发明公开
- 专利标题: 用于薄层沉积的方法
- 专利标题(英): Method for thin layer deposition
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申请号: CN200980112711.5申请日: 2009-04-10
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公开(公告)号: CN101998937A公开(公告)日: 2011-03-30
- 发明人: A·迪朗多 , A·卡尚科 , N·纳多
- 申请人: 法国圣戈班玻璃厂
- 申请人地址: 法国库伯瓦
- 专利权人: 法国圣戈班玻璃厂
- 当前专利权人: 法国圣戈班玻璃厂
- 当前专利权人地址: 法国库伯瓦
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 黄念; 林森
- 优先权: 0852454 2008.04.11 FR
- 国际申请: PCT/FR2009/050658 2009.04.10
- 国际公布: WO2009/136110 FR 2009.11.12
- 进入国家日期: 2010-10-11
- 主分类号: C03C17/34
- IPC分类号: C03C17/34 ; C03C17/36 ; C03C17/245
摘要:
本发明涉及用于获得包含基材和至少一个在所述基材的第一面上沉积的基于至少部分结晶的二氧化钛的薄层的材料的方法,其中所述方法包括以下步骤:沉积所述至少一个基于二氧化钛的薄层;使所述至少一个基于二氧化钛的薄层经受结晶处理,其通过提供能够将所述至少一个基于二氧化钛的薄层的每个点提高到至少300℃的温度的能量,同时在与所述第一面相对的所述基材的面上的任一点维持低于或等于150℃的温度来进行,所述结晶处理之后是在所述基于二氧化钛的薄层的上方和/或下方沉积提供能量的层的步骤,所述提供能量的层能够比所述至少一个二氧化钛层更有效地吸收在所述结晶处理期间提供的能量和/或能够在所述结晶处理期间产生附加能量,在所述结晶处理期间将至少一部分所述能量传送到所述至少一个基于二氧化钛的薄层。
公开/授权文献
- CN101998937B 用于薄层沉积的方法 公开/授权日:2013-07-17