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    一种磁控溅射微纳米粉体镀膜布料装置
    2.
    发明公开
    一种磁控溅射微纳米粉体镀膜布料装置 无效

    公开(公告)号：CN107365969A

    公开(公告)日：2017-11-21

    申请号：CN201610331387.8

    申请日：2016-05-12

    申请人： 赵宽

    发明人： 邓昌沪

    IPC分类号： C23C14/35 ,  B82Y40/00

    CPC分类号： C23C14/35 ,  B82Y40/00 ,  C23C14/223

    摘要： 一种磁控溅射微纳米粉体镀膜布料装置，主要由电机、布料盘、腔盖、腔座、送料仓、受集斗、收料瓶组成，安装于现有的磁控溅射镀膜设备镀膜室使用，将受集斗的氩气进入管与磁控溅射镀膜设备的氩气注入口相向对准安装，磁控溅射镀膜设备镀膜工作时，受集斗径向的氩气进管进入氩气时，受集斗径内壁导流效应，氩气流沿着受集斗喇叭筒内壁旋流，受集斗径向的氩气进入管与受集斗垂直中心线夹角a≤85°，氩气流沿受集斗喇叭筒内壁旋流向下流向，受集斗的上方喇叭筒大径即形成向下气流，在受集斗的上方喇叭筒大径即形成向下气流的导流作用，靶溅射出的原子进入受集斗后经落料孔进入布料盘环形凹槽，布料盘环形凹槽分布的微纳米粉体就会形成靶溅射出的原子沉积附着。

    透明有机玻璃彩色镀膜机
    4.
    发明公开
    透明有机玻璃彩色镀膜机 无效

    公开(公告)号：CN106987805A

    公开(公告)日：2017-07-28

    申请号：CN201710280964.X

    申请日：2017-04-26

    申请人： 江苏新海科技发展有限公司

    发明人： 徐海山 ,  黄长勇

    IPC分类号： C23C14/22

    CPC分类号： C23C14/223

    摘要： 本发明公开了一种透明有机玻璃彩色镀膜机，包括：机架，在所述机架上设置有中部半圆立柱镀膜房，在所述中部半圆立柱镀膜房的两侧分别通过铰链转动设置有与中部半圆立柱镀膜房相互配合的左半圆立柱镀膜房和右半圆立柱镀膜房，在所述中部半圆立柱镀膜房下方的机架上设置有驱动电机，所述驱动电机的电机轴伸入中部半圆立柱镀膜房内与主动齿轮相连接，在所述中部半圆立柱镀膜房的下端一侧设置有支撑座，在所述支撑座上通过第一转轴转动设置有与主动齿轮相互啮合的从动小齿轮，在所述中部半圆立柱镀膜房的上端一侧设置有喷料口。

    纳米颗粒沉积系统
    5.
    发明公开
    纳米颗粒沉积系统 失效

    公开(公告)号：CN103459658A

    公开(公告)日：2013-12-18

    申请号：CN201280005339.X

    申请日：2012-01-13

    申请人： 明尼苏达大学董事会

    发明人： J-P·王 ,  S·何

    IPC分类号： C23C14/35 ,  C23C14/16

    CPC分类号： C23C14/223 ,  B82Y40/00 ,  C23C14/228 ,  C23C14/35 ,  C23C14/54 ,  H01J37/342 ,  H01J37/3438 ,  H01J37/345 ,  H01J37/3455

    摘要： 纳米颗粒沉积系统包括以下中的一个或多个：材料的空心靶；提供磁场的至少一个旋转磁体，所述磁场控制离子的运动以及来自释放原子的纳米颗粒的结晶；纳米颗粒收集设备，所述纳米颗粒收集设备在衬底上收集结晶纳米颗粒，其中所述衬底和至少靶之间的相对运动将衬底的新表面区域连续暴露于结晶纳米颗粒；空心阳极，其中靶至少部分地在空心阳极内；或提供第一种材料的第一种纳米颗粒的第一纳米颗粒源以及提供第二种材料的第二种纳米颗粒的第二纳米颗粒源。

    阻止在金属沉积薄膜上产生凸起的方法
    7.
    发明授权
    阻止在金属沉积薄膜上产生凸起的方法 失效 转让 许可

    公开(公告)号：CN1273639C

    公开(公告)日：2006-09-06

    申请号：CN01812597.2

    申请日：2001-07-06

    申请人： 株式会社新王磁材

    发明人： 西内武司 ,  菊井文秋 ,  下佳已

    IPC分类号： C23C14/50 ,  H01F41/02 ,  C23C14/16

    CPC分类号： C23C14/223 ,  C23C14/505 ,  C23C14/541 ,  H01F41/026

    摘要： 本发明的阻止在金属沉积薄膜上形成凸起的方法，其特征在于它使用一种气相沉积设备，所述设备包括真空处理腔内的一用于沉积材料的蒸发部分以及一容置元件或夹持元件，用于容置或夹持工件，通过使容置元件或夹持元件围绕水平轴线转动，可以将金属沉积材料沉积在工件的每个表面上。所进行的气相沉积导致形成在每个工件表面上的薄膜的维氏硬度保持在25或更高。根据本发明，当在诸如稀土金属基磁铁的工件表面上形成铝、锌或类似金属的金属沉积薄膜时，可以有效地阻止在金属沉积薄膜上产生凸起。

    多边滚筒溅射装置及其溅射方法、由其形成的被覆微粒子
    8.
    发明公开
    多边滚筒溅射装置及其溅射方法、由其形成的被覆微粒子 失效

    公开(公告)号：CN1723294A

    公开(公告)日：2006-01-18

    申请号：CN200380105432.9

    申请日：2003-12-18

    申请人： 友技科株式会社 ,  阿部孝之

    发明人： 阿部孝之 ,  渡边国昭 ,  本多祐二

    IPC分类号： C23C14/34 ,  C23C14/00 ,  B01J3/00

    CPC分类号： C23C14/223 ,  B01J13/04 ,  C23C14/34

    摘要： 本发明提供一种用于在微粒子的表面上被覆粒径比该微粒子小的超微粒子或者薄膜的多边滚筒溅射装置、多边滚筒溅射方法及由其形成的被覆微粒子、微型胶囊及其制造方法。本发明的多边滚筒溅射方法是：将微粒子(3)收容在相对于重力方向大致平行的断面的内部形状是多边形的真空容器(1)内，以相对于上述断面大致垂直的方向作为旋转轴使上述真空容器(1)旋转，藉此，搅拌或者旋转该真空容器内(1)的微粒子(3)，同时进行溅射，从而在该微粒子(3)的表面上被覆粒径比该微粒子小的超微粒子或者薄膜。