分光测定装置
    1.
    发明公开
    分光测定装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN117957427A

    公开(公告)日:2024-04-30

    申请号:CN202280062448.9

    申请日:2022-09-01

    发明人: 石丸伊知郎

    IPC分类号: G01J3/453 G01J3/02

    摘要: 分光测定装置(1)具备:准直光学系统(15),其对来自试样(S)的测定点(a)的物体光进行准直;光检测器(21),其具有在规定的方向上排列有多个像素的受光面;共轭面成像光学系统(11),其设置在试样与准直光学系统之间,用于形成与该试样的表面在光学上共轭的面;振幅型衍射光栅(13),其配置于所述共轭的面,所述振幅型衍射光栅(13)是通过在遮光构件设置多个开口而得到的,该遮光构件的光入射面或光出射面由物体光的波长范围下的遮光率高于硅的遮光率的材料形成;光路长度差赋予光学系统(16),其将准直后的物体光分割为第一光束和第二光束并赋予光路长度差;以及干涉光学系统(17),其使被赋予了光路长度差的第一光束与第二光束干涉,来沿着所述规定的方向在所述受光面形成干涉像。

    分光测量装置
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104833634A

    公开(公告)日:2015-08-12

    申请号:CN201510303622.6

    申请日:2013-10-02

    发明人: 石丸伊知郎

    IPC分类号: G01N21/01

    摘要: 本发明的分光测量装置具备:分割光学系统,其将从位于被测量物的测量区域内的多个测量点分别发出的测量光束分割为第一测量光束和第二测量光束;成像光学系统,其使第一测量光束与第二测量光束发生干涉;光程差赋予单元,其对第一测量光束和第二测量光束之间赋予连续的光程差分布;检测部,其包括用于检测与上述连续的光程差分布对应的干涉光的强度分布的多个像素;处理部,其基于由检测部检测出的干涉光的光强度分布来求出被测量物的测量点的干涉图,通过对该干涉图进行傅立叶变换来获取光谱;共轭面成像光学系统,其配置在被测量物与分割光学系统之间,具有与该分割光学系统共用的共轭面;以及周期性赋予单元,其配置于共轭面,对从多个测量点发出的测量光束进行空间上的周期调制。

    分光测定装置
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114341602A

    公开(公告)日:2022-04-12

    申请号:CN202080061774.9

    申请日:2020-08-28

    发明人: 石丸伊知郎

    IPC分类号: G01J3/32 G01J3/453

    摘要: 本发明通过物镜(15)将从物体面(S)的测定点发出的光整合为一个平行光束,通过移相器(19)将该平行光束分割为第一光束和第二光束,对该第一光束与该第二光束之间赋予光路长度差,并且使该第一光束和该第二光束朝向光检测器(21)的受光面射出。在与物镜(15)相关并与物体面光学共轭的面配置有遮光板(13),只有通过了该遮光板(13)的透光部的光去向物镜(15)。基于物镜的焦距、从移相器(19)到光检测器(21)的受光面的距离、光检测器的像素间距、像素的长度以及从测定点发出的光的波长范围内包含的规定波长,来设定遮光板(13)的透光部的横向长度、相邻的两个透光部的间隔。

    分光测定装置和分光测定方法

    公开(公告)号:CN117280196B

    公开(公告)日:2024-10-18

    申请号:CN202280028359.2

    申请日:2022-03-30

    发明人: 石丸伊知郎

    IPC分类号: G01N21/27 A61B5/1455

    摘要: 本发明是对包含从测定对象物发出的光的测定光(110)进行检测并对从所述测定对象物发出的光的分光特性进行测定的分光测定装置(100),其特征在于,具备:分光光学系统,其对所述测定光(110)进行分光;检测部(40),其对由所述分光光学系统进行分光后的光的强度进行检测;分光特性获取部(504),其基于所述检测部的检测结果来获取测定光分光特性,所述测定光分光特性表示所述测定光的光强度与波长之间的关系;存储部(503),其存储背景光候选分光特性信息,所述背景光候选分光特性信息是表示反映了所述检测部(40)的分光灵敏度特性的背景光候选的分光特性的信息;以及运算处理部(504),其根据所述测定光分光特性和所述背景光候选分光特性信息,求出从所述测定对象物的周围发出的光即背景光的分光特性。

    光学特性测定装置和光学特性测定方法

    公开(公告)号:CN109642868B

    公开(公告)日:2022-03-15

    申请号:CN201780050938.6

    申请日:2017-08-18

    发明人: 石丸伊知郎

    IPC分类号: G01N21/27

    摘要: 本发明具备:光源(30),其向试样(20)照射光;驻波形成部(40),其在试样(20)中形成与来自光源(30)的光入射的试样(20)的表面垂直的声驻波,该声驻波的波节位于从所述试样(20)的表面向内侧离开规定距离的位置处;检测器(50),其相对于试样(20)的表面配置在与光源(30)相同的一侧,对从试样(20)的表面射出的光进行检测;以及吸光度计算部(74),其根据在由驻波形成部(40)在试样(20)中形成了声驻波的状态下向试样(20)的表面照射了光时的检测器(50)的检测结果和在试样(20)中没有形成声驻波的状态下向试样(20)的表面照射了光时的检测器(50)的检测结果,求出作为试样的光学特性的吸光度。

    分光测量装置
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104704333B

    公开(公告)日:2017-05-10

    申请号:CN201380052250.3

    申请日:2013-10-02

    发明人: 石丸伊知郎

    IPC分类号: G01J3/45 G01J3/453 G01N21/27

    摘要: 本发明的分光测量装置具备:分割光学系统,其将从位于被测量物的测量区域内的多个测量点分别发出的测量光束分割为第一测量光束和第二测量光束;成像光学系统,其使第一测量光束与第二测量光束发生干涉;光程差赋予单元,其对第一测量光束和第二测量光束之间赋予连续的光程差分布;检测部,其包括用于检测与上述连续的光程差分布对应的干涉光的强度分布的多个像素;处理部,其基于由检测部检测出的干涉光的光强度分布来求出被测量物的测量点的干涉图,通过对该干涉图进行傅立叶变换来获取光谱;共轭面成像光学系统,其配置在被测量物与分割光学系统之间,具有与该分割光学系统共用的共轭面;以及周期性赋予单元,其配置于共轭面,对从多个测量点发出的测量光束进行空间上的周期调制。

    分光测定装置
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN114341602B

    公开(公告)日:2024-04-02

    申请号:CN202080061774.9

    申请日:2020-08-28

    发明人: 石丸伊知郎

    IPC分类号: G01J3/32 G01J3/453

    摘要: 本发明通过物镜(15)将从物体面(S)的测定点发出的光整合为一个平行光束,通过移相器(19)将该平行光束分割为第一光束和第二光束,对该第一光束与该第二光束之间赋予光路长度差,并且使该第一光束和该第二光束朝向光检测器(21)的受光面射出。在与物镜(15)相关并与物体面光学共轭的面配置有遮光板(13),只有通过了该遮光板(13)的透光部的光去向物镜(15)。基于物镜的焦距、从移相器(19)到光检测器(21)的受光面的距离、光检测器的像素间距、像素的长度以及从测定点发出的光的波长范围内包含的规定波长,来设定遮光板(13)的透光部的横向长度、相邻的两个透光部的间隔。

    分光测定装置和分光测定方法

    公开(公告)号:CN117280196A

    公开(公告)日:2023-12-22

    申请号:CN202280028359.2

    申请日:2022-03-30

    发明人: 石丸伊知郎

    IPC分类号: G01N21/27

    摘要: 本发明是对包含从测定对象物发出的光的测定光(110)进行检测并对从所述测定对象物发出的光的分光特性进行测定的分光测定装置(100),其特征在于,具备:分光光学系统,其对所述测定光(110)进行分光;检测部(40),其对由所述分光光学系统进行分光后的光的强度进行检测;分光特性获取部(504),其基于所述检测部的检测结果来获取测定光分光特性,所述测定光分光特性表示所述测定光的光强度与波长之间的关系;存储部(503),其存储背景光候选分光特性信息,所述背景光候选分光特性信息是表示反映了所述检测部(40)的分光灵敏度特性的背景光候选的分光特性的信息;以及运算处理部(504),其根据所述测定光分光特性和所述背景光候选分光特性信息,求出从所述测定对象物的周围发出的光即背景光的分光特性。