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公开(公告)号：CN105492879A
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201480045789.0
申请日：2014-07-31
Applicant: 浜松光子学株式会社
CPC classification number: G01B9/02051 , G01J3/0256 , G01J3/4532 , G01J3/4535
Abstract: 制造光干涉仪的方法包括：在支承基板的主面和形成在主面上的第一绝缘层上形成用于分束器的第一半导体部和用于可动镜的第二半导体部的第一工序；在第一半导体部的第一侧面与第二半导体部的第二侧面之间配置第一壁部的第二工序；和使用荫罩掩模在第二侧面形成第一金属膜，由此在第二半导体部形成镜面的第三工序。在第三工序中，在利用掩模部和第一壁部掩蔽第一侧面并且使第二侧面从开口部露出的状态下形成第一金属膜。
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公开(公告)号：CN1062037A
公开(公告)日：1992-06-17
申请号：CN91109595.0
申请日：1991-09-28
Applicant: 岛津制作所
Inventor： 吉川治
IPC: G01J3/45
CPC classification number: G01J3/4532
Abstract: 一种双光束干涉仪包括：两立方角镜相对且共用一或两镜面而形成一整体的两镜面组，并被驱动而在包括两相对棱边的平面或包括由两公共镜面所形成的棱边的平面上作往复转动，一分束片被设在两立方角镜的前面以反射部分入射光并导向两立方角镜的一个，同时，透射入射光的余下部分并导向两立方角镜的另一个，从而在从立方角镜反射出的光分量之间产生干涉。按照本发明，组装时可简化调整并能在有温度变化和振动干扰时稳定地工作。
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公开(公告)号：CN109477760A
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：CN201780043932.6
申请日：2017-07-13
Applicant: 梅特勒-托莱多有限公司
Inventor： F·基利希
CPC classification number: G01J3/4532 , G01N21/031 , H01S3/025 , H01S3/08059 , H01S3/0813 , H01S3/086 , H01S3/094038 , H01S3/094084
Abstract: 在光学装置(1)的情况下，其具有光源(2)，光源在第一光轴(4)的方向上发射光束(3)，其中，第一光轴(4)的空间取向相对于光源(2)的机械结构(5)限定；其具有用于光束(3)的第一反射器(6)，第一反射器布置在距光源(2)一定距离处；并且其具有第二反射器(12)，用于由第一反射器(6)反射的光束(3')，第一反射器(6)是后向反射器(7)，其与第一光轴(4)横向偏移布置，使得它在第二光轴(11)的方向上反射光束(3)，第二光轴在横向偏移的横向方向上具有相对于第一光轴(4)的横向偏移的两倍的平行偏移。第二反射器(12)固定在光源(2)的机械结构(5)上，并在第三光轴(13)的方向上将由第一反射器(6)反射的光束(3)反射回第一反射器(6)，其中，第三光轴(13)相对于第二光轴(11)在固定的横向方向上平行偏移固定量(14)。因此，光束(3)由第一反射器(6)沿第四光轴(15)的方向反射，第四光轴(15)相对于第一光轴(4)与固定的横向方向相反地平行偏移固定量(14)。
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公开(公告)号：CN104833634B
公开(公告)日：2018-06-15
申请号：CN201510303622.6
申请日：2013-10-02
Applicant: 国立大学法人香川大学
Inventor： 石丸伊知郎
IPC: G01N21/01
CPC classification number: G01J3/45 , G01J3/0208 , G01J3/0237 , G01J3/0256 , G01J3/0291 , G01J3/2803 , G01J3/4531 , G01J3/4532 , G01N2021/3595
Abstract: 本发明的分光测量装置具备：分割光学系统，其将从位于被测量物的测量区域内的多个测量点分别发出的测量光束分割为第一测量光束和第二测量光束；成像光学系统，其使第一测量光束与第二测量光束发生干涉；光程差赋予单元，其对第一测量光束和第二测量光束之间赋予连续的光程差分布；检测部，其包括用于检测与上述连续的光程差分布对应的干涉光的强度分布的多个像素；处理部，其基于由检测部检测出的干涉光的光强度分布来求出被测量物的测量点的干涉图，通过对该干涉图进行傅立叶变换来获取光谱；共轭面成像光学系统，其配置在被测量物与分割光学系统之间，具有与该分割光学系统共用的共轭面；以及周期性赋予单元，其配置于共轭面，对从多个测量点发出的测量光束进行空间上的周期调制。
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公开(公告)号：CN104704333A
公开(公告)日：2015-06-10
申请号：CN201380052250.3
申请日：2013-10-02
Applicant: 国立大学法人香川大学
Inventor： 石丸伊知郎
CPC classification number: G01J3/45 , G01J3/0208 , G01J3/0237 , G01J3/0256 , G01J3/0291 , G01J3/2803 , G01J3/4531 , G01J3/4532 , G01N2021/3595
Abstract: 本发明的分光特性测量装置具备：分割光学系统，其将从位于被测量物的测量区域内的多个测量点分别发出的测量光束分割为第一测量光束和第二测量光束；成像光学系统，其使第一测量光束与第二测量光束发生干涉；光程差赋予单元，其对第一测量光束和第二测量光束之间赋予连续的光程差分布；检测部，其检测干涉光的光强度分布；处理部，其基于由检测部检测出的干涉光的光强度分布来求出被测量物的测量点的干涉图，通过对该干涉图进行傅立叶变换来获取光谱；共轭面成像光学系统，其配置在被测量物与分割光学系统之间，具有与该分割光学系统共用的共轭面；以及周期性赋予单元，其配置于共轭面，对从多个测量点发出的测量光束之间附加周期性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107420098A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：CN201610992541.6
申请日：2009-12-23
Applicant: 哈利伯顿能源服务公司
CPC classification number: G01N21/31 , E21B49/088 , G01J3/021 , G01J3/4532 , G01J3/4535 , G01J2003/4534 , G01N21/33 , G01N21/35 , G01N21/3577 , G01N2021/3595 , G01N21/64
Abstract: 本发明涉及用于通过干涉图(具有包含鉴别频率分量的时间变化的频率分量的光束)进行井下光学分析的各种系统和方法。通过在光路中引入干涉仪来产生干涉图，干涉仪的两臂具有以时间为函数变化的传播时间差。光在干涉仪之前或之后与待分析材料相遇，待分析材料例如为来自地层的流体样品、钻孔流体样品、矿样或钻孔壁的一部分。材料的光谱特性会留在光束上，并且可通过执行傅立叶变换以获得光谱或者能够与一个或多个模板相比较的电子处理装置容易地分析所述光谱特性。被设计成在不利的井下环境中良好运行的干涉仪有望实现实验室质量的测量。
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公开(公告)号：CN104145177B
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：CN201380011702.3
申请日：2013-02-27
Applicant: 国立大学法人香川大学
Inventor： 石丸伊知郎
IPC: G01J3/453 , G01N21/45 , G01N21/49 , A61B5/145 , A61B5/1455
CPC classification number: A61B5/1455 , A61B5/14532 , A61B5/6887 , A61B5/7257 , A61B2562/0233 , G01B9/02041 , G01B9/02049 , G01B9/0207 , G01J3/0205 , G01J3/0229 , G01J3/0256 , G01J3/0272 , G01J3/10 , G01J3/18 , G01J3/4532 , G01J3/4535 , G01J2003/102 , G01J2003/4538 , G01N21/255 , G01N21/359 , G01N21/45 , G01N21/49 , G01N21/9501 , G01N2201/0612
Abstract: 本发明使从测量对象发出的测量光入射到固定反射镜部和可动反射镜部，形成被上述固定反射镜部反射的测量光与被上述可动反射镜部反射的测量光的干渉光。此时，通过使上述可动反射镜部进行移动来获得测量光的干渉光强度变化，基于该变化求出测量光的干涉图。另外，同时使作为测量光的波长频带的一部分的窄频带的波长的参考光入射到上述固定反射镜部和上述可动反射镜部，形成被该固定反射镜部反射的参考光与被该可动反射镜部反射的参考光的干涉光。此时，使上述可动反射镜部进行移动，由此基于参考光的干渉光强度变化的振幅以及上述测量光中的同上述参考光相同波长的测量光与上述参考光的相位差来校正上述测量光的干涉图，基于校正后的干涉图来求出上述测量光的光谱。
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公开(公告)号：CN101091100B
公开(公告)日：2011-06-08
申请号：CN200580044252.3
申请日：2005-11-18
Applicant: 摩根研究股份有限公司
IPC: G01B9/02
CPC classification number: G01J3/4532 , G01N21/31 , G01N2021/3595
Abstract: 微型傅立叶变换分光光度计提供了通过傅立叶变换光谱学技术在微型化设备中确定气体或液体的采集样品的光吸收/传输光谱的能力。该设备采用来自光纤的光输入，通过微型光学元件操纵光，并将其发射到具有获取光输入干涉图的扫描镜的迈克尔逊干涉仪中。干涉图可进行处理以取回输入光的光谱。新颖的多阶梯式微反射镜在微型化干涉仪中用作光程长度调制器。特有的整体分光器/反射镜组合提供准确的元件对齐，并极大地简化产品集成。该设备被设计成覆盖感兴趣的各种光学光谱。在工作期间，设备中微制造元件的精确度和准确度允许甚至在极低波长下工作和分析。另外，设备的微型化特性允许其被用于新型及空间极度受限的应用中。
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公开(公告)号：CN101091100A
公开(公告)日：2007-12-19
申请号：CN200580044252.3
申请日：2005-11-18
Applicant: 摩根研究股份有限公司
IPC: G01B9/02
CPC classification number: G01J3/4532 , G01N21/31 , G01N2021/3595
Abstract: 微型傅立叶变换分光光度计提供了通过傅立叶变换光谱学技术在微型化设备中确定气体或液体的采集样品的光吸收/传输光谱的能力。该设备采用来自光纤的光输入，通过微型光学元件操纵光，并将其发射到具有获取光输入干涉图的扫描镜的迈克尔逊干涉仪中。干涉图可进行处理以取回输入光的光谱。新颖的多阶梯式微反射镜在微型化干涉仪中用作光程长度调制器。特有的整体分光器/反射镜组合提供准确的元件对齐，并极大地简化产品集成。该设备被设计成覆盖感兴趣的各种光学光谱。在工作期间，设备中微制造元件的精确度和准确度允许甚至在极低波长下工作和分析。另外，设备的微型化特性允许其被用于新型及空间极度受限的应用中。
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公开(公告)号：CN105492879B
公开(公告)日：2017-07-28
申请号：CN201480045789.0
申请日：2014-07-31
Applicant: 浜松光子学株式会社
CPC classification number: G01B9/02051 , G01J3/0256 , G01J3/4532 , G01J3/4535
Abstract: 制造光干涉仪的方法包括：在支承基板的主面和形成在主面上的第一绝缘层上形成用于分束器的第一半导体部和用于可动镜的第二半导体部的第一工序；在第一半导体部的第一侧面与第二半导体部的第二侧面之间配置第一壁部的第二工序；和使用荫罩掩模在第二侧面形成第一金属膜，由此在第二半导体部形成镜面的第三工序。在第三工序中，在利用掩模部和第一壁部掩蔽第一侧面并且使第二侧面从开口部露出的状态下形成第一金属膜。
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