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公开(公告)号：CN101952943B
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN200980106103.3
申请日：2009-02-26
Applicant: 东洋橡胶工业株式会社
IPC: B24B37/00 , C08G18/65 , C08G101/00
CPC classification number: B24B37/24 , C08G18/3206 , C08G18/4018 , C08G18/4277 , C08G18/4854 , C08G18/6607 , C08G18/6611 , C08G18/664 , C08G18/6644 , C08G18/6677 , C08G18/797 , C08G2101/00 , C08L83/00 , Y10T428/24273 , Y10T428/249975 , Y10T428/249978 , Y10T428/249979 , Y10T428/31551
Abstract: 本发明目的在于提供耐久性优良、并且研磨速度的稳定性优良的研磨垫。本发明涉及一种研磨垫，在基材层上设置有研磨层，其特征在于，所述研磨层由热固性聚氨酯发泡体形成，所述热固性聚氨酯发泡体包含具有开口的近似球形的连续气泡，而且含有异氰酸酯成分和含活性氢基团的化合物作为原料成分，所述异氰酸酯成分含有二苯基甲烷二异氰酸酯和/或其改性物90重量％以上，所述含活性氢基团的化合物含有聚己内酯多元醇60～98重量％、以及与异氰酸酯基反应的官能团数为3的化合物15～40重量％，且相对于异氰酸酯成分和含活性氢基团的化合物的总量的异氰酸酯基浓度为10～15重量％，所述研磨层的干燥状态的压缩率A与湿润状态的压缩率B的变化率[{(B-A)/A}×100]的绝对值为100以下。
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公开(公告)号：CN101583464B
公开(公告)日：2011-06-22
申请号：CN200780049906.0
申请日：2007-11-27
Applicant: 东洋橡胶工业株式会社
IPC: B24B37/00 , H01L21/304
Abstract: 本发明目的在于提供耐久性优良、并且研磨层与基材层的粘合性良好的研磨垫。本发明的第一发明是在基材层上设置研磨层的研磨垫，其特征在于，所述研磨层包含具有平均气泡直径20～300μm的近似球状的连续气泡的热固性聚氨酯发泡体，所述聚氨酯发泡体含有异氰酸酯成分和含活性氢化合物作为原料成分，所述含活性氢化合物含有30～85重量％官能团数2～4、羟值20～100mg KOH/g的高分子量多元醇。
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公开(公告)号：CN101511536A
公开(公告)日：2009-08-19
申请号：CN200780033122.9
申请日：2007-04-23
Applicant: 东洋橡胶工业株式会社
IPC: B24B37/00 , C08G18/00 , H01L21/304
CPC classification number: C08G18/4277 , B24B37/24 , B24D3/26 , B24D11/001 , C08G18/4072 , C08G18/632 , C08G18/6607 , C08G2101/00 , C08G2101/0008
Abstract: 本发明的目的在于提供能廉价且容易地制造耐久性优异的抛光垫的方法。本发明的抛光垫的制造方法包括：利用机械发泡法制备气泡分散聚氨酯组合物的工序；在基材层上涂布气泡分散聚氨酯组合物的工序；使气泡分散聚氨酯组合物固化而形成具有近似球状的连续气泡的聚氨酯发泡层的工序；以及将聚氨酯发泡层的厚度调节至均匀的工序。
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公开(公告)号：CN101448607A
公开(公告)日：2009-06-03
申请号：CN200780017994.6
申请日：2007-05-15
Applicant: 东洋橡胶工业株式会社
IPC: B24B37/04 , H01L21/304
CPC classification number: B24B37/205
Abstract: 本发明的目的在于提供在宽波长范围(特别是短波长侧)内光学检测精度优良的抛光垫。另外，本发明的目的在于提供包括使用该抛光垫对半导体晶片的表面进行抛光的工序的半导体器件制造方法。一种抛光垫，具有包含抛光区域和光透过区域的抛光层，其特征在于，所述光透过区域由芳环浓度为2重量％以下的聚氨酯树脂形成，并且所述光透过区域的光透过率在波长300～400nm的整个范围内为30％以上。
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公开(公告)号：CN101223016A
公开(公告)日：2008-07-16
申请号：CN200680025943.3
申请日：2006-07-07
Applicant: 东洋橡胶工业株式会社
IPC: B29C39/12 , B24B37/04 , B29C67/20 , B32B5/20 , C08G18/40 , C08J9/30 , H01L21/304 , H01L21/683 , B29K75/00
CPC classification number: B29C44/06 , B32B5/022 , B32B5/20 , B32B5/245 , B32B7/12 , B32B27/065 , B32B27/12 , B32B27/36 , B32B2262/0246 , B32B2266/0278 , B32B2266/06 , B32B2307/724 , B32B2457/00 , B32B2457/14 , B32B2551/00 , B32B2551/08 , C08G18/12 , C08G18/4072 , C08G18/4277 , C08G18/4854 , C08G18/6564 , C08G18/6607 , C08G2101/00 , C08G2101/0008 , C08J9/30 , C08J2375/04 , H01L21/6836 , H01L2221/68327 , H01L2924/01012 , Y10T428/249975 , Y10T428/249978 , Y10T428/249979 , Y10T428/249991 , C08G18/3206
Abstract: 第1发明的目的在于提供极其容易地制造保持面的表面精度高的层叠片的方法。第2发明的目的在于提供极其容易地制造保持面的表面精度高、被研磨材料的吸附性优异的层叠片的方法。第3发明的目的在于提供保持面的表面精度高、被研磨材料的吸附性优异的层叠片及其制造方法。第4发明的目的在于提供被研磨材料的吸附性优异且耐久性优异的层叠片。本发明的层叠片包括基材片和聚氨酯发泡层。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101966697B
公开(公告)日：2015-04-22
申请号：CN201010209209.0
申请日：2007-04-19
Applicant: 东洋橡胶工业株式会社
CPC classification number: B24D11/003 , B24B37/205 , B24B37/22 , B24B37/24 , B24B37/26 , B24D3/32 , B24D18/00 , B29C44/24 , B29C44/308 , B29C44/32 , B29C44/322 , B29C44/326 , B29C44/5654 , C08J9/30 , C08J2375/08 , Y10T156/1052 , Y10T156/1059
Abstract: 本发明的目的在于提供制造工序少、生产率优良的抛光垫制造方法。另外，本发明的目的在于提供制造工序少、生产率优良、抛光层和缓冲层之间不产生剥离的层压抛光垫制造方法。本发明的抛光垫制造方法，包括：通过机械发泡法制备气泡分散的氨基甲酸酯组合物的工序；在送出面材的同时向其上连续地排出气泡分散的氨基甲酸酯组合物的工序；在该气泡分散的氨基甲酸酯组合物上层压另一面材的工序；通过在将厚度调节均匀的同时使气泡分散的氨基甲酸酯组合物固化而形成由聚氨酯发泡体构成的抛光层的工序；通过与面平行地将该抛光层一切为二而同时制造两片由抛光层和面材构成的长抛光层的工序；和切割长抛光层的工序。
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公开(公告)号：CN101426618B
公开(公告)日：2013-05-15
申请号：CN200780014189.8
申请日：2007-04-19
Applicant: 东洋橡胶工业株式会社
IPC: B24B37/00 , C08J5/14 , H01L21/304
CPC classification number: B24D11/003 , B24B37/205 , B24B37/22 , B24B37/24 , B24B37/26 , B24D3/32 , B24D18/00 , B29C44/24 , B29C44/308 , B29C44/32 , B29C44/322 , B29C44/326 , B29C44/5654 , C08J9/30 , C08J2375/08 , Y10T156/1052 , Y10T156/1059
Abstract: 本发明的目的在于提供制造工序少、生产率优良的抛光垫的制造方法。另外，本发明的目的在于提供制造工序少、生产率优良、抛光层和缓冲层之间不产生剥离的层压抛光垫制造方法。本发明的抛光垫制造方法，包括：通过机械发泡法制备气泡分散的氨基甲酸酯组合物的工序；在送出面材的同时向其上连续地排出气泡分散的氨基甲酸酯组合物的工序；在该气泡分散的氨基甲酸酯组合物上层压另一面材的工序；通过在将厚度调节均匀的同时使气泡分散的氨基甲酸酯组合物固化而形成由聚氨酯发泡体构成的抛光层的工序；通过与面平行地将该抛光层一切为二而同时制造两片由抛光层和面材构成的长抛光层的工序；和切割长抛光层的工序。
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公开(公告)号：CN101966698B
公开(公告)日：2012-10-10
申请号：CN201010209210.3
申请日：2007-04-19
Applicant: 东洋橡胶工业株式会社
IPC: B24D18/00 , C08J5/14 , B24B37/00 , H01L21/304
CPC classification number: B24D11/003 , B24B37/205 , B24B37/22 , B24B37/24 , B24B37/26 , B24D3/32 , B24D18/00 , B29C44/24 , B29C44/308 , B29C44/32 , B29C44/322 , B29C44/326 , B29C44/5654 , C08J9/30 , C08J2375/08 , Y10T156/1052 , Y10T156/1059
Abstract: 本发明的目的在于提供制造工序少、生产率优良的抛光垫制造方法。另外，本发明的目的在于提供制造工序少、生产率优良、抛光层和缓冲层之间不产生剥离的层压抛光垫制造方法。本发明的抛光垫制造方法，包括：通过机械发泡法制备气泡分散的氨基甲酸酯组合物的工序；在送出面材的同时向其上连续地排出气泡分散的氨基甲酸酯组合物的工序；在该气泡分散的氨基甲酸酯组合物上层压另一面材的工序；通过在将厚度调节均匀的同时使气泡分散的氨基甲酸酯组合物固化而形成由聚氨酯发泡体构成的抛光层的工序；通过与面平行地将该抛光层一切为二而同时制造两片由抛光层和面材构成的长抛光层的工序；和切割长抛光层的工序。
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公开(公告)号：CN102672630A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201210073229.9
申请日：2007-04-19
Applicant: 东洋橡胶工业株式会社
CPC classification number: B24D11/003 , B24B37/205 , B24B37/22 , B24B37/24 , B24B37/26 , B24D3/32 , B24D18/00 , B29C44/24 , B29C44/308 , B29C44/32 , B29C44/322 , B29C44/326 , B29C44/5654 , C08J9/30 , C08J2375/08 , Y10T156/1052 , Y10T156/1059
Abstract: 本发明的目的在于提供制造工序少、生产率优良的抛光垫制造方法。另外，本发明的目的在于提供制造工序少、生产率优良、抛光层和缓冲层之间不产生剥离的层压抛光垫制造方法。本发明的抛光垫制造方法，包括：通过机械发泡法制备气泡分散的氨基甲酸酯组合物的工序；在送出面材的同时向其上连续地排出气泡分散的氨基甲酸酯组合物的工序；在该气泡分散的氨基甲酸酯组合物上层压另一面材的工序；通过在将厚度调节均匀的同时使气泡分散的氨基甲酸酯组合物固化而形成由聚氨酯发泡体构成的抛光层的工序；通过与面平行地将该抛光层一切为二而同时制造两片由抛光层和面材构成的长抛光层的工序；和切割长抛光层的工序。
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公开(公告)号：CN101669195A
公开(公告)日：2010-03-10
申请号：CN200880012254.8
申请日：2008-05-09
Applicant: 东洋橡胶工业株式会社
IPC: H01L21/304 , B24B37/00 , B24B37/04
CPC classification number: B24B37/205
Abstract: 本发明的目的在于提供制造能够防止漏浆、并且光学检测精度优良的研磨垫的方法。本发明的研磨垫制造方法，包括：在研磨层的研磨背面一侧形成用于注入光透过区域形成材料的沟的工序；通过在所述沟内注入光透过区域形成材料并使其固化而形成光透过区域的工序；和通过对研磨层的研磨表面一侧进行抛光而使所述光透过区域在研磨表面露出的工序。
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