225B
公开(公告)日：2011-05-04
申请号：CN200410055678.6
申请日：2004-08-02
申请人： 台湾积体电路制造股份有限公司
CPC分类号： G02B26/0841 , B81B3/0083 , B81B2201/042 , B81B2203/0181 , B81B2203/058 , Y10S359/904
摘要： 一种形成MBMS器件的方法包括在子结构(200)沉积传导材料(224)，在传导材料上形成第一牺牲层(230)，其中包括在第一形成层上形成大致平的表面(232)，并在第一牺牲层的大致平的平面上形成第一元件(141)，其中包括通过第一牺牲层第一元件与传导材料连通。另外，该方法还包括在第一元件上形成第二牺牲层(270)，包括形成第二牺牲层的大致平的表面(272)，在形成第二牺牲层之后，形成穿过第二牺牲层到第一元件的支承件(290)，其中包括填充支承件，并在支承件上形成第二元件(142)以及第二牺牲层的大致平的表面。因此，该方法还包括大致去除第一牺牲层和第二牺牲层，由此通过支承件相对于第一元件支承第二元件。
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公开(公告)号：CN101276054B
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200810095657.5
申请日：2004-12-10
申请人： 佳能株式会社
CPC分类号： G02B26/105 , G02B26/085 , Y10S359/904
摘要： 本发明提供一种能够抑制角速度的波动的共振型微振动部件，具体地说提供一种微振动部件，该微振动部件为一种套装微振动部件，其中存在着基准振动模式和偶数振动模式，所述基准振动模式是基准频率的特征振动模式，所述偶数振动模式是频率近似为基准频率的偶数倍的特征振动模式。
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公开(公告)号：CN101213481B
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200580041816.8
申请日：2005-10-05
申请人： 德州仪器公司
发明人： 彼得·休鲁克斯
CPC分类号： G02B26/0841 , G02B26/0833 , H04N5/7458 , Y10S359/904
摘要： 本发明的空间光调制器包括微镜阵列，其中的每一微镜具有反射性可偏转镜板。提供一组支柱来用于将所述镜板保持在衬底上，但并不是微镜阵列的所有微镜均具有支柱。
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公开(公告)号：CN100485444C
公开(公告)日：2009-05-06
申请号：CN200580006504.3
申请日：2005-02-25
申请人： IDC公司
CPC分类号： G02B26/0833 , G02B7/1821 , G02B26/001 , Y10S359/904
摘要： 在一衬底上布置一可移动元件阵列。每一元件均具有一空腔及一移动穿过所述空腔的可移动部件。所述元件的压力阻力发生变化，从而允许以致动信号的不同电平来操纵致动信号来从而以不同的压力阻力来激励元件。
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公开(公告)号：CN101276054A
公开(公告)日：2008-10-01
申请号：CN200810095657.5
申请日：2004-12-10
申请人： 佳能株式会社
CPC分类号： G02B26/105 , G02B26/085 , Y10S359/904
摘要： 本发明提供一种能够抑制角速度的波动的共振型微振动部件，具体地说提供一种微振动部件，该微振动部件为一种套装微振动部件，其中存在着基准振动模式和偶数振动模式，所述基准振动模式是基准频率的特征振动模式，所述偶数振动模式是频率近似为基准频率的偶数倍的特征振动模式。
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公开(公告)号：CN100363996C
公开(公告)日：2008-01-23
申请号：CN200410063451.6
申请日：2004-07-06
申请人： 汤姆森特许公司
发明人： 弗兰克·斯特劳赫
IPC分类号： G11B7/135
CPC分类号： G11B7/1381 , G02B5/001 , G11B7/094 , G11B7/1275 , G11B7/1356 , G11B7/1365 , G11B7/1378 , G11B7/1395 , G11B2007/0006 , G11B2007/13727 , Y10S359/904
摘要： 本发明涉及一种光扫描器，具有用于组合两条光束(2a，2b)的微光元件(8)。按照本发明，一种光扫描器具有微光元件(8)，该微光元件包括两个部分，并且用于组合由光检测器(9)上的两个光束源(1)发出的两条光束(2a，2b)，第一部分影响第一光束(2a)，第二部分影响第二光束(2b)。
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公开(公告)号：CN1187247A
公开(公告)日：1998-07-08
申请号：CN96194557.5
申请日：1996-06-05
申请人： 硅光机器公司
CPC分类号： G02B5/1828 , G02B26/0808 , Y10S359/904
摘要： 衍射光栅光阀调制入射光束。有多个细长部件,每个具有反射表面。细长部件以其各自端部悬浮,基本上共面。交替的细长部件被电耦合,以接收第一偏压。与之成插指状的细长部件电耦合,以接收第二偏压。通过施加第一和第二偏压,所有的反射平面可以保持在第一平面内。当所有细长部件位于第一平面内时,衍射光栅光阀反射该光束。一些预定的细长部件,最好是交替的,可以变形,以在平行于第一平面的第二平面内基本共面。当所述预定的细长部件组位于第二平面内时,衍射光栅光阀衍射光束。
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公开(公告)号：CN1176727A
公开(公告)日：1998-03-18
申请号：CN95196838.6
申请日：1995-11-22
申请人： 大宇电子株式会社
发明人： 闵庸基
CPC分类号： G02B26/0858 , Y10S359/904
摘要： 一种在光学投影系统中使用的M×N薄膜致动反射镜阵列及其制造方法,所述阵列包括:一有源矩阵,包括一具有M×N连接端子阵列及一M×N晶体管阵列的基底以及一M×N致动机构的阵列,其中每一个致动机构均为双层结构,各致动机构均具有一致动部分及一反光部分,致动部分包括一第一薄膜电极的前部、一个上部电致位移件、一个中间电极、一个下部电致位移件和一个第二薄膜电极的前部;反光部分包括第一和第二薄膜电极的剩余部分;构成所述电致位移件的材料的特性在于:晶体不对称,显示无磁滞回线,并可以在摄氏200—300度间形成。
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