一种铜线铜柱除斑工艺
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109055949A

    公开(公告)日:2018-12-21

    申请号:CN201810795892.7

    申请日:2018-07-19

    Inventor: 陈晓东

    CPC classification number: C23G1/103 B05D7/14 C23F17/00 C23G1/20 C25F3/22

    Abstract: 一种铜线铜柱除斑工艺,包括预处理工序、表面工序、除斑工序、保护工序和烘干工序,铜线铜柱分别通过预处理工序、表面工序、除斑工序、保护工序和烘干工序进行除斑,让铜线铜柱首先通过表面除斑后再通过除斑,铜线铜柱除斑后再涂上保护液体,让铜线铜柱具有防止长斑的作用,且铜线铜柱通过烘干后防止干燥的地方,让铜线铜柱更进一步防止再次长斑的作用。

    一种镍基合金金相组织的电解抛光腐蚀剂及其使用方法

    公开(公告)号:CN106757299A

    公开(公告)日:2017-05-31

    申请号:CN201611160397.6

    申请日:2016-12-15

    CPC classification number: C25F3/22 G01N1/32

    Abstract: 本发明公开了一种镍基合金金相组织的电解抛光腐蚀剂及其使用方法,该抛光腐蚀剂包含以下以体积份数计的原料:硫酸30~40份,磷酸120~150份,去离子水30~40份,硝酸 5~10份,甘油50~80份。该电解腐蚀剂的使用方法为:以所述的电解抛光腐蚀剂作为电解液,以经由粗到细的不同规格的水磨砂纸依次打磨后的待腐蚀镍基耐蚀合金样品作为阳极,不锈钢材料为阴极,再经两次不同电流密度电解抛光,使得镍基耐蚀合金样品的金相组织清晰显示出来。本发明的电解腐蚀剂配方简单,大大降低了对实验人员的健康损害;不易挥发,可长期保存并能重复使用;使用不同的电流强度可以达到抛光和显现组织的效果,省去了机械抛光的过程,实现抛光腐蚀一体化。

    用于打磨和平整化金属部的装置

    公开(公告)号:CN106457436A

    公开(公告)日:2017-02-22

    申请号:CN201580027463.X

    申请日:2015-03-26

    CPC classification number: C25F3/16 C25F3/22 C25F7/00

    Abstract: 本发明涉及打磨和平整化金属部的装置,所述装置特别适合于在机械镀锌工艺中使用,所述装置包括主体(3),主体具有固定盘(6),固定盘上径向地联接有引导件(7)并且其本体包括至少三个移动驱动系统(5),移动驱动系统由电磁装置驱使,并且以同步的同心方式移动,靠近和远离中心点,并且从等距角度上作用在旋转结构头部(4)中,可拆卸头部相对于上述圆柱形罐(2)呈中心地联接。设置有刷子(51)的驱动装置(5)从打开位置移动至关闭位置,其中打开位置处它们保持彼此分离且远离中心,并且关闭位置处它们彼此结合在罐(2)的中心中并且与包含待处理的部分的结构(41)接触。联接至壳体(8)的结构(41)由设置有用于待处理的部分的固定装置(42)的竖直杆构成。(41)上,所述结构呈中心地定位和联接在可拆卸

    一种在锡青铜中获得高比例特殊晶界的加工方法

    公开(公告)号:CN106011710A

    公开(公告)日:2016-10-12

    申请号:CN201610392219.X

    申请日:2016-06-06

    CPC classification number: C22F1/08 C25F3/22

    Abstract: 本发明公开了一种在锡青铜中获得高比例特殊晶界的加工方法,利用线切割工具将锡青铜,沿轧向、横向、法向分别切取20、9和3毫米工件数块,然后将所述工件置于400~800℃环境中保温0.5~5h,再将其水淬至室温;再用200~2500#金相砂纸逐级打磨,再经过机械抛光;然后在抛光液中进行电解抛光,抛光温度为‑20~‑30°C,抛光电压为9 V,抛光时间为90s。本发明的加工方法,经测试分析,在完全再结晶退火温度前随退火温度的升高,特殊晶界的比例显著增高;本发明提供的热处理工艺获得的织构稳定,变化规律明显,实验的可重复性好;热处理工艺操作方便,设备简单,技术可靠,效率高。

    电解铜箔表面处理添加剂、制备方法、处理方法及装置

    公开(公告)号:CN105603501A

    公开(公告)日:2016-05-25

    申请号:CN201610032586.9

    申请日:2016-01-17

    Applicant: 莫镇威

    Inventor: 莫镇威

    CPC classification number: C25F3/22

    Abstract: 本发明公开了一种电解铜箔表面处理添加剂,其特征在于,每升添加剂溶液中,包括下列质量的组分:纤维素1-2mg;葡萄糖30-40mg;硫酸钛6-8mg;钨酸钠8-10mg;丙三醇20-25mg;乙醇500-600mg;聚丙二醇5-10mg;水余量。本发明还公开了上述电解铜箔表面处理添加剂的制备方法。采用上述添加剂的电解铜箔表面处理方法。以及实施上述电解铜箔表面处理方法的铜箔表面处理装置。本发明电解铜箔表面处理添加剂效果好稳定性高,本电解铜箔表面处理方法能够获取一面高度光滑而另一面均匀粗糙的单面光铜箔,其性能优异。

    手机壳及其表面处理方法
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107190292A

    公开(公告)日:2017-09-22

    申请号:CN201710358638.6

    申请日:2017-05-19

    Inventor: 武小有 黄秀平

    CPC classification number: C25D5/34 C25F3/22 H04M1/0283

    Abstract: 一种手机壳的表面处理方法,包括:对经电抛处理后的手机壳进行电解除油;采用活化液对所述手机壳进行电解抛光处理;对所述手机壳进行镀镍处理;及将所述手机壳烘干。采用光效果好的活化酸来抛光,并用此电解抛光工艺取代一般的活化工艺,通过抛光将产品的亮度调暗,然后再直接电镀镍,镀层亮度明显随之变暗。此外,还提供一种采用上述方法处理后得到的手机壳。

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