一种薄膜晶体管、其制备方法、阵列基板及显示装置

    公开(公告)号:CN103022150A

    公开(公告)日:2013-04-03

    申请号:CN201210570545.7

    申请日:2012-12-25

    发明人: 袁广才

    摘要: 本发明公开了一种薄膜晶体管、其制备方法、阵列基板及显示装置,将TFT器件中的源电极和漏电极之间形成的水平沟道结构变更为垂直沟道结构,并将栅极与垂直沟道结构设置在同一水平面上,这样,当栅极加载栅扫描信号时,在有源层与栅极相邻的一侧形成垂直于衬底基板的电流通道,电流通道将与有源层连接的第一电极和第二电极导通,使TFT器件处于开启状态。由于可以通过控制栅极在垂直方向的厚度的方式,实现增加垂直沟道结构的长度,以提升TFT器件的导通电流量,从而提高TFT器件的性能。并且,将TFT结构中的水平沟道结构变更为垂直沟道结构,也能减小TFT器件在基板上占用的面积,有助于提高像素单元的开口率。