一种变色玻璃镀膜工艺
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107840582A

    公开(公告)日:2018-03-27

    申请号:CN201711142376.6

    申请日:2017-11-17

    IPC分类号: C03C17/34

    摘要: 本发明公开一种变色玻璃镀膜工艺,包括以下步骤:步骤一:将20-30份ZrxAgyMo4-x-y(SizC2-z)镀在玻璃上,镀膜厚度为20-25nm;步骤二:将12-17份WO3和10-13份NiOa混合粉末,镀在玻璃上,镀膜厚度为15-20nm;步骤三:将10-15份ZnF2、15-18份CaF2、2-4份Ce、1-3份Gd和0.5-1份La混合粉末,镀在玻璃上,镀膜厚度为10-15nm。本发明以复式硅碳化物为第一层膜,加强了玻璃的表面硬度和耐腐蚀性,具有良好保温性能,以WO3和NiOa为第二层膜,通过不同的波长和频率的可见光辐射产生变色现象,具有良好的可逆性和耐疲劳性能,第三层膜中Ce、Gd及La等稀土元素遇光时使CaF2和ZnF2产生晶格缺陷,从而发生颜色变化并提高采光率。

    一种石墨烯玻璃的制备方法

    公开(公告)号:CN106542743A

    公开(公告)日:2017-03-29

    申请号:CN201610954868.4

    申请日:2016-10-27

    IPC分类号: C03C17/34

    摘要: 本发明公开一种石墨烯玻璃的制备方法,包括以下步骤:a) 采用液相辊涂镀膜机对玻璃基板表面涂覆前驱液,形成中间膜层;前驱液采用正硅酸乙酯、正硅酸甲酯或者正硅酸乙酯与正硅酸甲酯的混合物;中间膜层的厚度为30~150nm;b)采用液相辊涂镀膜机在中间膜层上涂覆石墨烯分散液,形成石墨烯透明导电薄膜;c) 将形成石墨烯透明导电薄膜的玻璃热处理,热处理温度100~600℃,热处理时间大于2分钟,最终得到石墨烯玻璃;中间膜层一方面防止玻璃基板中的碱金属离子扩散到石墨烯中引起碱中毒,从而影响膜层的电导率和透光性;另一方面能够提高石墨烯与玻璃基板的结合力;本发明工艺简单,设备及原料成本低、易于操作、便于工业化大批量生产。

    一种低辐射镀膜玻璃制造工艺

    公开(公告)号:CN106007397A

    公开(公告)日:2016-10-12

    申请号:CN201610318256.6

    申请日:2016-05-12

    发明人: 李锦亮

    摘要: 本发明公开了一种低辐射镀膜玻璃制造工艺,其步骤为:(1)制备低辐射玻璃膜层:在浮法玻璃生产线的锡槽内的第一镀膜区,以硅类物质为主反应气体,利用化学气相沉积镀膜技术在玻璃表面上,形成以SiOxCy为主体的中间膜层;(2)镀玻璃膜层:在浮法玻璃生产线退火窑A0区内的第二镀膜区,以金属有机物化学气相沉积技术,将以有机锡化合物为主前质体的镀膜原料经气化流程的处理,以气体形式随主气流通过位于玻璃带上方的镀膜反应器引入到移动的热玻璃表面;在有氧源存在的条件下,在玻璃表面沉积的低辐射膜层;(3)切割:切去玻璃边缘的膜层;(4)磨边;(5)清洗:对待洗玻璃原片通过喷水管喷水浸润;(6)钢化:在700‑740℃的温度下,保持20‑30分钟。

    用于薄层沉积的方法
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101998937B

    公开(公告)日:2013-07-17

    申请号:CN200980112711.5

    申请日:2009-04-10

    IPC分类号: G02B1/10

    摘要: 本发明涉及用于获得包含基材和至少一个在所述基材的第一面上沉积的基于至少部分结晶的二氧化钛的薄层的材料的方法,其中所述方法包括以下步骤:沉积所述至少一个基于二氧化钛的薄层;使所述至少一个基于二氧化钛的薄层经受结晶处理,其通过提供能够将所述至少一个基于二氧化钛的薄层的每个点提高到至少300℃的温度的能量,同时在与所述第一面相对的所述基材的面上的任一点维持低于或等于150℃的温度来进行,所述结晶处理之后是在所述基于二氧化钛的薄层的上方和/或下方沉积提供能量的层的步骤,所述提供能量的层能够比所述至少一个二氧化钛层更有效地吸收在所述结晶处理期间提供的能量和/或能够在所述结晶处理期间产生附加能量,在所述结晶处理期间将至少一部分所述能量传送到所述至少一个基于二氧化钛的薄层。