用于薄层沉积的方法
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101998937B

    公开(公告)日:2013-07-17

    申请号:CN200980112711.5

    申请日:2009-04-10

    IPC分类号: G02B1/10

    摘要: 本发明涉及用于获得包含基材和至少一个在所述基材的第一面上沉积的基于至少部分结晶的二氧化钛的薄层的材料的方法,其中所述方法包括以下步骤:沉积所述至少一个基于二氧化钛的薄层;使所述至少一个基于二氧化钛的薄层经受结晶处理,其通过提供能够将所述至少一个基于二氧化钛的薄层的每个点提高到至少300℃的温度的能量,同时在与所述第一面相对的所述基材的面上的任一点维持低于或等于150℃的温度来进行,所述结晶处理之后是在所述基于二氧化钛的薄层的上方和/或下方沉积提供能量的层的步骤,所述提供能量的层能够比所述至少一个二氧化钛层更有效地吸收在所述结晶处理期间提供的能量和/或能够在所述结晶处理期间产生附加能量,在所述结晶处理期间将至少一部分所述能量传送到所述至少一个基于二氧化钛的薄层。

    用于薄层沉积的方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101998937A

    公开(公告)日:2011-03-30

    申请号:CN200980112711.5

    申请日:2009-04-10

    摘要: 本发明涉及用于获得包含基材和至少一个在所述基材的第一面上沉积的基于至少部分结晶的二氧化钛的薄层的材料的方法,其中所述方法包括以下步骤:沉积所述至少一个基于二氧化钛的薄层;使所述至少一个基于二氧化钛的薄层经受结晶处理,其通过提供能够将所述至少一个基于二氧化钛的薄层的每个点提高到至少300℃的温度的能量,同时在与所述第一面相对的所述基材的面上的任一点维持低于或等于150℃的温度来进行,所述结晶处理之后是在所述基于二氧化钛的薄层的上方和/或下方沉积提供能量的层的步骤,所述提供能量的层能够比所述至少一个二氧化钛层更有效地吸收在所述结晶处理期间提供的能量和/或能够在所述结晶处理期间产生附加能量,在所述结晶处理期间将至少一部分所述能量传送到所述至少一个基于二氧化钛的薄层。