半导体激光器及其制造方法

    公开(公告)号:CN1610995B

    公开(公告)日:2012-12-05

    申请号:CN03801821.7

    申请日:2003-09-19

    Abstract: 一种光输出效率高的半导体激光器元件,具有电流限制效率高、泄漏电流小、且温度特性良好,呈现低阈值电流,能够有效地将激光束限制在条形区内,且具有良好的光束轮廓。此半导体激光器元件(100)具有叠层结构,此叠层结构包含n-AlInP包层(103)、超晶格有源层(104)、p-AlInP第一包层(105)、GaInP腐蚀停止层(106)、以及形成在各层上且加工成条形脊形式的p-AlInP第二包层(107)、GaInP保护层(108)、p-GaAs接触层(109)。p侧电极(111)形成并直接覆盖在脊的顶部表面、脊侧面、以及脊侧面上的腐蚀停止层上。由n-AlInP包层和p-AlInP第一包层将超晶格有源层夹在之间,能够提高与有源层的能带隙差别。

    半导体激光器及其制造方法

    公开(公告)号:CN1610995A

    公开(公告)日:2005-04-27

    申请号:CN03801821.7

    申请日:2003-09-19

    Abstract: 一种光输出效率高的半导体激光器元件,具有电流限制效率高、泄漏电流小、且温度特性良好,呈现低阈值电流,能够有效地将激光束限制在条形区内,且具有良好的光束轮廓。此半导体激光器元件(100)具有叠层结构,此叠层结构包含n-AlInP包层(103)、超晶格有源层(104)、p-AlInP第一包层(105)、GaInP腐蚀停止层(106)、以及形成在各层上且加工成条形脊形式的p-AlInP第二包层(107)、GaInP保护层(108)、p-GaAs接触层(109)。p侧电极(111)形成并直接覆盖在脊的顶部表面、脊侧面、以及脊侧面上的腐蚀停止层上。由n-AlInP包层和p-AlInP第一包层将超晶格有源层夹在之间,能够提高与有源层的能带隙差别。

    一种多波长GaN基非对称量子阱面发射激光器及其制备方法

    公开(公告)号:CN107887790A

    公开(公告)日:2018-04-06

    申请号:CN201710888773.1

    申请日:2017-09-27

    CPC classification number: H01S5/3408 H01S5/187 H01S5/3425

    Abstract: 本发明公开了一种多波长GaN基非对称量子阱面发射激光器及其制备方法,涉及半导体激光器领域。采用非对称量子阱作为有源区来实现激光器的多波长输出,包括两个及两个以上激光波长。器件制备过程包括非平面金属键合、激光剥离、腔长控制以及图形化分布布拉格反射镜制作等。这种多波长面发射激光器具有巨大的应用潜力,可用于空间精确测距、太赫兹信号发生器、光混频、激光光谱学、医疗检测以及增强现实(AR)和三维成像等众多领域。本发明的优势还在于易于实现器件的二维阵列结构,非常适合大规模产业化生产,有利于器件的商品化与实用化。

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