公开(公告)号：CN107803754A

公开(公告)日：2018-03-16

申请号：CN201711089917.3

申请日：2017-11-08

Applicant: 东莞金太阳研磨股份有限公司

Inventor： 方红 ,  杨伟

IPC: B24D11/00

CPC classification number: B24D11/003

Abstract: 本发明涉及磨具技术领域，具体涉及一种纸布复合抛光带的制备工艺。该制备工艺包括：步骤一、丕布烧毛；步骤二、退浆和清洗；步骤三、干燥定型；步骤四、涂胶；步骤五、复合；步骤六、干燥。本发明的一种纸布复合抛光带的制备工艺，所制备的纸布复合抛光带，由于为布基-带加强网布的胶黏剂-纸基的复合物，利用了布基的高强度和纸基的平整度，让布基和纸基通过带加强网布的胶黏剂完美结合，实现了高抗张和高平整度，在打磨柔软细腻的皮革表面时，既能实现皮质表面的抛光抛亮，又不损伤皮革表面。

公开(公告)号：CN104812530A

公开(公告)日：2015-07-29

申请号：CN201380061943.9

申请日：2013-12-04

Applicant: 东洋橡胶工业株式会社

Inventor： 木村毅

IPC: B24B37/26 ,  B24B37/11 ,  H01L21/304

CPC classification number: B24B37/26 ,  B24D11/003 ,  H01L21/0201 ,  H01L21/30625 ,  H01L21/67092

Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够有效地抑制被抛光材料表面的抛光不匀的圆形状抛光垫。就本发明的圆形状抛光垫而言，其包括在抛光表面具有XY格子槽的圆形状抛光层，圆形状抛光层的中心点在由以下3条虚拟直线A、B和C包围的区域Z内(包括虚拟直线上的部分)偏移。其中，虚拟直线A为连接如下点的直线：使X槽或Y槽上的点在与该X槽或Y槽垂直相交的方向移动槽间距的5％距离的点；虚拟直线B为连接如下点的直线：使XY格子槽的一条对角线D上的点在与该对角线D垂直相交的方向移动槽间距的5％距离的点；虚拟直线C为连接如下点的直线：使XY格子槽的另一条对角线E上的点在与该对角线E垂直相交的方向移动槽间距的5％距离的点。

公开(公告)号：CN103987494A

公开(公告)日：2014-08-13

申请号：CN201380003985.7

申请日：2013-01-09

Applicant: 东洋橡胶工业株式会社

Inventor： 中井良之

IPC: B24B37/20 ,  H01L21/304

CPC classification number: B24D11/003 ,  B24B37/22 ,  B24B37/24 ,  B24D11/008

Abstract: 本发明的目的在于提供一种无弯曲且在抛光时不会在抛光层和缓冲层之间产生剥离的层叠抛光垫的制造方法。本发明的层叠抛光垫的制造方法包括以下步骤：在缓冲层的一面以可剥离的方式设置热塑性树脂基材，在得到的附有基材的缓冲层的未设置所述热塑性树脂基材的面上层叠热熔粘结剂片的步骤；将层叠的热熔粘结剂片进行加热以使其熔融或软化的步骤；将抛光层层叠至已熔融或软化的热熔粘结剂上而制备层叠体的步骤；将层叠体切割为抛光层的大小而制备层叠抛光片的步骤；和将所述热塑性树脂基材从层叠抛光片剥离的步骤。

公开(公告)号：CN103009274A

公开(公告)日：2013-04-03

申请号：CN201210356978.2

申请日：2012-09-21

Applicant: 陶氏环球技术有限公司

Inventor： H·拉克奥特 ,  B·W·谢弗 ,  M·D·威廉姆斯

IPC: B24D18/00 ,  B24D13/14

CPC classification number: B24B37/22 ,  B24B37/26 ,  B24D11/003

Abstract: 本发明的方法制备了开放网络抛光垫，所述抛光垫用于对磁性基材、半导体基材和光学基材进行抛光。该方法提供了可固化聚合物的聚合物板或膜，并使得所述聚合物板或膜受能源作用，以在聚合物板或膜中产生作用图案。所述作用图案具有受能源作用的拉长的部分。在将聚合物板或膜附着到开放网络基材之后，该方法用溶剂去除与中间结构的受作用聚合物板或膜相邻的聚合物。这形成了通过聚合物板或者膜的拉长的通道，所述拉长通道的织构化图案对应于作用图案，而开放网络支撑聚合物。拉长的通道延伸通过聚合物板或膜的厚度以形成开放网络抛光垫。

公开(公告)号：CN101966697A

公开(公告)日：2011-02-09

申请号：CN201010209209.0

申请日：2007-04-19

Applicant: 东洋橡胶工业株式会社

Inventor： 福田武司 ,  渡边二夫 ,  广濑纯司 ,  中村贤治 ,  堂浦真人

IPC: B24D18/00 ,  C08J5/14 ,  B24B37/00 ,  H01L21/304

CPC classification number: B24D11/003 ,  B24B37/205 ,  B24B37/22 ,  B24B37/24 ,  B24B37/26 ,  B24D3/32 ,  B24D18/00 ,  B29C44/24 ,  B29C44/308 ,  B29C44/32 ,  B29C44/322 ,  B29C44/326 ,  B29C44/5654 ,  C08J9/30 ,  C08J2375/08 ,  Y10T156/1052 ,  Y10T156/1059

Abstract: 本发明的目的在于提供制造工序少、生产率优良的抛光垫制造方法。另外，本发明的目的在于提供制造工序少、生产率优良、抛光层和缓冲层之间不产生剥离的层压抛光垫制造方法。本发明的抛光垫制造方法，包括：通过机械发泡法制备气泡分散的氨基甲酸酯组合物的工序；在送出面材的同时向其上连续地排出气泡分散的氨基甲酸酯组合物的工序；在该气泡分散的氨基甲酸酯组合物上层压另一面材的工序；通过在将厚度调节均匀的同时使气泡分散的氨基甲酸酯组合物固化而形成由聚氨酯发泡体构成的抛光层的工序；通过与面平行地将该抛光层一切为二而同时制造两片由抛光层和面材构成的长抛光层的工序；和切割长抛光层的工序。

公开(公告)号：CN105980107B

公开(公告)日：2019-08-09

申请号：CN201580006783.7

申请日：2015-01-29

Applicant: 3M创新有限公司

Inventor： 亚伦·C·克劳斯 ,  亚历山大·蒂托夫

IPC: B24D13/16 ,  B24D18/00 ,  B24B1/00

CPC classification number: B24D13/147 ,  B24D11/003 ,  B24D13/12

Abstract: 本发明提供了具有交织缝的抛光垫，使得任何坚硬或不易弯折的边缘在抛光或打磨处理期间被覆盖并且不外露。用于对表面进行打磨的双面抛光垫包括：背板；两个纤维抛光介质，其中纺织物的原丝从所述介质延伸，从而使所述背板的每一面附连一个介质；和从每个介质由所述原丝的一部分交织的缝。所述原丝可通过针钉、空气缠结或水缠结来交织。

公开(公告)号：CN105710762B

公开(公告)日：2018-04-06

申请号：CN201510938186.X

申请日：2015-12-15

Applicant: 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 ,  陶氏环球技术有限责任公司

Inventor： B·钱 ,  G·C·雅各布 ,  K-M·蔡

IPC: B24B37/24 ,  C08G18/66 ,  C08G18/32 ,  C08G18/10

CPC classification number: B24B37/24 ,  B24D11/003 ,  C08G18/10 ,  C08G18/4829 ,  C08G18/4841 ,  C08G18/4854 ,  C08G18/724 ,  C08G18/758 ,  C08G18/7621 ,  C08J9/32 ,  C08J2203/22 ,  C08J2375/04 ,  C08K7/22 ,  H01L21/31053 ,  C08G18/3814 ,  C08G18/6685

Abstract: 本发明提供一种适用于对半导体、光学和磁性衬底中的至少一者进行平面化的抛光垫。所述抛光垫是由异氰酸酯封端的分子和固化剂形成的浇注聚氨基甲酸酯聚合基质。所述浇注聚氨基甲酸酯聚合基质在所述异氰酸酯封端的分子中含有4.2到7.5重量％流体填充微球体。所述流体填充微球体是聚合的并且平均直径是10到80μm，并且所述抛光垫的修整器灵敏度(CS)是0到2.6。

公开(公告)号：CN107139088A

公开(公告)日：2017-09-08

申请号：CN201710436991.1

申请日：2017-06-12

Applicant: 广东职业技术学院

Inventor： 吴婷 ,  谭绍早 ,  彭毅

IPC: B24D11/00 ,  B24D3/34 ,  C09D127/12

CPC classification number: B24D11/003 ,  B24D3/344 ,  C09D127/12

Abstract: 本发明公开了一种不沾屑砂布及其制备和应用，所述的砂布上喷涂不沾屑树脂溶液，所述的砂布与所述的不沾屑树脂溶液喷涂比例为：每平方米的砂布上喷涂2~20 g不沾屑树脂溶液，所述的不沾屑砂布应用于千叶轮，但不仅限于千叶轮，本发明具有使磨削粉屑不沾附在千叶轮砂布表面上的特点，在使用时，随着砂布、页轮的高速旋转，在离心力和高频的作用下，被磨材料粉屑自行脱离，不再粘附在砂布基布上影响千叶轮抛光打磨质量，抛光效率获得30%以上的提升。

公开(公告)号：CN106625031A

公开(公告)日：2017-05-10

申请号：CN201610950906.9

申请日：2016-10-26

Applicant: 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 ,  陶氏环球技术有限责任公司

Inventor： 钱百年 ,  郭毅 ,  M·W·德格鲁特 ,  G·C·雅各布

IPC: B24B1/00 ,  B24B29/02 ,  B24B37/24 ,  H01L21/304

CPC classification number: B24B37/24 ,  B24D11/003 ,  H01L21/31053 ,  B24B1/00 ,  B24B29/02 ,  B24B37/245 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明提供一种化学机械抛光方法，包括：提供衬底，其中所述衬底包括氧化硅和氮化硅；提供抛光浆料；提供抛光垫，包括：具有组合物的抛光层，所述组合物是多个成分的反应产物，包括：多官能异氰酸酯和胺引发的多元醇固化剂；其中对所述胺引发的多元醇固化剂与所述多官能异氰酸酯的化学计量比进行选择以调节所述抛光层的去除率选择性；在抛光表面和所述衬底之间形成动态接触；将所述抛光浆料分散到在所述抛光表面和所述衬底之间的界面处或界面附近的所述抛光垫上；并且，将至少一些所述氧化硅和所述氮化硅从所述衬底上去除。

公开(公告)号：CN104507641A

公开(公告)日：2015-04-08

申请号：CN201380025329.7

申请日：2013-02-12

Applicant: KPX化工有限公司 ,  三星电子株式会社

Inventor： 安峰秀 ,  张英俊 ,  郑镇秀 ,  李相穆 ,  宋基天 ,  金昇槿 ,  徐章源 ,  秋政璇 ,  姜学受 ,  孔庚杓

IPC: B24D11/00 ,  B24D3/16

CPC classification number: B24B37/24 ,  B24B37/26 ,  B24D11/001 ,  B24D11/003 ,  B24D18/00

Abstract: 本发明涉及一种抛光垫的制造方法，所述方法通过混合抛光层形成用材料并经化学反应使该材料固化，所述方法包括：通过采用物理法研磨有机材料以形成有机微粒的步骤；将上一步骤中形成的有机微粒与抛光层形成用材料混合的步骤；将能够控制孔尺寸的惰性气体、胶囊型发泡剂或化学发泡剂与上一步骤中获得的混合物混合以形成气孔的步骤；对上一步骤中获得的混合物进行凝胶化和固化以制得抛光层的步骤；和加工该抛光层以通过打开气孔而使孔分布在表面上的步骤。